專利名稱：一種光學測試系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及測量技術領域，特別是一種光學測試系統(tǒng)。
背景技術：
在對待測模組進行光學測量時，當待測模組旋轉時，也需要保證測量軸位于待測模組的表面上。為了滿足上述的需求，現有技術中的光學測試系統(tǒng)如圖I所示，包括機臺201 ;設置于機臺201表面的夾具2 ;以及光學測量儀3。 如圖I所示，該夾具2為固定型夾具，只能匹配一種型號的液晶模組產品。夾具2一般是在一整塊材料(電木等)上挖一個容納待測模組的凹槽。在測試過程中，將待測模組放置在凹槽中進行測量。由于測量時，機臺I可能需要按照圖I虛線所示的兩個軸旋轉，由于待測模組旋轉時，也需要保證測量軸位于待測模組的表面上，所以對于長、寬和高不同的模組都需要制作對應的夾具。從以上描述可以發(fā)現，現有技術中的夾具至少存在適應性太差的缺點，導致夾具成本過高。

發(fā)明內容
本發(fā)明實施例的目的在于提高一種光學測試系統(tǒng)，使得夾具及測試系統(tǒng)能適應不同尺寸的待測模組，提高夾具的適應性，降低測試成本中的夾具成本。為實現上述目的，本發(fā)明實施例公開了一種光學測試系統(tǒng)，包括機臺；安裝于所述機臺上的第一導軌，與機臺表面平行；設置于所述第一導軌上，可在所述第一導軌上滑動，能夠配合夾持待測模組的第一滑塊和第二滑塊。上述的光學測試系統(tǒng)，其中，還包括安裝于所述機臺上的第二導軌，與機臺表面平行，且垂直于所述第一導軌；設置于所述第二導軌上，可在所述第二導軌上滑動，能夠與所述第一滑塊和第二滑塊配合夾持所述待測模組的第三滑塊。上述的光學測試系統(tǒng)，其中，所述第一導軌和第二導軌上設置有用于確定滑塊位置的游標卡尺。上述的光學測試系統(tǒng)，其中，所述第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊具有一夾持面，所述第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊上均具有一阻擋機構，所述阻擋機構在垂直于所述夾持面的方向上突出于所述夾持面，所述待測模組的上表面貼緊所述阻擋機構下表面時，測量軸位于所述待測模組的表面。
上述的光學測試系統(tǒng)，其中，所述第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊的上表面形成有一凹槽結構，在所述第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊配合夾持所述待測模組時，所述凹槽結構的底部不高于所述待測模組的上表面。上述的光學測試系統(tǒng)，其中，還包括用于承載所述待測模組的承載機構；所述承載機構具有一承載面，所述承載面與機臺表面平行，且能夠沿垂直于機臺表面的方向運動。上述的光學測試系統(tǒng)，其中，所述承載面通過彈簧與所述承載機構的主體連接。本發(fā)明實施例至少具有以下有益效果本發(fā)明實施例中，當需要對待測模組進行光學測量時，將待測模組置于滑塊之間，然后根據待測模組的長/寬調整滑塊的位置，使得滑塊的夾持面貼緊待測模組的兩端，然后通過固定滑塊來固定待測模組。由于滑塊可在導軌上滑動，因此當下一次測試時待測模組的長/寬發(fā)生變化時， 則可以調整滑塊在導軌上的位置，使得滑塊的夾持面貼緊待測模組的兩端，從而夾持固定當前待測模組即可。因此，本發(fā)明實施例的光學測試系統(tǒng)能夠適用于長/寬不同的待測模組，提高了夾具的適應性，也就不用再為每一個尺寸不同的待測模組單獨設計、制造夾具，降低了測試成本中的夾具成本。


