本發(fā)明涉及真空磁控鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種靶材余量測量裝置。

背景技術(shù)：

在薄膜晶體管(tft)及液晶顯示器制造領(lǐng)域，經(jīng)常采用物理氣相沉積技術(shù)，該技術(shù)工藝一般是利用磁控濺射設(shè)備通過氬(ar)原子轟擊靶材使靶材粒子沉積在基板表面以達(dá)到沉積成膜的目的。立式磁控濺射設(shè)備是目前比較常用的一種磁控濺射設(shè)備；其靶材后方的磁鐵可以一定程度上提高靶材的利用率，但是，由于其磁鐵的移動(dòng)會(huì)在靶材表面形成凹凸不平的刻蝕曲線，而當(dāng)刻蝕最深處超過靶材厚度時(shí)，會(huì)導(dǎo)致靶材擊穿而無法使用，因此確定殘靶刻蝕剩余量、并根據(jù)殘靶刻蝕剩余量來相應(yīng)調(diào)整靶材使用周期，對于提高靶材的使用效率、提升產(chǎn)品的良率具有積極意義；上述殘靶刻蝕剩余量是指使用過的靶材被消耗最多處剩余靶材的厚度。

如圖1所示，傳統(tǒng)的殘靶刻蝕量測量工具是利用具有高摩擦系數(shù)的排針100模擬靶材刻蝕曲線；具體操作時(shí)，需以一定的作用力將排針100垂直于靶材表面壓向靶材，當(dāng)排針100從被測靶材上移開時(shí)，會(huì)保留模擬的靶材刻蝕曲線，再在坐標(biāo)紙上沿排針100的走向畫出被排針100模擬出的刻蝕曲線，最后利用坐標(biāo)紙讀出靶材最小剩余量。利用上述殘靶刻蝕量測量工具進(jìn)行測量，步驟繁瑣，耗時(shí)長，并且，上述殘靶刻蝕量測量工具在長時(shí)間使用后，其排針100摩擦系數(shù)會(huì)降低，進(jìn)而經(jīng)常會(huì)有排針100掉落，從而導(dǎo)致排針100數(shù)目過少，進(jìn)而導(dǎo)致模擬的刻蝕曲線不夠準(zhǔn)確；另外，由于需要在坐標(biāo)紙上用筆畫出模擬刻蝕曲線進(jìn)行讀數(shù)，因此，筆尖本身的厚度、筆尖與坐標(biāo)紙不能保證實(shí)時(shí)垂直以及畫線過程中筆尖與排針100接觸導(dǎo)致排針100移動(dòng)等情況，均會(huì)導(dǎo)致較大的測量誤差；綜上，上述殘靶刻蝕量測量工具的測量步驟繁瑣，且測量結(jié)果誤差較大，進(jìn)而容易造成因把控刻蝕量不準(zhǔn)確造成的靶材擊穿或靶材浪費(fèi)現(xiàn)象。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明公開了一種靶材余量測量裝置，用于解決殘靶刻蝕量測量的步驟繁瑣且誤差較大的問題。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案：

一種靶材余量測量裝置，包括：

主體結(jié)構(gòu)，設(shè)有沿第一方向依次排列的多個(gè)測量軌道；每個(gè)測量軌道沿第二方向延伸，所述第二方向垂直于所述第一方向；

多個(gè)頂針，與所述多個(gè)測量軌道一一對應(yīng)；每個(gè)頂針沿第二方向延伸，且第一端限位于與其對應(yīng)的測量軌道內(nèi)、且限位于與所述測量軌道相對應(yīng)的頂針的第一端一側(cè)；每個(gè)頂針可沿與其對應(yīng)的測量軌道自由移動(dòng)、且可部分伸出所述測量軌道；

多個(gè)滑塊，與所述多個(gè)測量軌道一一對應(yīng)；每個(gè)滑塊可沿與其對應(yīng)的測量軌道滑動(dòng)地設(shè)置于所述測量軌道內(nèi)；每個(gè)滑塊與所述測量軌道之間的靜摩擦力大于其自身重力；

