本申請涉及微電子,特別是涉及mems電容式壓力傳感器及其制備方法。
背景技術(shù):
1、社會生產(chǎn)對于壓力的監(jiān)控需求十分巨大,對于工業(yè)、汽車等領(lǐng)域尤甚。微機(jī)電系統(tǒng)(mems,micro-electro-mechanical?system)壓力傳感器由于其體積小、性能高、可靠性強(qiáng)、成本低、易于量產(chǎn)、可移植性強(qiáng)等優(yōu)勢得到較好的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,在消費(fèi)電子、工業(yè)測控、航空航天、醫(yī)療器械、汽車制造有廣泛應(yīng)用,是mems傳感器市場化最成功的案例。
2、目前mems壓力傳感器的主流技術(shù)可以分為壓阻式和電容式,壓阻式利用了壓阻效應(yīng),在壓阻材料受到外界壓力時其電阻會發(fā)生改變,從而實(shí)現(xiàn)壓力的檢測;電容式壓力傳感器則由應(yīng)變薄膜組成電容器,壓力改變電容的容值從而實(shí)現(xiàn)壓力的檢測。壓阻式壓力傳感器相對于電容式壓力傳感器具有高線性度的優(yōu)點(diǎn),但是其最大的缺點(diǎn)是溫漂現(xiàn)象,這是因?yàn)閴鹤枋綁毫鞲衅鞯膲好綦娮枋怯晒钃诫s制成,其電阻阻值極易受溫度影響。而電容式壓力傳感器具有功耗低、高靈敏度、優(yōu)秀的溫度特性等優(yōu)點(diǎn),在寬溫度區(qū)間內(nèi)工作時具有較大優(yōu)勢,由于作為電容極板的壓力應(yīng)變薄膜在受壓形變時并非平行靠近另一電容極板,從而導(dǎo)致電容式壓力傳感器的線性度差于壓阻式壓力傳感器。
3、因此,亟待提供一種具有良好線性度的電容式壓力傳感器。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、基于此,有必要針對電容式壓力傳感器的線性度差的問題,提供一種能夠提升電容式壓力傳感器的線性度的mems電容式壓力傳感器及其制備方法。
2、第一方面,本申請?zhí)峁┮环Nmems電容式壓力傳感器,包括:
3、導(dǎo)電襯底;沿所述導(dǎo)電襯底所在平面的方向上,所述壓力傳感器包括空腔區(qū)和環(huán)繞所述空腔區(qū)的邊緣區(qū);
4、第一電極層,形成于所述導(dǎo)電襯底的一側(cè)表面,且位于所述空腔區(qū);所述第一電極層包括多個絕緣設(shè)置的環(huán)形第一電極;
5、壓力應(yīng)變膜片,位于所述第一電極層遠(yuǎn)離所述導(dǎo)電襯底的一側(cè);
6、第二電極層,形成于所述壓力應(yīng)變膜片朝向所述第一電極層的一側(cè),且位于所述空腔區(qū);所述第二電極層包括多個絕緣設(shè)置的環(huán)形第二電極;
7、絕緣層,形成于所述導(dǎo)電襯底和所述壓力應(yīng)變膜片之間,且位于所述邊緣區(qū);
8、沿所述導(dǎo)電襯底所在平面中的中心點(diǎn)指向所述邊緣區(qū)的方向上,所述第一電極和所述第二電極交替且間隔設(shè)置。
9、在其中一個實(shí)施例中,所述空腔區(qū)包括第一空腔區(qū)和圍繞所述第一空腔區(qū)的第二空腔區(qū);
10、所述第一電極和所述第二電極均位于所述第二空腔區(qū)。
11、在其中一個實(shí)施例中,還包括位于所述邊緣區(qū)的第一金屬焊盤和第二金屬焊盤;
12、所述第一金屬焊盤形成于所述壓力應(yīng)變膜片遠(yuǎn)離所述導(dǎo)電襯底的一側(cè),所述第二金屬焊盤形成于所述絕緣層遠(yuǎn)離所述導(dǎo)電襯底的一側(cè),且所述第二金屬焊盤經(jīng)所述絕緣層與所述導(dǎo)電襯底電連接。
13、在其中一個實(shí)施例中,沿所述空腔區(qū)指向所述邊緣區(qū)的方向上,所述第一金屬焊盤和所述第二金屬焊盤分設(shè)于所述空腔區(qū)的兩側(cè)。
14、在其中一個實(shí)施例中,沿所述導(dǎo)電襯底指向所述壓力應(yīng)變膜片的方向上,所述第一電極層的尺寸與所述第二電極層的尺寸之和,小于或等于所述導(dǎo)電襯底和所述壓力應(yīng)變膜片之間的尺寸。
15、在其中一個實(shí)施例中,沿所述導(dǎo)電襯底指向所述壓力應(yīng)變膜片的方向上,所述第一電極的尺寸均相同,且所述第二電極的尺寸均相同。
16、在其中一個實(shí)施例中,所述導(dǎo)電襯底和所述壓力應(yīng)變膜片中的至少一者的制備材料包括低阻硅。
17、在其中一個實(shí)施例中,所述第一電極和所述第二電極中的至少一者的制備材料,包括金和鋁中的至少一者。
18、第二方面,本申請?zhí)峁┮环Nmems電容式壓力傳感器的制備方法,包括:
19、提供導(dǎo)電襯底;沿所述導(dǎo)電襯底所在平面的方向上,所述壓力傳感器包括空腔區(qū)和環(huán)繞所述空腔區(qū)的邊緣區(qū);