圖I為現有技術的光學測試系統(tǒng)的結構示意圖；圖2為本發(fā)明實施例的一種光學測試系統(tǒng)的結構示意圖；圖3為本發(fā)明實施例的另一種光學測試系統(tǒng)的結構示意圖；圖4為本發(fā)明實施例的滑塊的結構示意圖；圖5為本發(fā)明實施例的再一種光學測試系統(tǒng)的結構示意圖；圖6為圖5所示的光學測試系統(tǒng)的不同狀態(tài)下的示意圖；圖7為滑塊阻擋測試光線的示意圖；圖8a、8b和8c為滑塊上設置的三種凹槽的示意圖。其中，附圖標記如下2 夾具201機臺3 光學測量儀202第一導軌 203第一滑塊 204 第二滑塊205第二導軌 206第三滑塊 401 夾持面402阻擋機構 501承載機構 5011承載面601待測模組
具體實施例方式本發(fā)明實施例的光學測試系統(tǒng)中設置有一導軌，并且在導軌上設置有能夠滑動的兩個滑塊。當待測模組的長度或寬度不同時，可以滑動兩個滑塊，使得滑塊的夾持面之間的距離等于待測模組的長度或寬度，因此能夠適用長度或寬度不同的待測模組。因此本發(fā)明實施例的光學測試系統(tǒng)提高了夾具的適應性，降低了測試成本中的夾具成本。本發(fā)明實施例的一種光學測試系統(tǒng)，如圖2所示，包括
機臺201 ;安裝于所述機臺上的第一導軌202，與機臺表面平行；設置于所述第一導軌202上，可在所述第一導軌202上滑動，能夠配合夾持待測模組的第一滑塊203和第二滑塊204。如圖2所示，當需要對待測模組進行光學測量時，將待測模組置于滑塊203和204之間，然后根據待測模組的長/寬調整第一滑塊203和第二滑塊204的位置，使得第一滑塊203和第二滑塊204的夾持面貼緊待測模組的兩端，然后通過固定第一滑塊203和第二滑塊204。以圖2所示的情況為例，由于第一滑塊203和第二滑塊204可在第一 導軌202上滑動，因此當下一次測試時待測模組的長/寬發(fā)生變化時，則可以調整 第一滑塊203和第二滑塊204在導軌上的位置，使得第一滑塊203和第二滑塊204的夾持面貼緊待測模組的兩端，從而夾持固定當前待測模組即可。因此，本發(fā)明實施例的光學測試系統(tǒng)能夠適用于長/寬不同的待測模組，提高了夾具的適應性，也就不用再為每一個尺寸不同的待測模組單獨設計、制造夾具，降低了測試成本中的夾具成本。通過上述的方式，本發(fā)明實施例的光學測試系統(tǒng)可以適用不同長度或寬度的待測模組，但在另一個方向上需要測試人員自行調整，為了提高測試效率，在本發(fā)明的具體實施例中，如圖3所示，該光學測試系統(tǒng)還包括安裝于所述機臺201上的第二導軌205，與機臺表面平行，且垂直于所述第一導軌202 ； 設置于所述第二導軌202上，可在所述第二導軌202上滑動，能夠與所述第一滑塊203和第二滑塊204配合夾持所述待測模組的第三滑塊206。通過第二導軌205以及其上的第三滑塊206的設置，測試人員可以很方便的通過3個滑塊來唯一確定待測模組的位置。同時，通過3個滑塊的設置，可以對長度和寬度均不同的待測模組進行固定，提高了夾具的適應性，也使得用戶的測試操作更加方便。在本發(fā)明的具體實施例中，由于每個待測模組均有各自的長度和寬度，為了使得待測模組位于合適的位置。保證待測模組位于合適的位置可以通過用戶手動調整來實現，但考慮到精度問題，在本發(fā)明的具體實施例中，在所述第一導軌和第二導軌上設置有用于確定滑塊位置的游標卡尺。通過游標卡尺的設置，測試人員能夠很精確的設置第一滑塊203、第二滑塊204和第三滑塊206的位置，進而也就精確設置了滑塊夾持面的位置，進而精確定位待測模組的位置。之前提到，機臺I可能需要按照圖I虛線所示的兩個軸旋轉，當待測模組旋轉時，需要保證測量軸位于待測模組的表面上。對于上述的測量條件，可以通過用戶不斷手動調整待測模組相對于機臺表面的高度來保證。