一主尺，設(shè)置于所述主體結(jié)構(gòu)上，且設(shè)有沿第二方向排列的刻度線。

上述靶材余量測量裝置可以具有如下操作步驟：

首先，將該靶材余量測量裝置垂直置于待測殘靶上方，具體地，將頂針可伸出測量軌道的一端、即頂針的第二端(與第一端相對)朝向殘靶表面設(shè)置；由于每個(gè)頂針可沿與其對應(yīng)的測量軌道自由移動(dòng)、且其第一端被限位于測量軌道內(nèi)，進(jìn)而此時(shí)，由于重力作用，每個(gè)頂針將部分伸出測量軌道外、且不會(huì)脫離測量軌道；隨后，將每個(gè)測量軌道中的滑塊調(diào)至與頂針的第一端接觸；

然后，豎直向下慢慢移動(dòng)該裝置至頂針伸出測量軌道外的第二端與殘靶表面接觸，并對該靶材余量測量裝置向下施加壓力，以使每個(gè)頂針可以沿測量軌道相對向上移動(dòng)，進(jìn)而，每個(gè)頂針的第一端可以將與其對應(yīng)的測量軌道內(nèi)的滑塊頂起；由于每個(gè)頂針沿測量軌道向上的移動(dòng)距離與靶材表面高度的分布相對應(yīng)，進(jìn)而，多個(gè)頂針的第一端會(huì)沿著靶材的刻蝕曲線分布，即被頂針第一端頂起的滑塊也是沿著靶材的刻蝕曲線進(jìn)行分布；

最后，可以將該裝置從殘靶上拿開，此時(shí)頂針會(huì)因重力作用而回到初始位置，而每個(gè)滑塊則會(huì)由于與測量軌道之間的靜摩擦力的作用而保持不動(dòng)，即此時(shí)多個(gè)滑塊將仍然沿著靶材的刻蝕曲線進(jìn)行分布；進(jìn)而此時(shí)，可以通過安裝于主體結(jié)構(gòu)上的主尺讀出位于最下端的滑塊所對應(yīng)的刻度數(shù)，并可以根據(jù)該刻度數(shù)獲得靶材刻蝕剩余量的最小值。

上述殘靶刻蝕量測量的步驟很簡單，且不存在頂針缺失、或者人工繪畫刻蝕曲線而導(dǎo)致的測量結(jié)構(gòu)誤差較大等問題，測量結(jié)果比較精確。

優(yōu)選地，所述靶材余量測量裝置還包括：一對位尺，沿第一方向延伸，且可沿第二方向滑動(dòng)地安裝于所述主尺上。

優(yōu)選地，所述靶材余量測量裝置還包括：一歸位尺，沿第一方向延伸，且可沿多個(gè)測量軌道滑動(dòng)地安裝于所述主體結(jié)構(gòu)上，所述歸位尺設(shè)置于所述多個(gè)滑塊背離所述多個(gè)頂針的一側(cè)；當(dāng)所述歸位尺沿多個(gè)測量軌道滑動(dòng)時(shí)，可推動(dòng)每個(gè)測量軌道內(nèi)的滑塊朝向頂針移動(dòng)。

優(yōu)選地，所述主體結(jié)構(gòu)上設(shè)有允許所述歸位尺沿所述多個(gè)測量軌道滑動(dòng)的軌道縫隙；所述歸位尺可沿所述軌道縫隙滑動(dòng)、以推動(dòng)每個(gè)測量軌道內(nèi)的滑塊朝向頂針移動(dòng)。

優(yōu)選地，所述靶材余量測量裝置還包括：用于驅(qū)動(dòng)所述對位尺沿第二方向滑動(dòng)的第一調(diào)節(jié)鈕；和/或，用于驅(qū)動(dòng)所述歸位尺沿所述多個(gè)測量軌道滑動(dòng)的第二調(diào)節(jié)鈕。

優(yōu)選地，所述靶材余量測量裝置還包括：兩個(gè)限位柱，所述兩個(gè)限位柱分別設(shè)置于所述主體結(jié)構(gòu)沿第一方向上的兩端；每個(gè)限位柱沿第二方向延伸、且可沿第二方向滑動(dòng)地安裝于所述主體結(jié)構(gòu)上；兩個(gè)鎖定機(jī)構(gòu)，與所述兩個(gè)限位柱一一對應(yīng)，每個(gè)鎖定機(jī)構(gòu)用于將與其對應(yīng)的限位柱與所述主體結(jié)構(gòu)之間相對固定。

