本發(fā)明涉及一種用于在使用折射測(cè)定法的情況下確定流體、如冷卻潤(rùn)滑劑或hfc液中的成分的濃度的方法。

背景技術(shù)：

1、由de102010028319a1已知一種用于控制機(jī)床的混有水的冷卻潤(rùn)滑劑的濃度的方法連同配屬的設(shè)備，其不僅用于通過折射測(cè)定法測(cè)量混有水的冷卻潤(rùn)滑劑的折射率而且用于測(cè)量混有水的冷卻潤(rùn)滑劑的導(dǎo)電率并且用于將兩個(gè)測(cè)量的所獲得的值組合成一個(gè)控制參量，在控制參量不同于額定值時(shí)對(duì)水和/或冷卻潤(rùn)滑劑進(jìn)行補(bǔ)給。為了確定混有水的冷卻潤(rùn)滑劑的折射率，在所述設(shè)備中使用數(shù)字折射測(cè)定法，其具有l(wèi)ed作為光源并且具有ccd傳感器作為探測(cè)器。

2、

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、從現(xiàn)有技術(shù)出發(fā)，本發(fā)明的目的在于，提供一種相對(duì)改進(jìn)的測(cè)量方法，利用該測(cè)量方法能夠補(bǔ)償在測(cè)量時(shí)的多個(gè)可能出現(xiàn)的干擾參量。

2、一種具有權(quán)利要求1所述特征的測(cè)量方法在其整體上解決所述目的。

3、根據(jù)本發(fā)明的方法對(duì)于折射測(cè)定法使用測(cè)量設(shè)備的激光器，該測(cè)量設(shè)備根據(jù)透射原理工作，所述方法至少實(shí)施以下方法步驟：

4、-通過使用要均勻透光的流體預(yù)定用于所述光電二極管陣列上的通過折射接收的激光的峰值，并且

5、-在使用評(píng)估裝置的情況下通過匹配

6、-所述激光器的占空比和/或

7、-用于所述激光器的電流強(qiáng)度和/或

8、-所述光電二極管陣列的靈敏度

9、使得盡管出現(xiàn)干擾參量也保持所述峰值恒定。

10、如此，即使在所述測(cè)量期間出現(xiàn)不同干擾參量時(shí)仍能較可靠地確定流體中的濃度，使用的激光器允許準(zhǔn)直、即對(duì)否則發(fā)散的激光射束的平行定向，這在通常由光電二極管陣列構(gòu)成的傳感器裝置方面引起改進(jìn)的測(cè)量值分辨率，該光電二極管陣列專業(yè)術(shù)語(yǔ)也稱為“diodearray”。

11、在根據(jù)本發(fā)明的方法的范疇內(nèi)，這樣的干擾可以由流體的濁度構(gòu)成，該濁度導(dǎo)致光電二極管陣列上的所接收的激光的峰值的強(qiáng)度損失。另外的可能的干擾參量由精細(xì)分散的顆粒污物構(gòu)成，所述顆粒污物通過激光散射在光電二極管陣列上形成，以導(dǎo)致經(jīng)扇形散開的寬的強(qiáng)度升高。另外的干擾參量由較大的顆?；驓馀輼?gòu)成，所述顆?；蛩鰵馀菰谝獪y(cè)量的流體中與所述流體一起運(yùn)動(dòng)并且導(dǎo)致在所述光電二極管陣列上短暫出現(xiàn)測(cè)量值峰值，所述顆粒或所述氣泡的測(cè)量值小于在通過均質(zhì)流體折射時(shí)測(cè)量的峰值。

12、另外的干擾參量由樣品腔的能透過激光的壁上的污物構(gòu)成，所述方法利用所述壁實(shí)施并且流體沿著所述壁流過，所述壁和所述污物由所述激光共同穿過，所述污物由所述光電二極管陣列通過相對(duì)于在常見折射時(shí)的經(jīng)調(diào)整的峰值的位移偏差來探測(cè)。

13、與相應(yīng)出現(xiàn)的干擾參量無關(guān)，所述干擾參量能夠利用根據(jù)本發(fā)明的測(cè)量方法可靠地檢測(cè)并且借助如前所述那樣實(shí)施所述方法進(jìn)行補(bǔ)償。

14、在根據(jù)本發(fā)明的方法的另一種優(yōu)選實(shí)施方式中規(guī)定：對(duì)于利用所述測(cè)量設(shè)備的測(cè)量運(yùn)行，在使用參考流體的情況下將所述測(cè)量設(shè)備校準(zhǔn)到能預(yù)定的折射率值上。在此，優(yōu)選為了校準(zhǔn)使用參考流體、如水，所述流體的折射值特性是了解的。

15、在根據(jù)本發(fā)明的方法的另一種優(yōu)選實(shí)施方式中規(guī)定：在所述測(cè)量設(shè)備的清洗運(yùn)行中，利用所述參考流體對(duì)所述樣品腔進(jìn)行清洗，在相應(yīng)的折射率值的實(shí)際值與額定值之間進(jìn)行比較，并且考慮所述校準(zhǔn)中的可能的偏差，在偏差過大時(shí)輸出錯(cuò)誤報(bào)告。如此，可以共同進(jìn)行校準(zhǔn)與測(cè)量設(shè)備的清洗運(yùn)行。

