專利名稱：一種用于超高真空系統(tǒng)快速進樣的樣品支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬表面分析技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種用于超高真空系統(tǒng)快速進樣的樣品支架。
背景技術(shù)：
物理和化學(xué)的表面分析必須在超高真空環(huán)境(具體是指壓強小于10-9毫米汞柱，或1.3×10-12大氣壓)下進行，以保持固體表面在分析過程中不受吸附污染。將真空室從大氣抽真空到超高真空，通常需要36小時以上。如果每次更換樣品都要打開真空室，將大大限制工作效率。因此需要超高真空系統(tǒng)快速進樣裝置，這種進樣裝置將樣品通過一個預(yù)真空室送進真空室，這樣就大大減小了樣品更換對真空室的真空破壞，每更換一次樣品并恢復(fù)到原有超高真空，所需時間縮短至約1小時或更短。目前快速進樣裝置一般采用三點銜接固定方式來固定樣品支架，這種設(shè)計方式容易導(dǎo)致樣品支架在進樣過程中脫落而跌落在真空室中，不但影響工作進程，嚴(yán)重時還有可能損傷真空泵。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于提出一種結(jié)構(gòu)簡單、使用方便的用于超高真空系統(tǒng)快速進樣的樣品支架，并可避免進樣過程中的樣品支架脫落問題。
本實用新型提出的用于超高真空系統(tǒng)快速進樣的樣品支架，采用兩點托架固定方式，其結(jié)構(gòu)如圖2-圖4所示。其中，樣品支架A由三角鍥型塊11和水平托架10兩部分組成，兩者在端部處垂直連接；樣品支架B由兩個平行的直角形掛鉤6組成；樣品支架A固定于進樣桿1的前端部，樣品支架B固定于調(diào)節(jié)桿12的下端部。
圖1為超高真空系統(tǒng)快速進樣示意圖。利用點焊、彈簧壓片等方法將待分析樣品放在樣品支架A上，樣品支架A固定在進樣桿頭部。進樣時，進樣桿和樣品經(jīng)過預(yù)真空室進入真空室。之后將樣品支架A固定在樣品支架B上，再抽出進樣桿到預(yù)真空室，關(guān)閉閥門，進樣完成。
在將樣品支架A固定在樣品支架B的過程中，原來的設(shè)計因其三點銜接固定方式，容易導(dǎo)致樣品支架A的脫落。本發(fā)明在于重新設(shè)計了樣品支架A和樣品支架B，由于采用了兩點托架固定方式，避免了樣品支架A的脫落問題。具體操作步驟為1)將樣品5放上樣品支架A后，將支架A之三角鍥型塊11插入固定在進樣桿1頭部的金屬彈簧片9中，插入方向如圖2中箭頭所示(這些操作均不在真空中進行)。2)進樣桿1攜帶樣品5進入預(yù)真空室2后，再將預(yù)真空室抽真空至～10-6毫米汞柱，打開閥門3。3)進樣桿1進入真空室7。將樣品支架A和B的相對位置調(diào)節(jié)為樣品支架A之水平托架10的底部高于樣品支架B的頂部，如圖2的虛線所示。樣品支架B由兩個固定在樣品調(diào)節(jié)架桿12上的平行掛鉤6組成，如圖3和圖4所示；樣品支架A之三角鍥型塊11的兩邊位于樣品支架B之平行掛鉤6的相對位置內(nèi)，如圖3和圖4的虛線所示。推進樣品支架A直到它貼近樣品調(diào)節(jié)架桿12，此時其水平托架10完全越過樣品支架B。4)通過樣品調(diào)節(jié)架8，抬升樣品支架B1直到樣品支架A之水平托架10完全架在樣品支架B的兩個掛鉤上為止(兩點托架方式)。5)抽出進樣桿到預(yù)真空室，關(guān)閉閥門。
本實用新型中，樣品支架A和B以及金屬彈簧由不銹鋼制成。
本實用新型所采用的兩點托架固定方式，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，并避免了進樣過程中樣品支架A的脫落問題。


圖1超高真空系統(tǒng)快速進樣示意圖。
圖2樣品支架A和B以及進樣桿頭部的側(cè)視圖。
圖3樣品支架A和B以及進樣桿頭部的俯視圖。
圖4為樣品支架A和B的立體圖。
圖中標(biāo)號1進樣桿，2預(yù)真空室，3閥門，4樣品支架A，5樣品，6樣品支架B，7真空室，8樣品調(diào)節(jié)架，9金屬彈簧片，10樣品支架A之水平托架，11樣品支架A之三角鍥型塊，12樣品調(diào)節(jié)桿。
具體實施方式
下面通過實例進一步描述本發(fā)明。
實施例金屬彈簧片9用0.5毫米厚不銹鋼片制成，其結(jié)構(gòu)由圖2所示的兩部分組成，將它們用螺釘固定在進樣桿頭部。彈簧片的水平長度約1厘米，它的寬度不能超出進樣桿頭部的截面。樣品支架A和B由1毫米厚不銹鋼制成，其結(jié)構(gòu)如圖2、圖3和圖4所示。樣品支架A之三角鍥型塊11用車床車出。樣品支架A的高度和寬度不能超出進樣桿1頭部的截面，如圖2中的點劃線所示。三角鍥型塊11的長度和金屬彈簧片9的水平長度相似。樣品支架B為兩個大小和形狀相同的直角掛鉤6，它們的一邊均用螺釘固定在樣品調(diào)節(jié)架桿12的下端部。兩掛鉤平行，其間距稍大于樣品支架A之三角鍥型塊11的寬度，如圖3和圖4中的虛線所示。掛鉤6的高度和樣品支架A的水平托架10的高度相似。掛鉤內(nèi)側(cè)與樣品調(diào)節(jié)架桿的間距稍大于樣品支架A之水平托架10的厚度，以便水平托架架在掛鉤上。樣品寬度不超過樣品支架A之三角鍥型塊11的寬度，且處于水平托架正中，如圖3和圖4所示。
權(quán)利要求1.一種用于超高真空系統(tǒng)快速進樣的樣品支架，包括樣品支架A和樣品支架B，其特征在于樣品支架A和B采用兩點托架方式，樣品支架A由三角鍥型塊11和水平托架10兩部分組成，兩者在端部處垂直連接；樣品支架B由兩個平行的直角形掛鉤6組成；樣品支架A固定于進樣桿1的前端部，樣品支架B固定于調(diào)節(jié)桿12的下端部。
專利摘要本實用新型屬于表面分析技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種用于超高真空系統(tǒng)快速進樣的樣品支架，包括樣品支架A和樣品支架B。樣品支架A和B之間的固定采用了兩點托架方式，避免了通常采用的三點銜接方式造成的進樣過程中，樣品支架A容易脫落的問題。
文檔編號G01N1/36GK2639872SQ03210558
公開日2004年9月8日 申請日期2003年9月11日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月11日
發(fā)明者陸明 申請人:復(fù)旦大學(xué)