優(yōu)選地，所述主尺可沿第二方向滑動(dòng)地安裝于所述主體結(jié)構(gòu)上。

優(yōu)選地，所述靶材余量測量裝置還包括固定安裝于所述主體結(jié)構(gòu)上、用于把持的握柄。

優(yōu)選地，每個(gè)測量軌道包括軌道部和位于所述軌道部一端的端部，所述端部設(shè)有允許所述頂針部分伸出所述測量軌道的開口。

優(yōu)選地，每個(gè)頂針包括桿部和形成所述頂針的第一端的頭部；所述頭部的徑向尺寸大于所述測量軌道的端部開口的徑向尺寸、且小于所述測量軌道的軌道部的內(nèi)徑尺寸；所述桿部的徑向尺寸小于所述測量軌道的端部開口的徑向尺寸。

優(yōu)選地，所述頂針的桿部徑向尺寸小于等于0.4mm；所述測量軌道的端部開口的徑向尺寸小于等于0.5mm。

附圖說明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)的靶材余量測量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種靶材余量測量裝置在所有頂針和滑塊都?xì)w位的狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種靶材余量測量裝置在測量狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種靶材余量測量裝置在測量后讀數(shù)狀態(tài)下的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種靶材余量測量裝置在將滑塊歸位過程中的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種靶材余量測量裝置中每個(gè)測量軌道和與其對應(yīng)的頂針以及滑塊之間的配合結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種靶材余量測量裝置中多個(gè)測量軌道與歸位尺之間的配合結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請參考圖2～圖7。

如圖2～圖5所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的一種靶材余量測量裝置，包括：

主體結(jié)構(gòu)1，該主體結(jié)構(gòu)1內(nèi)設(shè)有沿第一方向x依次排列的多個(gè)測量軌道10；每個(gè)測量軌道10沿第二方向y延伸，該第二方向y垂直于第一方向x；

多個(gè)頂針2，與多個(gè)測量軌道10一一對應(yīng)；每個(gè)頂針2沿第二方向y延伸，且其第一端限位于與其對應(yīng)的測量軌道10內(nèi)；并且，每個(gè)頂針2可沿與其對應(yīng)的測量軌道10自由移動(dòng)，而且部分可伸出測量軌道10外；

多個(gè)滑塊3，與多個(gè)測量軌道10一一對應(yīng)；每個(gè)滑塊3可沿與其對應(yīng)的測量軌道10滑動(dòng)地設(shè)置于該測量軌道10內(nèi)、且具體限位于與該測量軌道10相對應(yīng)的頂針2的第一端一側(cè)；每個(gè)滑塊3和與其對應(yīng)的測量軌道10之間的靜摩擦力大于其自身重力；

一主尺4，設(shè)置于主體結(jié)構(gòu)1上，且設(shè)有沿第二方向y排列的刻度線。

上述靶材余量測量裝置可以具有如下操作步驟：

首先，如圖2所示，將該靶材余量測量裝置垂直置于待測殘靶上方，具體地，將頂針2可伸出測量軌道10的一端、即頂針2的第二端(與第一端相對)朝向殘靶表面設(shè)置；由于每個(gè)頂針2可沿與其對應(yīng)的測量軌道10自由移動(dòng)、且其第一端被限位于測量軌道10內(nèi)，進(jìn)而此時(shí)，由于重力作用，每個(gè)頂針2將部分伸出測量軌道10外、且不會(huì)脫離測量軌道10；隨后，將每個(gè)測量軌道10中的滑塊3調(diào)至與頂針2的第一端接觸；

