專利名稱：鐳射測(cè)高檢具的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種檢具，特別涉及一種鐳射測(cè)高檢具。
背景技術(shù)：
在加工行業(yè)的生產(chǎn)過程中，有時(shí)需要對(duì)產(chǎn)品的高度進(jìn)行檢測(cè)，而且對(duì)檢測(cè)的精度有較高的要求，一般的常規(guī)檢具很難達(dá)到要求，因此在對(duì)產(chǎn)品的高度進(jìn)行檢測(cè)時(shí)往往需要使用到2. 5D甚至3D的測(cè)量設(shè)備，這些測(cè)量設(shè)備雖然精度很高，但成本較高，使得企業(yè)的成本增加，而且采用這種2. 5D、3D的測(cè)量設(shè)備往往需要較長(zhǎng)的測(cè)量時(shí)間較長(zhǎng)，因此使用起來效率較低。

實(shí)用新型內(nèi)容針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、 制造成本低，使用方便、測(cè)量精度高的檢具。為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種鐳射測(cè)高檢具，其包括一機(jī)架，所述機(jī)架上設(shè)有一放置產(chǎn)品用的平臺(tái)，所述平臺(tái)的一側(cè)設(shè)有一鐳射測(cè)高主機(jī)，所述鐳射測(cè)高主機(jī)上設(shè)有可上下移動(dòng)的探頭，所述鐳射測(cè)高主機(jī)與一 IXD連接。優(yōu)選的，所述平臺(tái)上設(shè)有基準(zhǔn)塊，所述探頭下端設(shè)有限位塊，所述限位塊與所述基準(zhǔn)塊位置相對(duì)，所述平臺(tái)上還設(shè)有一產(chǎn)品仿形治具，所述產(chǎn)品仿形治具的上表面與所述基準(zhǔn)塊的上表面位于同一水平面上。優(yōu)選的，所述機(jī)架上還有歸零塊，所述歸零塊與所述限位塊相對(duì)，所述歸零塊通過一開關(guān)與所述鐳射測(cè)高主機(jī)連接。上述技術(shù)方案具有如下有益效果該鐳射測(cè)高檢具在使用時(shí)，將產(chǎn)品放置在平臺(tái)上，然后將探頭射出的激光照射在產(chǎn)品上要檢測(cè)高度的位置，這樣鐳射測(cè)高主機(jī)就可測(cè)出該產(chǎn)品要檢測(cè)位置的高度，并通過LCD進(jìn)行顯示。該鐳射測(cè)高檢具結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便、制造成本低、測(cè)量精度高，能有效滿足生產(chǎn)的需要，降低企業(yè)的成本。上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段，并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說明如后。本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
由以下實(shí)施例及其附圖詳細(xì)給出。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)介紹。如圖1所示，該鐳射測(cè)高檢具包括一機(jī)架1，機(jī)架1上設(shè)有一個(gè)放置產(chǎn)品用的平臺(tái)2，平臺(tái)2的一側(cè)設(shè)有一鐳射測(cè)高主機(jī)3，鐳射測(cè)高主機(jī)3上設(shè)有可上下移動(dòng)的探頭4，鐳射測(cè)高主機(jī)3與一 IXD連接。平臺(tái)2上設(shè)有基準(zhǔn)塊6，探頭4下端設(shè)有限位塊5，限位塊5與基準(zhǔn)塊6位置相對(duì)，平臺(tái)上還設(shè)有一產(chǎn)品仿形治具8，產(chǎn)品仿形治具8的上表面與基準(zhǔn)塊6 的上表面位于同一水平面上。機(jī)架1上還有歸零塊7，歸零塊7與限位塊6相對(duì)，歸零塊7 通過一開關(guān)與鐳射測(cè)高主機(jī)3連接。該鐳射測(cè)高檢具在使用時(shí)，首先向下移動(dòng)探頭4，使限位塊5與基準(zhǔn)塊6接觸，于此同時(shí)限位塊5也應(yīng)與歸零塊7接觸，歸零塊7通過開關(guān)使鐳射測(cè)高主機(jī)3復(fù)位歸零，然后將要檢測(cè)的產(chǎn)品放置在產(chǎn)品仿形治具8上，因?yàn)楫a(chǎn)品仿形治具8的上表面與基準(zhǔn)塊6的上表面位于同一水平面上，這樣就可保證探頭4與產(chǎn)品處于同一基準(zhǔn)上，從而可有效保證測(cè)量的精度。