本發(fā)明涉及化學(xué)機(jī)械平坦化技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法和處理系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

化學(xué)機(jī)械平坦化(Chemical Mechanical Planarization，簡(jiǎn)稱(chēng)CMP)技術(shù)是當(dāng)今有效的全局平坦化方法。CMP利用化學(xué)腐蝕和機(jī)械磨削的協(xié)同作用，可以有效兼顧晶圓局部和全局平坦度，并已在超大規(guī)模集成電路制造中得到了廣泛應(yīng)用。在CMP工藝過(guò)程中，需要精確控制材料的去除量。若不能實(shí)現(xiàn)有效的監(jiān)控，將無(wú)法避免晶圓“過(guò)拋”或者“欠拋”等情況的出現(xiàn)。

對(duì)于金屬CMP工藝，如何在工藝過(guò)程中實(shí)現(xiàn)晶圓表面金屬層厚度的實(shí)時(shí)測(cè)量一直是CMP設(shè)備研發(fā)的關(guān)注重點(diǎn)。電渦流方法是一種低成本的非接觸式測(cè)量方法，具有較大的測(cè)量范圍和較高的測(cè)量精度，并在CMP工藝過(guò)程中不受其他非導(dǎo)電介質(zhì)的影響，可滿(mǎn)足在線快速測(cè)量的需求。目前，基于電渦流方法的在線測(cè)量模塊已出現(xiàn)在金屬CMP系統(tǒng)中，用于監(jiān)測(cè)一定厚度范圍內(nèi)的金屬層去除情況，并判斷工藝是否已達(dá)到期望終點(diǎn)，以及時(shí)終止工藝過(guò)程。

金屬CMP工藝過(guò)程后，為了全面系統(tǒng)地分析電渦流傳感器在整個(gè)工藝過(guò)程中的輸出信號(hào)變化(或晶圓表面金屬層厚度變化)，同時(shí)檢驗(yàn)并修正在線測(cè)量模塊輸出的準(zhǔn)確度，需要離線處理與分析CMP過(guò)程中晶圓表面金屬層厚度變化的全部數(shù)據(jù)。然而，由于CMP特殊的工藝過(guò)程，諸多因素會(huì)對(duì)測(cè)量信號(hào)產(chǎn)生一定影響，尤其是由于修整頭的特殊材質(zhì)，拋光墊的在線修整過(guò)程會(huì)給測(cè)量模塊采集到的整個(gè)信號(hào)引入干擾，從而大大增加了離線數(shù)據(jù)處理與分析的難度。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明旨在至少解決上述技術(shù)問(wèn)題之一。

為此，本發(fā)明的一個(gè)目的在于提出一種CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法。

本發(fā)明的另外一個(gè)目的在于提出一種CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理系統(tǒng)。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例公開(kāi)了一種CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法，包括以下步驟：提取已采集并保存在指定文件中的晶圓表面金屬膜厚變化數(shù)據(jù)；如果最終金屬膜厚度的采樣信號(hào)的幅值大于干擾信號(hào)的幅值時(shí)，設(shè)定第一幅度閾值，其中，所述干擾信號(hào)為修整器在線修整拋光墊時(shí)電渦流傳感器探頭感應(yīng)到的信號(hào)；根據(jù)所述第一幅度閾值，依次讀取已獲得的全部膜厚數(shù)據(jù)，并從所述膜厚數(shù)據(jù)中獲取測(cè)量信號(hào)段的上升沿和下降沿；根據(jù)所述測(cè)量信號(hào)段的上升沿和下降沿確定所述測(cè)量信號(hào)段的中心位置；根據(jù)所述測(cè)量信號(hào)段的中心位置，取所述測(cè)量信號(hào)段中心區(qū)間內(nèi)所有點(diǎn)的平均值作為對(duì)應(yīng)測(cè)量信號(hào)段的測(cè)量值。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法，可從大量的測(cè)量數(shù)據(jù)中高效快速地提取到工藝人員需要的銅層厚度變化信息。此外，本方法相對(duì)簡(jiǎn)潔，可以為在線測(cè)量過(guò)程中的實(shí)時(shí)銅層厚度計(jì)算方法提供良好的思路，進(jìn)而提高在線測(cè)量的計(jì)算效率。

另外，根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法，還可以具有如下附加的技術(shù)特征：

進(jìn)一步地，所述第一幅度閾值大于干擾信號(hào)的幅值且小于所述最終金屬膜厚度的采樣信號(hào)幅值。

進(jìn)一步地，所述測(cè)量信號(hào)段的中心區(qū)間寬度根據(jù)拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速確定。