然后，如圖3所示，豎直向下慢慢移動(dòng)該裝置直至頂針2伸出測量軌道10外的第二端與殘靶表面接觸，并對該靶材余量測量裝置向下施加壓力，以使每個(gè)頂針2可以沿測量軌道10相對向上移動(dòng)，進(jìn)而，每個(gè)頂針2的第一端可以將與其對應(yīng)的測量軌道10中的滑塊3頂起；由于每個(gè)頂針2沿測量軌道10向上的移動(dòng)距離與靶材表面高度的分布相對應(yīng)，進(jìn)而，多個(gè)頂針2的第一端會(huì)沿著靶材的刻蝕曲線分布，即被頂針2第一端頂起的滑塊3也是沿著靶材的刻蝕曲線進(jìn)行分布；

最后，如圖4所示，可以將該裝置從殘靶上拿開，此時(shí)頂針2會(huì)因重力作用而歸位(即部分伸出測量軌道10外、且不會(huì)脫離測量軌道10的狀態(tài))，而每個(gè)滑塊3則會(huì)由于與測量軌道10之間的靜摩擦力的作用而保持不動(dòng)，即此時(shí)多個(gè)滑塊3將仍然沿著靶材的刻蝕曲線進(jìn)行分布；進(jìn)而此時(shí)，可以通過安裝于主體結(jié)構(gòu)1上的主尺4讀出位于最下端的滑塊3所對應(yīng)的刻度數(shù)，并可以根據(jù)該刻度數(shù)獲得靶材刻蝕剩余量的最小值。

上述殘靶刻蝕量測量的步驟很簡單，且不存在頂針2缺失、或者人工繪畫刻蝕曲線而導(dǎo)致的測量結(jié)構(gòu)誤差較大等問題，測量結(jié)果比較精確。

如圖2～圖5所示，一種具體的實(shí)施例中，主體結(jié)構(gòu)1可以為沿第一方向x和第二方向y延展的板狀結(jié)構(gòu)；

進(jìn)一步地，主尺4也為沿第一方向x和第二方向y延展的板狀結(jié)構(gòu)、且與主體結(jié)構(gòu)1并行設(shè)置；

可選地，主體結(jié)構(gòu)1與主尺4可以通過透明膠粘合固定。

具體地，主體結(jié)構(gòu)1采用透明材料制備，以便于觀察測量軌道10內(nèi)的滑塊3和讀取滑塊3所對應(yīng)的刻度數(shù)；

可選地，主尺4也可以采用透明材料制備，以便于從主體結(jié)構(gòu)1或主尺4中的任一側(cè)都可以觀察測量軌道10內(nèi)的滑塊3和讀取滑塊3所對應(yīng)的刻度數(shù)。

如圖6所示，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，每個(gè)測量軌道10包括軌道部11和位于軌道部11一端的端部12，該端部12對應(yīng)于頂針2的第二端，且該端部12設(shè)有允許頂針2伸出該測量軌道10的開口120。

優(yōu)選地，測量軌道10的軌道部11內(nèi)徑a小于等于1mm。

進(jìn)一步優(yōu)選地，測量軌道10的端部12開口120的直徑b小于等于0.5mm。

如圖6所示，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，每個(gè)頂針2包括桿部21和位于桿部21一端的頭部22，該頭部22形成頂針2的第一端；其中，頭部22的直徑c大于測量軌道10的端部12開口120的直徑b、且小于測量軌道10的軌道部11內(nèi)徑a；桿部21的直徑d小于測量軌道10的端部12開口120的直徑b。

優(yōu)選地，頂針2的桿部21直徑d小于等于0.4mm；頂針2的頭部22直徑c大于0.5mm且小于1mm。

如圖2～圖6所示，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，每個(gè)滑塊3和與其對應(yīng)的測量軌道10之間為過盈配合，且滑塊3為高摩擦系數(shù)設(shè)計(jì)，以保證當(dāng)頂針2下落時(shí)、滑塊3不會(huì)隨著頂針2的下落而回落。

如圖2～圖5所示，在上述各實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材余量測量裝置還可以包括一對位尺5；具體地，該對位尺5沿第一方向x延伸，且可沿第二方向y滑動(dòng)地安裝于主尺4或者主體結(jié)構(gòu)1上。

