1.一種X射線相位襯底成像裝置，包括X射線管(11)、源光柵(12)、樣品臺(tái)(4)、分束光柵(13)、分析光柵(15)和X射線探測(cè)器(16)，各部件的中心都在水平方向上共軸，其特征在于：所述源光柵(12)、分束光柵(13)和分析光柵(15)的襯底面均正對(duì)著所述X射線管(11)。
2.如權(quán)利要求1所述的X射線相位襯底成像裝置，其特征在于：所述源光柵(12)、分束光柵(13)和分析光柵(15)均通過(guò)光學(xué)精密位移臺(tái)固定于光學(xué)平臺(tái)之上。
3.如權(quán)利要求2所述的X射線相位襯底成像裝置，其特征在于：所述分析光柵(15)與光學(xué)精密位移臺(tái)之間安裝有壓電陶瓷精密位移電機(jī)，用以完成該分析光柵(15)的步進(jìn)運(yùn)動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1所述的X射線相位襯底成像裝置，其特征在于：所述源光柵(12)、分束光柵(13)和分析光柵(15)中均是吸收光柵。
5.如權(quán)利要求1所述的X射線相位襯底成像裝置，其特征在于：所述源光柵(12)和分析光柵(15)中是吸收光柵，所述分束光柵(13)是相位光柵。
6.如權(quán)利要求4或5所述的X射線相位襯底成像裝置，其特征在于：所述吸收光柵包括依次疊置的襯底(21)、導(dǎo)電層和周期結(jié)構(gòu)層(24)。
7.如權(quán)利要求6所述的X射線相位襯底成像裝置，其特征在于：所述導(dǎo)電層包含鈦(22)和金(23)。
8.如權(quán)利要求6所述的X射線相位襯底成像裝置，其特征在于：所述周期結(jié)構(gòu)層(24)為金。
9.如權(quán)利要求8所述的X射線相位襯底成像裝置，其特征在于：所述周期結(jié)構(gòu)層(24)的槽中保留有光刻膠(25)。
10.一種X射線相位襯底成像方法，采用如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的X射線相位襯底成像裝置進(jìn)行成像。