該進(jìn)行測(cè)量時(shí)，將產(chǎn)品放置在產(chǎn)品仿形治具8上，然后將探頭4射出的激光照射在產(chǎn)品上要檢測(cè)高度的位置，這樣鐳射測(cè)高主機(jī)就可測(cè)出該產(chǎn)品要檢測(cè)位置的高度，并通過 LCD進(jìn)行顯示。該鐳射測(cè)高檢具結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便、制造成本低、測(cè)量精度高，能有效滿足生產(chǎn)的需要，降低企業(yè)的成本。經(jīng)檢測(cè)，該檢具在量測(cè)精度可達(dá)到0. 001mm，量測(cè)時(shí)間可提升 30%，且設(shè)備成本降低了 50%。以上對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的一種鐳射測(cè)高檢具進(jìn)行了詳細(xì)介紹，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的思想，在具體實(shí)施方式
及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，綜上所述，本說明書內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制，凡依本實(shí)用新型設(shè)計(jì)思想所做的任何改變都在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種鐳射測(cè)高檢具，其特征在于其包括一機(jī)架，所述機(jī)架上設(shè)有一放置產(chǎn)品用的平臺(tái)，所述平臺(tái)的一側(cè)設(shè)有一鐳射測(cè)高主機(jī)，所述鐳射測(cè)高主機(jī)上設(shè)有可上下移動(dòng)的探頭， 所述鐳射測(cè)高主機(jī)與一 IXD連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鐳射測(cè)高檢具，其特征在于所述平臺(tái)上設(shè)有基準(zhǔn)塊，所述探頭下端設(shè)有限位塊，所述限位塊與所述基準(zhǔn)塊位置相對(duì)，所述平臺(tái)上還設(shè)有一產(chǎn)品仿形治具，所述產(chǎn)品仿形治具的上表面與所述基準(zhǔn)塊的上表面位于同一水平面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鐳射測(cè)高檢具，其特征在于所述機(jī)架上還有歸零塊，所述歸零塊與所述限位塊相對(duì)，所述歸零塊通過一開關(guān)與所述鐳射測(cè)高主機(jī)連接。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種鐳射測(cè)高檢具，其包括一機(jī)架，所述機(jī)架上設(shè)有一放置產(chǎn)品用的平臺(tái)，所述平臺(tái)的一側(cè)設(shè)有一鐳射測(cè)高主機(jī)，所述鐳射測(cè)高主機(jī)上設(shè)有可上下移動(dòng)的探頭，所述鐳射測(cè)高主機(jī)與一LCD連接。該鐳射測(cè)高檢具在使用時(shí)，將產(chǎn)品放置在平臺(tái)上，然后將探頭射出的激光照射在產(chǎn)品上要檢測(cè)高度的位置，這樣鐳射測(cè)高主機(jī)就可測(cè)出該產(chǎn)品要檢測(cè)位置的高度，并通過LCD進(jìn)行顯示。該鐳射測(cè)高檢具結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便、制造成本低、測(cè)量精度高，能有效滿足生產(chǎn)的需要，降低企業(yè)的成本。
文檔編號(hào)G01B11/02GK202126247SQ20112017948
公開日2012年1月25日 申請(qǐng)日期2011年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月31日
發(fā)明者史樹杰 申請(qǐng)人:應(yīng)華精密表面處理(蘇州)有限公司