如圖4所示，在讀取滑塊3所對應(yīng)的刻度數(shù)時(shí)，可以通過沿第二方向y移動(dòng)該對位尺5、使其與滑塊3對齊，進(jìn)而查看該對位尺5所對齊的主尺4刻度、從而獲得滑塊3的讀數(shù)，上述方式可以保證讀數(shù)的精準(zhǔn)性，進(jìn)而進(jìn)一步保證測量結(jié)果的精確性。

如圖2～圖5、圖7所示，在上述各實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材余量測量裝置還可以包括一歸位尺6；具體地，該歸位尺6沿第一方向x延伸，且可沿多個(gè)測量軌道10滑動(dòng)地安裝于主體結(jié)構(gòu)1上；該歸位尺6設(shè)置于多個(gè)滑塊3背離多個(gè)頂針2的一側(cè)，當(dāng)其沿多個(gè)測量軌道10滑動(dòng)時(shí)，可推動(dòng)每個(gè)測量軌道10內(nèi)的滑塊3朝向頂針2移動(dòng)，以將每個(gè)測量軌道10內(nèi)的滑塊3歸位。

如圖5所示，具體地，在測量結(jié)束后，可以通過調(diào)節(jié)歸位尺6將每個(gè)滑塊3歸位，即將每個(gè)滑塊3推至測量軌道10的端部12、并與頂針2的第一端接觸，以便于下次使用；此時(shí)，每個(gè)測量軌道10內(nèi)的滑塊3和頂針2的第一端都位于測量軌道10的端部12，即每個(gè)測量軌道10內(nèi)的滑塊3和頂針2都處于歸位狀態(tài)。

如圖7所示，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，歸位尺6可沿多個(gè)測量軌道10滑動(dòng)地安裝于主體結(jié)構(gòu)1上，可以采用下述方式實(shí)現(xiàn)：主體結(jié)構(gòu)1上設(shè)有軌道縫隙13，該軌道縫隙13沿多個(gè)測量軌道10延伸，且使每相鄰的兩個(gè)測量軌道10之間相連通，進(jìn)而，歸位尺6可通過該軌道縫隙13穿過每個(gè)測量軌道10；且，歸位尺6可沿多個(gè)測量軌道10之間的軌道縫隙13滑動(dòng)，并推動(dòng)每個(gè)測量軌道10內(nèi)的滑塊3朝向頂針2移動(dòng)。

如圖2～圖5所示，在上述各實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材余量測量裝置還可以包括兩個(gè)限位柱7；具體地，該兩個(gè)限位柱7分別設(shè)置于主體結(jié)構(gòu)1沿第一方向x上的兩端、且每個(gè)限位柱7沿第二方向y延伸；即，該兩個(gè)限位柱7分別位于多個(gè)測量軌道10的首尾兩側(cè)，且與頂針2并行設(shè)置；

進(jìn)一步地，該兩個(gè)限位柱7相對于多個(gè)測量軌道10的端部12伸出設(shè)定長度，該設(shè)定長度與每個(gè)頂針2在重力作用下自然伸出測量軌道10外的長度相同；即該兩個(gè)限位柱7相對于多個(gè)測量軌道10伸出的一端，與每個(gè)頂針2的第二端在重力作用下伸出測量軌道10外時(shí)的位置水平對齊；進(jìn)而，測量時(shí)，將本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材余量測量裝置向靶材按壓至限位柱7接觸靶材的銅背板時(shí)，即可以停止施力并可以將裝置拿起；因?yàn)榇藭r(shí)，即可以保證所有頂針2都已與靶材刻蝕表面充分接觸，即所有頂針2已成功模擬了靶材的刻蝕曲線分布情況；因此，通過上述兩個(gè)限位柱7的定位，可以使測量操作過程更加便捷，且可以提高測量效率。

當(dāng)然，為了保證限位柱7能夠接觸到靶材的銅背板，該兩個(gè)限位柱7相對于多個(gè)測量軌道10的端部12伸出的設(shè)定長度，需大于等于靶材的初始厚度，具體地，靶材初始厚度數(shù)據(jù)在每一套靶材的技術(shù)報(bào)告中會(huì)有體現(xiàn)，在上機(jī)前，也會(huì)對每套靶材的初始厚度進(jìn)行復(fù)量。