進(jìn)一步地，還包括：如果初始金屬膜厚度的采樣信號(hào)幅值小于所述干擾信號(hào)的幅值時(shí)，設(shè)定第二幅度閾值；根據(jù)所述第二幅度閾值從所述膜厚數(shù)據(jù)中獲取所有非零信號(hào)段的上升沿和下降沿；根據(jù)所述所有非零信號(hào)段的上升沿和下降沿計(jì)算出所述所有非零信號(hào)段的信號(hào)寬度；根據(jù)所述所有非零點(diǎn)信號(hào)段的信號(hào)寬度確定信號(hào)寬度閾值；根據(jù)所述信號(hào)寬度閾值遍歷所述所有非零點(diǎn)信號(hào)段，并找出所有有效測(cè)量信號(hào)段；根據(jù)所述有效測(cè)量信號(hào)段的中心區(qū)間內(nèi)所有數(shù)據(jù)點(diǎn)的平均值作為所述各測(cè)量信號(hào)段的測(cè)量值。

進(jìn)一步地，所述測(cè)量信號(hào)段為信號(hào)寬度大于所述信號(hào)寬度閾值的非零點(diǎn)信號(hào)段。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例公開(kāi)了一種CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理系統(tǒng)，包括：數(shù)據(jù)讀取模塊，用于讀取指定文件中的全部電渦流傳感器輸出信號(hào)數(shù)據(jù)作為所述晶圓表面金屬膜厚變化數(shù)據(jù)；數(shù)據(jù)分析模塊，所述數(shù)據(jù)分析模塊用于如果最終金屬膜厚度大于干擾信號(hào)幅值時(shí)，設(shè)定第一幅度閾值；所述數(shù)據(jù)分析模塊還用于根據(jù)所述第一幅度閾值從所述膜厚數(shù)據(jù)中獲取測(cè)量信號(hào)段的上升沿和下降沿；所述數(shù)據(jù)分析模塊還用于根據(jù)所述測(cè)量信號(hào)段的上升沿和下降沿確定所述測(cè)量信號(hào)段的中心位置；所述數(shù)據(jù)分析模塊還用于根據(jù)所述測(cè)量信號(hào)段的中心位置取所述測(cè)量信號(hào)段的中心區(qū)間內(nèi)所有點(diǎn)的平均值作為對(duì)應(yīng)測(cè)量信號(hào)段的測(cè)量值。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理系統(tǒng)，可從大量的測(cè)量數(shù)據(jù)中高效快速地提取到工藝人員需要的銅層厚度變化信息。此外，本方法相對(duì)簡(jiǎn)潔，可以為在線測(cè)量過(guò)程中的實(shí)時(shí)銅層厚度計(jì)算方法提供良好的思路，進(jìn)而提高在線測(cè)量的計(jì)算效率。

根據(jù)本發(fā)明上述實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理系統(tǒng)，還具有如下附加的技術(shù)特征：

進(jìn)一步地，所述第一幅度閾值大于干擾信號(hào)的幅值且小于所述最終金屬膜厚度的采樣信號(hào)幅值。

進(jìn)一步地，所述測(cè)量信號(hào)段的中心區(qū)間寬度根據(jù)拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速確定。

進(jìn)一步地，所述數(shù)據(jù)分析模塊還用于當(dāng)初始金屬膜厚度的采樣信號(hào)幅值小于所述干擾信號(hào)的幅值時(shí)時(shí)，設(shè)定第二幅度閾值；所述數(shù)據(jù)分析模塊還用于根據(jù)所述第二幅度閾值從所述膜厚數(shù)據(jù)中獲取所有非零點(diǎn)信號(hào)段的上升沿和下降沿；所述數(shù)據(jù)分析模塊還用于根據(jù)所述所有非零點(diǎn)信號(hào)段的上升沿和下降沿計(jì)算出所述所有非零點(diǎn)信號(hào)段的信號(hào)寬度；所述數(shù)據(jù)分析模塊還用于根據(jù)所述所有測(cè)量信號(hào)段的信號(hào)寬度的統(tǒng)計(jì)結(jié)果確定信號(hào)寬度閾值；所述數(shù)據(jù)分析模塊還用于根據(jù)所述信號(hào)寬度閾值遍歷所述膜厚數(shù)據(jù)中非零點(diǎn)信號(hào)段，并找到全部有效測(cè)量信號(hào)段；所述數(shù)據(jù)分析模塊以各有效測(cè)量信號(hào)段中心區(qū)間內(nèi)所有點(diǎn)的平均值作為各測(cè)量信號(hào)段的測(cè)量值。