即首先確定測量軸的位置，進而確定待測模組相對于機臺表面的高度，然后在第一滑塊203、第二滑塊204和第三滑塊206的位置確定之后，通過沿夾持面上下調整待測模組即可使待測模組位于一個恰當的高度，當機臺沿圖I所示的軸線旋轉時，測量軸位于待測模組的表面上。但上述的方式可能需要多次繁瑣的調整，在本發(fā)明的具體實施例中，通過一簡單改進滑塊使得上述的調整過程更加簡單，說明如下。如圖4所示，本發(fā)明實施例中的滑塊具有一夾持面401，所述第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊上均具有一阻擋機構402，所述阻擋機構402在垂直于所述夾持面401的方向X上突出于所述夾持面401，所述待測模組的上表面貼緊所述阻擋機構時，測量軸位于所述待測模組的表面。也可以說，測量軸位于第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊上的阻擋機構的下表面所在的平面即可。
下面對上述的結構的工作說明如下。在第一滑塊203、第二滑塊204和第三滑塊206的位置確定之后，將待測模組放入第一滑塊203、第二滑塊204和第三滑塊206的夾持面之間，此時在平行于機臺表面的方向上固定了待測模組。在此之后，推動待測模組沿著夾持面向上移動，直至待測模組的上表面貼緊阻擋機構的下表面，此時測量軸位于所述待測模組的表面，滿足測量要求。上述方式下，只需要測試人員將待測模組向上推動到無法推動的位置的即可，不用測試人員手動測試待測模組的高度，大大提高了測試的方便性。在本發(fā)明的具體實施例中，該光學測試系統(tǒng)中可以通過第一滑塊203、第二滑塊204和第三滑塊206夾持待測模組，使得待測模組在垂直于機臺表面的方向上固定，但這種方式并不是特別穩(wěn)定，為了提高待測模組夾持的穩(wěn)定性，如圖5所示，在本發(fā)明的具體實施例中，光學測試系統(tǒng)還包括用于承載所述待測模組的承載機構501 ;所述承載機構具有一承載面5011，所述承載面與機臺表面平行，且能夠沿垂直于機臺表面的方向運動。通過承載機構的設置，可以為待測模組在垂直于機臺表面的方向上提供支撐，使得待測模組的位置更加穩(wěn)固，避免了測試過程中待測模組從第一滑塊203、第二滑塊204和第三滑塊206中掉落的情況。同時，由于承載面5011能夠沿垂直于機臺表面的方向運動，因此,對于不同高度的待測模組都能夠適用，進一步提高了夾具的適應性，降低了測試成本中的夾具成本。在本發(fā)明的具體實施例中，該承載面的底部通過彈簧與所述承載機構的主體連接，當待測模組放置于承載面上時，在彈簧彈性力的作用下將承載面向上頂，從而帶動待測模組沿著夾持面向上運動，當待測模組上表面抵達阻擋機構的下表面時，被阻擋機構阻擋，無法繼續(xù)向上移動，達到穩(wěn)定狀態(tài)。同時，由于測量軸位于第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊上的阻擋機構的下表面所在的平面，因此，當所述待測模組的上表面貼緊所述阻擋機構時，測量軸位于所述待測模組的表面，滿足測量要求。如圖6所示,為圖5所示的光學測試系統(tǒng)的不同狀態(tài)下的示意圖。如圖6所示，當機臺繞橫向的旋轉軸旋轉到如圖7所示的位置時，滑塊會阻擋光學測量儀3發(fā)出的光線照射到待測模組601的中心點，導致測試無法完成。在本發(fā)明的具體實施例中，為了避免上述情況的發(fā)生，在所有的滑塊(即第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊)的上表面形成有一凹槽結構，在所述第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊配合夾持所述待測模組時，所述凹槽結構的底部不高于所述待測模組的上表面。