如圖2～圖5所示，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，可選地，每個(gè)限位柱7可沿第二方向y滑動(dòng)地安裝于主體結(jié)構(gòu)1上，即，每個(gè)限位柱7可沿其延伸方向相對于主體結(jié)構(gòu)1伸縮調(diào)節(jié)；

進(jìn)一步地，本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材余量測量裝置還可以包括與兩個(gè)限位柱7一一對應(yīng)的兩個(gè)鎖定機(jī)構(gòu)，每個(gè)鎖定機(jī)構(gòu)可以用于將與其對應(yīng)的限位柱7與主體結(jié)構(gòu)1之間鎖定。

根據(jù)上述設(shè)置，本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材余量測量裝置在不用時(shí)，其兩個(gè)限位柱7相對于測量軌道10端部12伸出的部分可以縮回收起，其頂針2也可以都縮回至各自的測量軌道10內(nèi)，從而整個(gè)裝置的體積大大縮小，便于存放；

如圖2所示，在使用該裝置進(jìn)行測量前，可以先將裝置垂直放置、以使所有頂針2在重力作用下自然伸出其測量軌道10，并通過歸位尺6將滑塊3歸位；或者，直接通過歸位尺6將滑塊3和頂針2一起歸位(需要說明的是，頂針2歸位的狀態(tài)與頂針2在裝置垂直放置時(shí)的狀態(tài)相同，即都是，部分伸出測量軌道10，且第一端被測量軌道10的端部12限位從而不會(huì)脫離測量軌道10)；然后，調(diào)節(jié)兩個(gè)限位柱7沿第二方向y滑動(dòng)、以使其相對于測量軌道10端部12伸出的一端與頂針2伸出測量軌道10的一端(第二端)水平對齊，進(jìn)而再進(jìn)行測量操作。

如圖2～圖5所示，在上述各實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材余量測量裝置還可以包括：

用于驅(qū)動(dòng)對位尺5相對于主尺4沿第二方向y滑動(dòng)的第一調(diào)節(jié)鈕51；和/或，

用于驅(qū)動(dòng)歸位尺6沿多個(gè)測量軌道10滑動(dòng)的第二調(diào)節(jié)鈕61；和/或，

用于驅(qū)動(dòng)兩個(gè)限位柱7分別相對于主體結(jié)構(gòu)1沿第二方向y伸縮滑動(dòng)的第三調(diào)節(jié)鈕。

可選地，上述第一調(diào)節(jié)鈕51、第二調(diào)節(jié)鈕61和第三調(diào)節(jié)鈕可以設(shè)置于主尺4和多個(gè)測量軌道10的側(cè)邊緣。

如圖2～圖5所示，在上述各實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材余量測量裝置中，主尺4可沿第二方向y滑動(dòng)地安裝于主體結(jié)構(gòu)1上；進(jìn)而，在采用本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材余量測量裝置進(jìn)行測量前，可以先利用歸位尺6將所有滑塊3歸位，然后移動(dòng)主尺4、以使其零刻線與所有滑塊3對齊，以實(shí)現(xiàn)所有滑塊3的讀數(shù)歸零；進(jìn)而，在讀數(shù)時(shí)即可以通過主尺4上的讀數(shù)直接獲得殘靶刻蝕余量信息，即可以直接讀出殘靶刻蝕余量。

如圖2～圖5所示，在上述各實(shí)施例的基礎(chǔ)上，一種具體的實(shí)施例中，本發(fā)明實(shí)施例提供的靶材余量測量裝置還可以包括固定安裝于主體結(jié)構(gòu)1上、便于用戶把持的握柄8。可選地，該握柄8安裝于多個(gè)測量軌道10遠(yuǎn)離端部12的一端，且該握柄8沿第一方向x延伸。

需要說明的是，根據(jù)殘靶余量測量的原理可知，每次測量中，所有滑塊的測量操作條件需要保持一致，因此，上述多個(gè)測量軌道的端部都需要沿第一方向一致對齊；多個(gè)頂針的長度也都完全一致；并且，每個(gè)測量軌道和與其對應(yīng)的頂針、滑塊之間的配合設(shè)置情況也都完全一致。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。