20、在所述導(dǎo)電襯底的一側(cè)表面沉積絕緣層;
21、刻蝕所述空腔區(qū)的一部分所述絕緣層,形成多個絕緣設(shè)置的環(huán)形的第一凹槽;
22、在所述第一凹槽中,制備第一電極,以形成第一電極層;
23、刻蝕所述空腔區(qū)的另一部分所述絕緣層;
24、在所述導(dǎo)電襯底朝向所述第一電極層的一側(cè)表面沉積絕緣層;
25、刻蝕所述空腔區(qū)的一部分所述絕緣層,形成多個絕緣設(shè)置的環(huán)形的第二凹槽;沿所述導(dǎo)電襯底所在平面中的中心點(diǎn)指向所述邊緣區(qū)的方向上,所述第一凹槽和所述第二凹槽交替且間隔設(shè)置;
26、在所述第二凹槽中,制備第二電極,以形成第二電極層;
27、在所述第二電極層遠(yuǎn)離所述第一電極層的一側(cè)表面制備壓力應(yīng)變膜片;
28、沿所述壓力應(yīng)變膜片朝向所述導(dǎo)電襯底的方向上,刻蝕所述空腔區(qū)的部分所述壓力應(yīng)變膜片,形成貫穿所述壓力應(yīng)變膜片的刻蝕孔;
29、基于所述刻蝕孔刻蝕所述空腔區(qū)的所述絕緣層,并填補(bǔ)所述刻蝕孔。
30、在其中一個實(shí)施例中,還包括:
31、沿所述壓力應(yīng)變膜片朝向所述導(dǎo)電襯底的方向上,刻蝕所述邊緣區(qū)的部分所述壓力應(yīng)變膜片、以及所述絕緣層,形成貫穿所述壓力應(yīng)變膜片和所述絕緣層的貫穿孔;
32、在所述壓力應(yīng)變膜片遠(yuǎn)離所述導(dǎo)電襯底的一側(cè)表面制備第一金屬焊盤,并在所述貫穿孔所在的所述絕緣層遠(yuǎn)離所述導(dǎo)電襯底的一側(cè)表面制備第二金屬焊盤;所述第二金屬焊盤經(jīng)所述絕緣層所在的所述貫穿孔與所述導(dǎo)電襯底電連接。
33、上述本申請?zhí)峁┑膍ems電容式壓力傳感器及其制備方法中,mems電容式壓力傳感器包括導(dǎo)電襯底;沿導(dǎo)電襯底所在平面的方向上,壓力傳感器包括空腔區(qū)和環(huán)繞空腔區(qū)的邊緣區(qū);第一電極層,形成于導(dǎo)電襯底的一側(cè)表面,且位于空腔區(qū);第一電極層包括多個絕緣設(shè)置的環(huán)形第一電極;壓力應(yīng)變膜片,位于第一電極層遠(yuǎn)離導(dǎo)電襯底的一側(cè);第二電極層,形成于壓力應(yīng)變膜片朝向第一電極層的一側(cè),且位于空腔區(qū);第二電極層包括多個絕緣設(shè)置的環(huán)形第二電極;絕緣層,形成于導(dǎo)電襯底和壓力應(yīng)變膜片之間,且位于邊緣區(qū);沿導(dǎo)電襯底所在平面中的中心點(diǎn)指向邊緣區(qū)的方向上,第一電極和第二電極交替且間隔設(shè)置;可見,本申請通過設(shè)置多個環(huán)形第一電極和多個環(huán)形第二電極,在沿導(dǎo)電襯底所在平面的方向上交替設(shè)置,有利于增加基于導(dǎo)電襯底和第一電極組成的電容極板、以及基于壓力應(yīng)變膜片和第二電極組成的電容極板之間的有效面積,有利于增加壓力傳感器的整體靈敏度;且第一電極和第二電極在導(dǎo)電襯底所在平面的方向上間隔設(shè)置,有利于避免壓力施加在壓力應(yīng)變膜片的表面時,第一電極和第二電極誤接觸的情況,從而有利于提升電容式壓力傳感器的線性度,提升電容式傳感器的壓力檢測準(zhǔn)確度。
1.一種mems電容式壓力傳感器,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的mems電容式壓力傳感器,其特征在于,
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的mems電容式壓力傳感器,其特征在于,
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的mems電容式壓力傳感器,其特征在于,
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的mems電容式壓力傳感器,其特征在于,
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的mems電容式壓力傳感器,其特征在于,
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的mems電容式壓力傳感器,其特征在于,
8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的mems電容式壓力傳感器,其特征在于,
9.一種mems電容式壓力傳感器的制備方法,其特征在于,包括:
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的mems電容式壓力傳感器的制備方法,其特征在于,還包括: