專利名稱：Mri中應(yīng)用的介入性醫(yī)療裝置的制作方法
MRI中應(yīng)用的介入性醫(yī)療裝置
背景技術(shù)：
本發(fā)明涉及帶有置入動(dòng)物或人體內(nèi)的金屬部分的醫(yī)療裝置。本發(fā)明特 別適用于內(nèi)植體，如腔內(nèi)植體。
本發(fā)明廣泛地與帶此類內(nèi)植體的受試者或患者進(jìn)行NMR成像相關(guān)。本 發(fā)明也與介入性放射學(xué)家或其他醫(yī)生對(duì)內(nèi)部手術(shù)過(guò)程中在麗R成像的監(jiān)控 下對(duì)導(dǎo)管或其他醫(yī)療裝置實(shí)施完全控制相關(guān)。
成像方法的完善已經(jīng)促進(jìn)了醫(yī)學(xué)的重大進(jìn)步。
但將帶金屬部分的裝置導(dǎo)入人體時(shí)帶來(lái)了意想不到的問(wèn)題。當(dāng)人體置 于特定頻率(如微波爐產(chǎn)生的電磁場(chǎng))的電磁場(chǎng)中時(shí)，金屬部分會(huì)發(fā)生反 應(yīng)，如果是心臟起搏器可能會(huì)使其失靈。
IMR成像是核磁共振在生物醫(yī)學(xué)中的應(yīng)用。它可以使組織和血管變得 可視化。其所含水的質(zhì)子在磁場(chǎng)作用下發(fā)生共振并發(fā)出信號(hào)。利用這種信 號(hào)可以構(gòu)成圖像。
含金屬部分醫(yī)療裝置(即使宣稱麗R兼容的)的存在不僅干擾麗R檢 査時(shí)形成的圖像，而且使得觀察該裝置旁邊的人體部分變得不可能。這一 問(wèn)題在安置非常小的內(nèi)植體如支架時(shí)顯得至關(guān)重要。
產(chǎn)生的問(wèn)題不在于可以預(yù)見(jiàn)的金屬部分置于強(qiáng)磁場(chǎng)中導(dǎo)致溫度升高 (盡管己有報(bào)道導(dǎo)電組織使用不當(dāng)引起的燒傷)，而是局部磁場(chǎng)干擾所引起 的圖像失真。這樣使作為圖像適當(dāng)復(fù)原至關(guān)重要因素之一的位置與頻率之 間的關(guān)系被打亂了。
這就意味著患者不得不暴露于有潛在危險(xiǎn)的X射線檢査中。應(yīng)該注意到在腔內(nèi)植體的情況下，即使是x射線檢査也不能確定哪個(gè)組織阻塞了血管，而這常常是支架引起的問(wèn)題。內(nèi)植體帶來(lái)的另一個(gè)更普遍的問(wèn)題是內(nèi)植體被生物體識(shí)別為入侵身體 的入侵者并引發(fā)強(qiáng)烈的化學(xué)反應(yīng)，并有可能導(dǎo)致有毒物質(zhì)釋放出來(lái)。因此 這些組件在體內(nèi)狀況下的兼容性(生物兼容性)必須加以考慮。內(nèi)植體的金屬部分與其他材料一樣受到這樣的攻擊。因而必須使用高 級(jí)表面涂料如貴重金屬。一些含有毒重金屬(如鎳、鉻)的合金(不銹鋼或鎳鈦合金(Nitinol)) 正是這些特定問(wèn)題的起源，因而需要用兼容的保護(hù)層來(lái)完成金屬部分的外 部涂飾。鎳鈦合金正逐步在腔內(nèi)植體的制備中得到應(yīng)用，如血管、食管支架、 尿道導(dǎo)管等。這些合金表面以金屬形式存在的鎳引發(fā)了將這些部分進(jìn)行化學(xué)拋光的 普遍需求，通常與保護(hù)性表面覆恙涂層相關(guān)。0' Brien， Carroll WW及Kelly 等在 "Passivation of Nitinol wire for vascular implants-a demonstration of the benefits" (BIOMATERIALS， 15 APR 2002) —文 中(以下稱D1)研究了拋光后鎳鈦合金的鈍化過(guò)程。該研究得出結(jié)論為經(jīng) 過(guò)表面上Ti02含量增加的鈍化處理后，仍有鎳釋出，盡管鎳的釋出量隨時(shí) 間過(guò)去而下降。顯然這種鈍化不能解決含鎳鈦合金的醫(yī)療設(shè)備的生物兼容 性問(wèn)題。同——作者艮卩 Carroll WW 禾口 Kelly 在"Corrosion behaviour of Nitinol wires in body fluid environment" (JOURNAL OF BIOMEDICAL MATERIALS RESEARCH Part A， 15 dec 2003)(以下稱D2) —文研究了拋
光及未拋光的鎳鈦合金線在模擬體液中的降解可能性。Ni203和NiO之間并無(wú)差別。其結(jié)論當(dāng)然是仍有小量鎳釋放到體液內(nèi)。SHABALOVSKAYA S在〃Surface， corrosion and biocompatibi1ity aspects of Nitinol as an implant material" (BIO-MEDICAL MATERIALS AND ENGINEERING, vol 12, n° 1， 2002)(以下稱D4) —文中抱怨各供應(yīng) 商所售的鎳鈦合金其腐蝕性差異極大。VAN H0LTEN j等在"High flip angle imaging of metallic stents : Implication for MR angiography and intraluminal signal interpretation" (MAGNETIC RESONANCE IN MEDECINE， 01 OCT 2003)(以 下稱D5) —文中完成了翻轉(zhuǎn)角對(duì)各種體內(nèi)支架成像渲染的影響的研究，得 出結(jié)論為ABI合金優(yōu)于鎳鈦合金。作者也提示支架的幾何形狀可能是鎳鈦 合金支架結(jié)果差異的原因。他們沒(méi)有提示標(biāo)本的氧化狀態(tài)可能是結(jié)果有差 異的原因。所引用的現(xiàn)有技術(shù)沒(méi)有一種在NMR成像結(jié)果和金屬氧化狀態(tài)之間建立 聯(lián)系。本發(fā)明的目的是提供醫(yī)療設(shè)備及這些醫(yī)療設(shè)備的金屬組件，這些金屬 組件不會(huì)在利用振蕩電磁場(chǎng)的操作過(guò)程中尤其是在麗R成像檢驗(yàn)時(shí)產(chǎn)生干擾。本發(fā)明的另一目的是提供被證明是對(duì)用戶無(wú)害的醫(yī)療設(shè)備尤其是內(nèi)植體。本發(fā)明的目的是含有至少一個(gè)金屬部分的醫(yī)療介入裝置。所述至少一 個(gè)金屬部分的至少一個(gè)外表面覆蓋一層氧化的鎳，其氧化形式均為一氧化 鎳(Ni0);所述涂層因?yàn)榫哂锌硅F磁性在該醫(yī)療裝置置于核磁反應(yīng)產(chǎn)生器 產(chǎn)生的電磁場(chǎng)內(nèi)時(shí)可以消除所述金屬部分附近磁場(chǎng)局部干擾引起的圖像失 真，從而使該裝置在麗R成像時(shí)看得見(jiàn)。所述至少一個(gè)金屬部分優(yōu)選由鎳合金如鎳鈦合金制成，使其有可能直 接從金屬生成一氧化鎳層。根據(jù)一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案，該醫(yī)療介入裝置為腔內(nèi)植體。但是本領(lǐng)域 內(nèi)的技術(shù)人員應(yīng)知其也可應(yīng)用于下列醫(yī)療裝置活檢穿剌針、標(biāo)記及此類 裝置，豐胸器及植入物，心血管導(dǎo)管及附件，頸總動(dòng)脈血管鉗，線圈、支 架及濾器，牙科植入物、裝置及材料，心電圖(ECG)電極，帶溫度傳感器的弗利氏導(dǎo)管(foley catheter),頭環(huán)背心(halovests)及頸部固定裝 置，心臟人工瓣膜及瓣環(huán)，止血夾，眼睛植入物及裝置，整形植入物、材 料和方法，耳科植入物，開(kāi)放性動(dòng)脈導(dǎo)管(PDA)、房間隔缺損(ASD)和室 間隔缺損(VSD)的閉合器，彈丸和子彈(pellets和bullets),陰莖植 入物，血管通路入口、點(diǎn)滴注射泵及導(dǎo)管等。根據(jù)一項(xiàng)有利實(shí)施方案，內(nèi)植體的至少一個(gè)金屬部分形狀為一束金屬 線，優(yōu)選將其編織成辮，從而增強(qiáng)內(nèi)植體的機(jī)械性能。1.本發(fā)明的另一目的是獲得NMR可視介入性醫(yī)療裝置的方法，包括下 列步驟-挑選鎳合金；-制備所述合金的金屬部分；_保護(hù)好制備所述金屬部分后形成的外部氧化層；-將所述部分在空氣中于約500° C的溫度加熱至少10分鐘；_將所述部分在用水飽和的氧化乙烯氣體中放置指定的時(shí)間；-誘導(dǎo)發(fā)生反應(yīng)，將外層中所有鎳和鎳氧化物轉(zhuǎn)化成反鐵磁性 的一氧化鎳。該方法的一個(gè)優(yōu)勢(shì)在于原始鎳鈦合金的外層氧化后第一步生成NixOy 然后轉(zhuǎn)化成Ni0。這些步驟還包含在醫(yī)療設(shè)備的制備過(guò)程中，節(jié)省了時(shí)間 和成本(將醫(yī)療設(shè)備置于用水飽和的氧化乙烯氣體中是公知的飽和方法， 但從未用于改變飽和物體的表面組成)。
最后一步中保護(hù)層變厚、內(nèi)植體得以殺菌(sterilized)，這樣就省了 一步制備步驟。原始的氧化鎳鈦合金生成附203，后者進(jìn)一步被氧化乙烯完 全轉(zhuǎn)化成NiO，從而達(dá)到想要的效果。附圖概述下文中參照下述附圖的詳細(xì)說(shuō)明及具體實(shí)施方案將使本發(fā)明的上述及 其他目的、特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)得以更清楚地理解，其中

圖1為腔內(nèi)植體實(shí)例的反相NMR (RMN)圖像，為橫截面視圖；圖2為圖1中常規(guī)(不銹鋼)腔內(nèi)植體橫截面圖像的詳圖。圖3為常規(guī)鎳鈦合金腔內(nèi)植體在相同環(huán)境下得到的圖像。圖4為本發(fā)明腔內(nèi)植體在相同環(huán)境下得到的圖像。圖5為表層綜合分析結(jié)果表。圖6和圖7是圖4腔內(nèi)植體反相NMR成像的惻視圖，分別為立視和側(cè) 視橫截面。附圖詳述圖1是各種腔內(nèi)植體實(shí)例置于麗R(RMN)成像系統(tǒng)中形成的反相圖像。 為了彌補(bǔ)再現(xiàn)性相對(duì)較差的質(zhì)量，該圖經(jīng)放大后完成，下文進(jìn)行說(shuō)明。圖1顯示了 N服成像時(shí)常規(guī)(不銹鋼)編織支架1的橫截面圖。如正 常圖像一般，支架周?chē)诱沟慕M織呈各種灰度。支架1及周?chē)M織的所有圖像均無(wú)法完全看清，只有鳶尾形的人工制 品在屏幕上顯示出來(lái)。
圖2更詳細(xì)地顯示了激光切割鎳鈦合金管所得常規(guī)支架2的圖像。支架2包括一個(gè)金屬框架，該支架也對(duì)該檢驗(yàn)產(chǎn)生的強(qiáng)磁場(chǎng)(l特斯拉級(jí)) 發(fā)生反應(yīng)。結(jié)果發(fā)現(xiàn)支架2也引起干擾，醒R圖像中的人工制品即支架橫 截面嚴(yán)重失真，在屏幕上呈心形，各點(diǎn)附近均有"火花"。支架的內(nèi)腔6 呈亮白色，與周?chē)叶刃纬蓮?qiáng)烈對(duì)比，提示在這些區(qū)域磁場(chǎng)未能激活水分 子。這種現(xiàn)象使得現(xiàn)有支架不能使用麗R成像來(lái)檢査支架內(nèi)管道的狀態(tài)， 需要操作者掌握特殊技術(shù)才可行。圖3是鎳鈦合金編織而成的支架8在相同環(huán)境下得到的橫截面圖。盡 管橫截面圖失真程度輕一些，支架及其內(nèi)部腔體6仍顯示為一純白斑。圖4為本發(fā)明支架10在本相同環(huán)境下獲得的橫截面圖。支架本身的壁12呈白色，形成一個(gè)清晰的環(huán)。支架10分隔出來(lái)的區(qū)域6其顏色與周?chē)M織的顏色相同。因此操作者 可以檢査支架內(nèi)部即管壁外是否發(fā)生了潛在的阻塞。必須強(qiáng)調(diào)的是，與D5中進(jìn)行的試驗(yàn)不同，所有樣品均根據(jù)相同的翻轉(zhuǎn) 角放在完全相同的位置。這一意外發(fā)現(xiàn)的效應(yīng)使之很有可能在各種醫(yī)療領(lǐng)域中應(yīng)用，而不僅僅 是內(nèi)植體，它也可在與麗R成像聯(lián)用的任意金屬醫(yī)療裝置中應(yīng)用。在對(duì)此現(xiàn)象作出任意解釋之前必須進(jìn)行長(zhǎng)期深入的研究(正如D5所進(jìn) 行的)。似乎產(chǎn)生這結(jié)果(如圖2和圖3所演示)既不是金屬本身性質(zhì)也不 是其幾何形狀引起(如D5所闡述)的，而是由于其表面的成分引起的，其 間有存在一種關(guān)聯(lián)。實(shí)際上，意外地發(fā)現(xiàn)對(duì)鎳鈦合金支架進(jìn)行經(jīng)典化學(xué)拋 光易于消除這種效應(yīng)，產(chǎn)生的麗R圖像與圖3相近。隨后在拋光后的支架上進(jìn)行氧化不能重建上述性質(zhì)。
因此必須對(duì)各金屬部分周?chē)韺?約500nm)逐層研究其性質(zhì)和組成。從非拋光金屬清晰的淺藍(lán)色及鈦高度氧化來(lái)看，似乎氧化鈦(公知的 絕緣體或半導(dǎo)體)顯然是已觀察到的有益效應(yīng)的根本原因。而且，Ti力y在 體液和鎳的接觸之間構(gòu)成一道屏障，鎳鈦合金中也有這些氧化物。令人失望的是，這種假設(shè)是錯(cuò)的，與之相反，在外膜層中發(fā)現(xiàn)了大量 的鎳。O'Brien & al (Dl)的文章也證實(shí)了這一點(diǎn)。但是，Dl明確地聲 明根據(jù)其方法鈍化后的鎳鈦合金仍會(huì)釋放鎳。這己經(jīng)證明是不可能的，因 為NiO是穩(wěn)定的氧化物。因此，當(dāng)Dl聲稱鎳氧化物時(shí)(特別是稱所謂的 NiO時(shí))，我們斷定其實(shí)際是指各種各樣的鎳氧化物，特別是指肌203。