進(jìn)一步地，所述有效測(cè)量信號(hào)段為其信號(hào)寬度大于所述信號(hào)寬度閾值的非零點(diǎn)信號(hào)段，所述第二幅度閾值大于零點(diǎn)信號(hào)的幅值且小于最終金屬膜厚度的采樣信號(hào)幅值。

本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本發(fā)明的實(shí)踐了解到。

附圖說(shuō)明

本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法的流程圖；

圖2是本發(fā)明一個(gè)示例的一次厚膜CMP工藝過(guò)程的銅層厚度采樣信號(hào)圖；

圖3是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)框圖。

具體實(shí)施方式

下面詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類(lèi)似的標(biāo)號(hào)表示相同或類(lèi)似的元件或具有相同或類(lèi)似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本發(fā)明的限制。此外，術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對(duì)重要性。

在本發(fā)明的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本發(fā)明中的具體含義。

參照下面的描述和附圖，將清楚本發(fā)明的實(shí)施例的這些和其他方面。在這些描述和附圖中，具體公開(kāi)了本發(fā)明的實(shí)施例中的一些特定實(shí)施方式，來(lái)表示實(shí)施本發(fā)明的實(shí)施例的原理的一些方式，但是應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明的實(shí)施例的范圍不受此限制。相反，本發(fā)明的實(shí)施例包括落入所附加權(quán)利要求書(shū)的精神和內(nèi)涵范圍內(nèi)的所有變化、修改和等同物。

電渦流傳感器探頭安裝在拋光盤(pán)中(拋光墊下)。在CMP工藝過(guò)程中，探頭隨拋光盤(pán)一起轉(zhuǎn)動(dòng)，并周期性運(yùn)動(dòng)至晶圓下方。待拋光過(guò)程穩(wěn)定后，測(cè)量模塊開(kāi)始讀取傳感器輸出信號(hào)并完成相關(guān)計(jì)算，然后將全工藝過(guò)程的晶圓表面金屬層的測(cè)量數(shù)據(jù)完整保存在指定文件中。

以下結(jié)合附圖描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法和處理系統(tǒng)。

圖1是本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法的流程圖。

針對(duì)晶圓表面銅層厚度與工藝要求的不同，本發(fā)明的處理方法分為厚膜拋光的離線數(shù)據(jù)處理和薄膜拋光的離線數(shù)據(jù)處理兩個(gè)基本策略，可有效消除干擾信號(hào)的影響，進(jìn)而計(jì)算出真實(shí)的銅層厚度變化。為了便于敘述本處理方法，定義工藝過(guò)程中探頭在晶圓表面銅層下方的運(yùn)動(dòng)區(qū)域?yàn)橛行y(cè)量區(qū)域，此時(shí)傳感器的輸出信號(hào)為測(cè)量信號(hào)。而當(dāng)探頭離開(kāi)測(cè)量區(qū)域時(shí)的輸出信號(hào)為零點(diǎn)信號(hào)。其中，由于修整器會(huì)在工藝過(guò)程中會(huì)在線修整拋光墊，探頭有可能會(huì)運(yùn)動(dòng)至修整頭下方，造成傳感器輸出信號(hào)的變化，特別定義此時(shí)傳感器的輸出信號(hào)為干擾信號(hào)。在本發(fā)明中，本處理方法的處理對(duì)象可包括傳感器輸出信號(hào)的未標(biāo)定值和其經(jīng)過(guò)標(biāo)定計(jì)算后得到的膜厚值。

如圖1所示，一種CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法，包括以下步驟：

S1：提取已采集并保存在指定文件中的晶圓表面金屬膜厚變化數(shù)據(jù)。

S2：如果最終金屬膜厚度的采樣信號(hào)的幅值大于干擾信號(hào)的幅值，設(shè)定第一幅度閾值，其中，干擾信號(hào)為修整器在線修整拋光墊時(shí)電渦流傳感器探頭感應(yīng)到的信號(hào)。

具體的，在厚膜的金屬CMP工藝階段，最終金屬膜厚度的采樣信號(hào)幅值應(yīng)大于干擾信號(hào)幅值。定義第一幅度閾值，且第一幅度閾值的大小由最終金屬膜厚度的采樣信號(hào)幅值和干擾信號(hào)幅值來(lái)確定。

在本發(fā)明的一個(gè)示例中，第一幅度閾值大于干擾信號(hào)的幅值且小于最終金屬膜厚度采樣信號(hào)的幅值。

S3：根據(jù)第一幅度閾值，依次讀取已獲得的全部膜厚數(shù)據(jù)，從膜厚數(shù)據(jù)中獲取各個(gè)測(cè)量信號(hào)段的上升沿和下降沿。

具體地，如圖2所示，根據(jù)已設(shè)定的第一幅度閾值，依次讀取已獲得的全部膜厚數(shù)據(jù)，找到各個(gè)測(cè)量信號(hào)段的上升沿和下降沿，進(jìn)而截取出每個(gè)測(cè)量信號(hào)段，并同步完成各信號(hào)段的后續(xù)計(jì)算。

S4：根據(jù)測(cè)量信號(hào)段的上升沿和下降沿確定測(cè)量信號(hào)段的中心位置。

具體地，在每個(gè)測(cè)量信號(hào)段中，首先以上升沿的第一幅度閾值位置處開(kāi)始統(tǒng)計(jì)采樣點(diǎn)個(gè)數(shù)，以下降沿的第一幅度閾值位置處結(jié)束統(tǒng)計(jì)，計(jì)算出每段信號(hào)的信號(hào)寬度n(即采樣點(diǎn)總數(shù))。然后，以下降沿閾值位置處后退n/2個(gè)點(diǎn)，找到當(dāng)前測(cè)量信號(hào)段的中心位置，并根據(jù)中心位置確定中心區(qū)間。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，中心區(qū)間寬度為20，且n>20。

在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，測(cè)量信號(hào)段的中心區(qū)間寬度根據(jù)拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速確定。如果拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速提高，應(yīng)適當(dāng)減小中心區(qū)間寬度的取值。

S5：根據(jù)測(cè)量信號(hào)段的中心位置，取測(cè)量信號(hào)段中心區(qū)域內(nèi)所有點(diǎn)的平均值作為對(duì)應(yīng)測(cè)量信號(hào)段的測(cè)量值。

具體地，計(jì)算中心位置所確定的中心區(qū)間內(nèi)所有點(diǎn)(20個(gè)點(diǎn))的平均值，并以此值作為本段測(cè)量的均值。

在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法還包括以下步驟：

如果初始金屬膜厚度的采樣信號(hào)幅值小于干擾信號(hào)幅值，即薄膜的銅CMP工藝過(guò)程，設(shè)定第二幅度閾值。其中，第二幅度閾值應(yīng)小于最終金屬膜厚度的采樣信號(hào)幅值且大于零點(diǎn)信號(hào)幅值。

根據(jù)第二幅度閾值，遍歷全部膜厚數(shù)據(jù)，并從中獲取所有非零信號(hào)段的上升沿和下降沿。

根據(jù)所有測(cè)量信號(hào)段的上升沿和下降沿計(jì)算出所有非零信號(hào)段的信號(hào)寬度。

根據(jù)所有非零信號(hào)段的信號(hào)寬度確定寬度閾值。

具體地，根據(jù)已設(shè)定的第二幅度閾值，遍歷測(cè)量模塊所獲得全部膜厚數(shù)據(jù)，依次判斷各非零信號(hào)段的上升沿和對(duì)應(yīng)下降沿，并截取全部非零點(diǎn)信號(hào)段。在每個(gè)信號(hào)段中，以上升沿的第二幅度閾值位置處開(kāi)始統(tǒng)計(jì)采樣點(diǎn)個(gè)數(shù)，以下降沿的第二幅度閾值位置處結(jié)束統(tǒng)計(jì)，從而計(jì)算出每段信號(hào)的信號(hào)寬度。由于干擾信號(hào)段的信號(hào)寬度明顯小于測(cè)量信號(hào)段的信號(hào)寬度，所以可根據(jù)統(tǒng)計(jì)結(jié)果確定兩者的分界點(diǎn)，即后續(xù)計(jì)算所需的寬度閾值大小。

根據(jù)信號(hào)寬度閾值遍歷全部膜厚數(shù)據(jù)中非零點(diǎn)信號(hào)段，并計(jì)算非零點(diǎn)信號(hào)段的信號(hào)寬度。