也就是說，在滑塊上表面形成了個讓光線能夠直接通過的通道，使得光學測量儀3發(fā)出的光線照射到待測模組601的中心點。在本發(fā)明的具體實施例中，該凹槽結構多種多樣，對其中的幾種實現方式說明如下。如圖8a、圖8b和圖8c所示，為本發(fā)明具體實施例的三種凹槽結構的示意圖，但3種結構中，凹槽結構的底部都不高于所述待測模組的上表面，也就是說光學測量儀的光出口到待測模組的上表面中心點之間沒有阻擋物，保證光學測量儀3發(fā)出的光線照射到待測模組601的中心點實現光學項目測試。以上所述僅是本發(fā)明的實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來 說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為 本發(fā)明的保護范圍。
權利要求
1.ー種光學測試系統(tǒng)，其特征在于，包括 機臺； 安裝于所述機臺上的第一導軌，與機臺表面平行； 設置于所述第一導軌上，可在所述第一導軌上滑動，能夠配合夾持待測模組的第一滑塊和第二滑塊。
2.根據權利要求I所述的光學測試系統(tǒng)，其特征在于，還包括 安裝于所述機臺上的第二導軌，與機臺表面平行，且垂直于所述第一導軌； 設置于所述第二導軌上，可在所述第二導軌上滑動，能夠與所述第一滑塊和第二滑塊配合夾持所述待測模組的第三滑塊。
3.根據權利要求2所述的光學測試系統(tǒng)，其特征在于，所述第一導軌和第二導軌上設置有用于確定滑塊位置的游標卡尺。
4.根據權利要求2所述的光學測試系統(tǒng)，其特征在于，所述第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊具有ー夾持面，所述第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊上均具有一阻擋機構，所述阻擋機構在垂直于所述夾持面的方向上突出于所述夾持面，所述待測模組的上表面貼緊所述阻擋機構下表面時，測量軸位于所述待測模組的表面。
5.根據權利要求2所述的光學測試系統(tǒng)，其特征在于，所述第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊的上表面形成有一凹槽結構，在所述第一滑塊、第二滑塊和第三滑塊配合夾持所述待測模組時，所述凹槽結構的底部不高于所述待測模組的上表面。
6.根據權利要求2所述的光學測試系統(tǒng)，其特征在于，還包括用于承載所述待測模組的承載機構；所述承載機構具有ー承載面，所述承載面與機臺表面平行，且能夠沿垂直于機臺表面的方向運動。
7.根據權利要求6所述的光學測試系統(tǒng)，其特征在于，所述承載面通過彈簧與所述承載機構的主體連接。
全文摘要
本發(fā)明的目的在于提高一種光學測試系統(tǒng)，使得夾具及測試系統(tǒng)能適應不同尺寸的待測模組，提高夾具的適應性，降低測試成本中的夾具成本。本發(fā)明實施例的光學測試系統(tǒng)包括機臺；安裝于所述機臺上的第一導軌，與機臺表面平行；設置于所述第一導軌上，可在所述第一導軌上滑動，能夠配合夾持待測模組的第一滑塊和第二滑塊。本發(fā)明實施例的光學測試系統(tǒng)能夠適用于長/寬不同的待測模組，提高了夾具的適應性，也就不用再為每一個尺寸不同的待測模組單獨設計、制造夾具，降低了測試成本中的夾具成本。
文檔編號G01N21/01GK102798593SQ201210249979
公開日2012年11月28日 申請日期2012年7月18日 優(yōu)先權日2012年7月18日
發(fā)明者潘建偉 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 成都京東方光電科技有限公司