同樣意外地發(fā)現(xiàn)可以確定鎳(一氧化鎳)正是這一有利性質(zhì)的基礎(chǔ)。雖然目前機(jī)理未知也未完全清楚，NiO已知的反鐵磁性似乎是造成所 研究?jī)?nèi)植體"透明"的主要原因。外膜中其他組分的作用尚未確定，鈦氧化物的存在很有可能與支架的 生物兼容性相關(guān)。不管怎樣獲得所需性質(zhì)的層已經(jīng)有可以重現(xiàn)的方法。該方法基于內(nèi)植體本身制備過(guò)程中所需保護(hù)層的建立。優(yōu)選鎳重量含量為52% 56%的鎳鈦合金。上述組成可以經(jīng)過(guò)充分的 熱處理從而在金屬內(nèi)發(fā)生相變。然后根據(jù)本域內(nèi)常規(guī)情形將金屬部分成型。制備含編織成束框架的內(nèi) 植體時(shí)，將金屬拉長(zhǎng)然后保持其"原始"狀態(tài)(粗糙和氧化態(tài))下編織成 束。進(jìn)行各種操作時(shí)需小心保護(hù)金屬部分的氧化外層。成型時(shí)將金屬部分于約500° C在開(kāi)放空氣中加熱。在該步驟中，設(shè)定 金屬發(fā)生金屬相變的確切溫度。同時(shí)，金屬表面仍保持在金屬態(tài)的鎳幾乎
完全NiA氧化成Nix0y即MA和NiO，在金屬部分上神奇地賦予了一直想 要的"抗干擾"屬性。測(cè)試顯示一些內(nèi)植體經(jīng)過(guò)上述處理后產(chǎn)生的綜合效果好于平均樣品。這樣在結(jié)果改善和這些樣品特定飽和方法之間建立了一種聯(lián)系。分析證實(shí)，將金屬部分在氧化乙烯氣體(同時(shí)有水存在)中放置2小 時(shí)可極大地提高氧化層的厚度，并將剩余的鎳和肌203轉(zhuǎn)化成一氧化鎳。確 實(shí)，氧化乙烯與水反應(yīng)生成乙二醇，乙二醇具有酸的性質(zhì)，特異性地與Ni203 反應(yīng)生成NiO。 0'Brien&al等未對(duì)此效應(yīng)進(jìn)行說(shuō)明，也無(wú)任何提示。反 應(yīng)可歸納如下Ni + H20 —> NiO + 2H + 2e-CH2-CH2 + H20 = HOCH2-CH2OH (乙二醇)Ni203 + 2H+ 2e- —〉 NiO + 2H20因此將此特定步整合入本發(fā)明內(nèi)植體的制備過(guò)程中可以帶來(lái)下列優(yōu)勢(shì)-周?chē)M織的可視性得到增強(qiáng)；-內(nèi)植體同時(shí)完全被飽和(sterilized );-內(nèi)植體在包裝后再進(jìn)行氧化乙烯的反應(yīng)。如果是支架甚至可以支架 放入到其釋放導(dǎo)管內(nèi)后再進(jìn)行。圖5為鎳鈦合金內(nèi)植體樣品進(jìn)行各種處理后表面組成(經(jīng)AES和X射 線光譜確定)的表。A樣品為"原始"樣品，即從電線廠收到的金屬；B樣品是"干凈"樣 品，即其外層己經(jīng)通過(guò)(化學(xué))拋光去掉了； C樣品為經(jīng)過(guò)前文所述方法 處理的樣品。 鎳鈦合金線的表層及深層特征分析反應(yīng)了各種表面組成、雜質(zhì)及氧化 層組成/厚度。圖5中列出了各測(cè)試樣品的表面鎳和鈦含量、Ti/Ni主比率和氧化物主要納米厚度。"原始"A樣品的AES譜顯示表面的雜質(zhì)主要是碳，其次是Si、 P和S。 在分析的表面上也發(fā)現(xiàn)了小量的鎳，Ti/M比率為4.5。氧化層厚度估測(cè)約 為380nm。表面非常粗糙，經(jīng)次級(jí)電子觀察發(fā)現(xiàn)外形不同質(zhì)。"干凈的"B樣品表面相對(duì)均勻，化學(xué)組成上表面雜質(zhì)含量較低，主 要是碳。這些樣品的特征在于其鎳含量高于原始材料，相應(yīng)的Ti/Ni為3.3 ±0.5。深層特征顯示有一富含鈦的薄氧化層，厚度為7.5 ± 0.69 nm。 表面形狀相對(duì)粗糙，類似于"原始"樣品。"制好的"C樣品經(jīng)AES分析顯示表面組成和氧化層厚度相對(duì)于"原 始"及"干凈"的樣品均有明顯的不同。表面雜質(zhì)同樣主要為碳，也發(fā)現(xiàn) 痕量的P和S。表面制好的樣品其Ti/Ni比(約為O. 7)更低，提示該樣品 的Ni含量高于其他樣品。深層特征分析發(fā)現(xiàn)表層由至少三層完全不周的層 組成。第一層(深度為0到10 40nm)的特征在于鎳氧化物形態(tài)的鎳含量 相對(duì)高一些。這一薄層后是更厚(10 40nm到140nm)的富含鈦氧化物的 層。這一系列樣品顯示因深度所致氧含量逐漸降低可能與富含鈦氧化層和 疏松材料間的過(guò)渡有關(guān)。但是受試樣品中有一樣品顯示過(guò)渡層在900nm范 圍內(nèi)時(shí)局部氧含量升高。盡管在氧化層中不合常規(guī)，"制好的"樣品其平均 厚度約690. 9 ± 494. 1 nm。"原始"、"干凈"及"制好"的樣品經(jīng)XPS分析其Ti/Ni比證實(shí)了 AES 表面分析得到的趨勢(shì)。實(shí)際上XPS顯示"制好的"樣品其表面富含鎳(Ti/Ni 比為1.4)，而"原始"和"干凈的"樣品其Ti/Ni分別為12. 5和7.1。 AES
和XPS之間在表面組分定量上的差異可以從深層分析的不同及這些技術(shù)的敏感度不同(AES鑒定大部分外表面時(shí)比XPS更精確)來(lái)解釋?？紤]到化學(xué)組成時(shí)，XPS分析可以鑒別鎳鈦合金線氧化表面的性質(zhì)。 根據(jù)氧化條件(溫度、氧氣含量、壓力等)的不同，合金的表面化學(xué)可以 被神奇地改變。后者與鎳和鈦氧化物的自由能(NiO為_(kāi)50. 6 kcal mol， TiO為-118, 3 kcal mol， TI02為-212.6 kcal mol)形成相關(guān)。通常NiTi 表面在有氧氣存在時(shí)由于鈦的高氧化度易于被Ti02覆蓋，而鎳保持在金屬 及/或氧化態(tài)(主要是NiO或Ni2(U。與其他樣品相比，"原始"樣品的表面富含鈦。鈦?zhàn)V的XPS分析顯示其 表面主要由Ti02 (約85XTi信號(hào))及小量Ti203覆蓋。在表面上也檢測(cè)到 了極小量的金屬鈦。鎳XPS光譜顯示絕大部分鎳為氧化態(tài)( 85%)，同時(shí) 約有15%的鎳為金屬態(tài)。"干凈的"B樣品表面也有富含鈦層(表面有 75%的Ti02)。僅檢測(cè) 到小量的其他鈦氧化物及金屬鈦( 7%)。與"原始的"A樣品不同，"干 凈的"B樣品顯示鎳主要呈金屬態(tài)( 62金屬鎳，而鎳氧化物為38%)。XPS光譜顯示"制好的"C樣品上鎳完全被氧化。如前文所述，使鎳和 鈦在表面處理時(shí)完全氧化的特定氧化條件可以解釋"制好的"樣品上鎳和 鈦的氧化態(tài)。圖6是圖4中據(jù)本發(fā)明所制成的支架10在腿R成像的側(cè)視圖。圖6中，所述支架10的線束可以在屏幕上顯示出來(lái)，該結(jié)果目前市場(chǎng) 上任意已知的內(nèi)植體均無(wú)法獲得。圖7是同一支架10的橫截面圖。該圖像可以說(shuō)是與任意現(xiàn)有支架均矛 盾。圖像中脊柱14清晰可見(jiàn)。本發(fā)明的支架顯示成沿動(dòng)脈壁延展的二重線， 而管道16內(nèi)部不含任何假象。