16、在根據(jù)本發(fā)明的方法的另一種優(yōu)選實(shí)施方式中規(guī)定：所述測(cè)量設(shè)備由上一級(jí)的評(píng)估裝置監(jiān)控，所述評(píng)估裝置優(yōu)選除了測(cè)量值檢測(cè)之外也進(jìn)行控制和/或調(diào)節(jié)任務(wù)，所述評(píng)估裝置評(píng)估外部所連接的附加測(cè)量設(shè)備的測(cè)量數(shù)據(jù)，如溫度、壓力、粘度、導(dǎo)電率、ph值等，并且根據(jù)所獲得的測(cè)量數(shù)據(jù)操控外部的致動(dòng)器，如液壓泵、閥、液位開關(guān)等。如此，能實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步自動(dòng)化的測(cè)量方法運(yùn)行，并且能夠?qū)⒑芏喔郊拥谋O(jiān)測(cè)任務(wù)包含到對(duì)作為消耗器的加工機(jī)器的操控中。

17、優(yōu)選地，為此規(guī)定：將所述測(cè)量設(shè)備連接到為液壓消耗器供應(yīng)流體的液壓供應(yīng)回路的旁路中，所述測(cè)量設(shè)備借助于閥操控系統(tǒng)接入到所述供應(yīng)回路中或者與所述供應(yīng)回路分離。如此，原本的測(cè)量方法可以利用相應(yīng)的測(cè)量設(shè)備與連接到供應(yīng)回路上的消耗器的流體供應(yīng)分離，這有助于簡(jiǎn)化對(duì)維護(hù)工作的實(shí)施。

18、特別是根據(jù)本發(fā)明的方法以有利的方式具有如下特征：借助于供應(yīng)裝置在所述流體中缺乏濃縮物時(shí)在監(jiān)測(cè)所述測(cè)量設(shè)備的情況下將所述濃縮物供應(yīng)到流體的供應(yīng)回路中。

技術(shù)特征：

1.用于在使用折射測(cè)定法的情況下借助于測(cè)量設(shè)備的激光器（22）根據(jù)透射光原理來確定流體、如冷卻潤(rùn)滑劑或hfc液中的成分的濃度的方法，所述方法至少包括以下方法步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述干擾參量由流體的濁度構(gòu)成，所述濁度導(dǎo)致所述光電二極管陣列（46）上的所接收的激光峰值的強(qiáng)度損失。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述干擾參量由精細(xì)分散的顆粒污物構(gòu)成，所述顆粒污物通過激光散射在所述光電二極管陣列（46）上形成，以導(dǎo)致寬的強(qiáng)度升高。

4.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述干擾參量由較大的顆粒（74）或氣泡構(gòu)成，所述顆?；蛩鰵馀菰谝獪y(cè)量的流體中與所述流體一起運(yùn)動(dòng)并且導(dǎo)致在所述光電二極管陣列（46）上短暫出現(xiàn)測(cè)量值峰值，所述顆?；蛩鰵馀莸臏y(cè)量值小于在通過均質(zhì)流體折射時(shí)測(cè)量的峰值。

5.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述干擾參量由樣品腔（10）的能透過激光的壁（18）上的污物構(gòu)成，所述流體沿著所述壁流過，所述壁和所述污物由激光共同穿過，所述污物由所述光電二極管陣列（46）通過相對(duì)于在常見折射時(shí)的經(jīng)調(diào)整的峰值的位移偏差（δx）來探測(cè)。

6.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，對(duì)于利用所述測(cè)量設(shè)備的測(cè)量運(yùn)行，在使用參考流體的情況下將所述測(cè)量設(shè)備校準(zhǔn)到能預(yù)定的折射率值（brix）上。

7.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在所述測(cè)量設(shè)備的清洗運(yùn)行中，利用所述參考流體對(duì)所述樣品腔（10）進(jìn)行清洗，在相應(yīng)的折射率值（brix）的實(shí)際值與額定值之間進(jìn)行比較，并且考慮所述校準(zhǔn)中的可能的偏差，在偏差過大時(shí)輸出錯(cuò)誤報(bào)告。

8.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述測(cè)量設(shè)備由上一級(jí)的評(píng)估裝置（59）監(jiān)控，所述評(píng)估裝置評(píng)估外部所連接的附加測(cè)量設(shè)備（38）的測(cè)量數(shù)據(jù)，如溫度、壓力、粘性、導(dǎo)電率、ph值等，并且根據(jù)所獲得的測(cè)量數(shù)據(jù)操控外部的致動(dòng)器，如液壓泵（p1、p2）、閥（v1、v2、v3、v4）、液位開關(guān)（62）等。

9.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，將所述測(cè)量設(shè)備連接到對(duì)液壓消耗器（bm）供應(yīng)流體的液壓的供應(yīng)回路（16）的旁路中，所述測(cè)量設(shè)備借助于閥操控系統(tǒng)（v1、v2）接入到所述供應(yīng)回路（16）中或者與所述供應(yīng)回路分離。

10.根據(jù)上述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在所述流體中缺乏濃縮物時(shí)借助于供應(yīng)裝置（p2、cm3）將所述濃縮物輸入到流體的供應(yīng)回路（16）中。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種用于在使用折射測(cè)定法的情況下借助于測(cè)量設(shè)備的激光器（22）根據(jù)透射光原理來確定流體、如冷卻潤(rùn)滑劑或HFC液中的成分的濃度的方法，所述方法至少包括以下方法步驟：在使用要均勻透光的流體的情況下預(yù)定用于光電二極管陣列（46）上的通過折射接收的激光的峰值，并且在使用評(píng)估裝置（59）的情況下通過匹配所述激光器（22）的占空比和/或用于所述激光器（22）的電流強(qiáng)度和/或所述光電二極管陣列（46）的靈敏度使得盡管出現(xiàn)干擾參量也保持所述峰值恒定。

技術(shù)研發(fā)人員：J·斯特芬斯基,T·布萊,P·格茨
受保護(hù)的技術(shù)使用者：HYDAC過濾系統(tǒng)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/9