具體地，在確定寬度閾值后，保持第二幅度閾值不變，重新遍歷全部膜厚數(shù)據(jù)。依次截取各個(gè)非零點(diǎn)信號(hào)段并計(jì)算其信號(hào)寬度。對(duì)于截取到的每一段測(cè)量信號(hào)(或者干擾信號(hào))，在完成本段信號(hào)寬度的計(jì)算時(shí)，首先判斷其信號(hào)寬度是否小于信號(hào)寬度閾值。如果本信號(hào)段的信號(hào)寬度小于信號(hào)寬度閾值，則認(rèn)為該信號(hào)段為干擾信號(hào)段，并放棄本次信號(hào)寬度的統(tǒng)計(jì)結(jié)果，繼續(xù)尋找下一次非零點(diǎn)信號(hào)段的上升沿；否則，認(rèn)為該信號(hào)段是有效測(cè)量信號(hào)段。

根據(jù)有效測(cè)量信號(hào)段的中心區(qū)間內(nèi)所有點(diǎn)的平均值作為各測(cè)量信號(hào)段的測(cè)量值。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，中心區(qū)間寬度為20。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理系統(tǒng)。圖3是本發(fā)明實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)框圖。

如圖3所示，一種CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理系統(tǒng)，包括數(shù)據(jù)讀取模塊210和數(shù)據(jù)分析模塊220。其中，數(shù)據(jù)讀取模塊用于讀取指定文件中的全部電渦流傳感器輸出信號(hào)數(shù)據(jù)作為晶圓表面金屬膜厚變化數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)分析模塊220用于如果最終金屬膜厚度的采樣信號(hào)的幅值大于干擾信號(hào)的幅值，設(shè)定第一幅度閾值；數(shù)據(jù)分析模塊220還用于根據(jù)第一幅度閾值從輸出信號(hào)數(shù)據(jù)中獲取測(cè)量信號(hào)段的上升沿和下降沿；數(shù)據(jù)分析模塊220還用于根據(jù)測(cè)量信號(hào)段的上升沿和下降沿確定測(cè)量信號(hào)段的中心位置；數(shù)據(jù)分析模塊220還用于根據(jù)測(cè)量信號(hào)段的中心位置取測(cè)量信號(hào)段的中心區(qū)間內(nèi)所有點(diǎn)的平均值作為測(cè)量值。

在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，第一幅度閾值大于干擾信號(hào)的幅值且小于最終金屬膜厚度的采樣信號(hào)幅值。

在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，測(cè)量信號(hào)段的中心區(qū)間的寬度根據(jù)拋光盤(pán)轉(zhuǎn)速確定。

數(shù)據(jù)分析模塊220還用于當(dāng)初始金屬膜厚度小于干擾信號(hào)幅值時(shí)，設(shè)定第二幅度閾值；數(shù)據(jù)分析模塊220還用于根據(jù)第二幅度閾值從輸出數(shù)據(jù)中獲取所有非零點(diǎn)信號(hào)段的上升沿和下降沿；數(shù)據(jù)分析模塊220還用于根據(jù)所有非零點(diǎn)信號(hào)段的上升沿和下降沿計(jì)算出所有非零點(diǎn)信號(hào)段的信號(hào)寬度；數(shù)據(jù)分析模塊220還用于根據(jù)所有非零點(diǎn)信號(hào)段的信號(hào)寬度確定寬度閾值；數(shù)據(jù)分析模塊220還用于根據(jù)寬度閾值遍歷所有非零點(diǎn)信號(hào)段，并找到全部有效測(cè)量信號(hào)段；數(shù)據(jù)分析模塊220以各有效測(cè)量信號(hào)段的中心區(qū)間內(nèi)所有點(diǎn)的平均值作為各測(cè)量信號(hào)段的測(cè)量值。

在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，有效測(cè)量信號(hào)段為其信號(hào)寬度大于信號(hào)寬度閾值的非零點(diǎn)信號(hào)段。

需要注意的是，本發(fā)明實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理系統(tǒng)的具體實(shí)施方式與本發(fā)明實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法的具體實(shí)時(shí)方式相同或類(lèi)似，不再贅述。

另外，本發(fā)明實(shí)施例的CMP金屬膜厚測(cè)量數(shù)據(jù)的離線分段處理方法和處理系統(tǒng)的其它構(gòu)成以及作用對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言都是已知的，為了減少冗余，不做贅述。

在本說(shuō)明書(shū)的描述中，參考術(shù)語(yǔ)“一個(gè)實(shí)施例”、“一些實(shí)施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實(shí)施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)包含于本發(fā)明的至少一個(gè)實(shí)施例或示例中。在本說(shuō)明書(shū)中，對(duì)上述術(shù)語(yǔ)的示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點(diǎn)可以在任何的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例或示例中以合適的方式結(jié)合。

盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實(shí)施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解：在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同限定。