盡管上述實(shí)施例選擇了腔內(nèi)植體技術(shù)，顯而易見(jiàn)的是對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的 技術(shù)人員來(lái)說(shuō)本發(fā)明可應(yīng)用于其他必須插入人體的醫(yī)療裝置。另外，可用其他方法如陰極濺射將保護(hù)性鎳氧化物(及/或鎳鈦氧化 物混合物)噴到相同用途的各種金屬上。
權(quán)利要求
1.一種介入性醫(yī)療裝置，至少包含一金屬部分，其特征在于，至少一金屬部分的至少一個(gè)外表面覆蓋一層氧化的鎳，其氧化形式均為一氧化鎳(NiO)，所述涂層由于具有抗鐵磁性在該醫(yī)療裝置置于核磁反應(yīng)產(chǎn)生器產(chǎn)生的電磁場(chǎng)內(nèi)時(shí)可以消除所述金屬部分附近磁場(chǎng)局部干擾引起的圖像失真，從而使該裝置在NMR成像時(shí)是可視的。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述醫(yī)療裝置，其特征在于，所述金屬為鎳。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述醫(yī)療裝置，其特征在于，該裝置為腔內(nèi)植體。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述內(nèi)植體，其特征在于，所述至少一金屬部分形 狀為一束金屬線。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述內(nèi)植體，其特征在于，所述金屬線編織成辮。
6. —種獲得NMR可視的介入性醫(yī)療裝置的方法，該方法包括下列步驟-挑選鎳合金；-制備所述合金的金屬部分；-保護(hù)好制備所述金屬部分后形成的外部氧化層；-將所述部分在空氣中于約500°C的溫度加熱至少10分鐘；-將所述部分在用水飽和的氧化乙烯氣體中放置指定的時(shí)間；-誘導(dǎo)發(fā)生反應(yīng)，將外層中所有鎳和鎳氧化物轉(zhuǎn)化成抗鐵磁性 的一氧化鎳。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于所述時(shí)間為約兩小時(shí)。
全文摘要
本文公開(kāi)了一種醫(yī)療裝置，該裝置帶有導(dǎo)入動(dòng)物或人體內(nèi)的金屬部分，其外表面為含一氧化鎳(NiO)的涂層，當(dāng)NMR成像時(shí)NMR裝置產(chǎn)生的電磁場(chǎng)使之成為可視的部分；該涂層可從根本上減少該金屬部分在所述電磁場(chǎng)內(nèi)引起的干擾。本發(fā)明主要與受試者或患者將要進(jìn)行NMR成像的內(nèi)植體相關(guān)。具體地說(shuō)，本發(fā)明專注于含金屬框架的腔型內(nèi)植體，如支架。
文檔編號(hào)G01R33/28GK101160534SQ200680009491
公開(kāi)日2008年4月9日 申請(qǐng)日期2006年3月3日 優(yōu)先權(quán)日2005年3月4日
發(fā)明者努爾丁·弗里德, 帕特里夏·格呂法 申請(qǐng)人:卡蒂亞蒂斯股份有限公司