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一種新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu)的制作方法

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一種新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu),包括內(nèi)倉(cāng)、外倉(cāng)、同步輪,位于內(nèi)倉(cāng)上方的軸端上裝有擋碴環(huán),位于擋碴環(huán)與內(nèi)倉(cāng)之間的軸外部裝有軸用導(dǎo)向環(huán),該軸用導(dǎo)向環(huán)一側(cè)設(shè)置雙向往復(fù)軸用密封套;同時(shí),所述內(nèi)倉(cāng)外圍套有外倉(cāng),位于外倉(cāng)內(nèi)表面上、下兩側(cè)分別配置角接觸軸承、防塵深溝球軸承,位于內(nèi)倉(cāng)與外倉(cāng)之間設(shè)置雙向旋轉(zhuǎn)軸用密封套。本實(shí)用新型有益效果為:軸用導(dǎo)向環(huán)保障往復(fù)運(yùn)動(dòng),角接觸軸承、防塵深溝球軸承可確保旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),密封結(jié)構(gòu)由雙向旋轉(zhuǎn)軸用密封套與雙向往復(fù)軸用密封套組成,極大地增強(qiáng)了密封性、可使硅單晶區(qū)熔法拉制設(shè)備的下軸更加穩(wěn)定、能充分保證1至2米大直徑區(qū)熔法硅單晶拉制。
【專利說(shuō)明】一種新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及區(qū)熔爐設(shè)備,尤其涉及一種新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái),以單晶硅為代表的高科技附加值材料及其相關(guān)高技術(shù)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,成為當(dāng)代信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)的支柱,并使信息產(chǎn)業(yè)成為全球經(jīng)濟(jì)發(fā)展中增長(zhǎng)最快的先導(dǎo)產(chǎn)業(yè)。半導(dǎo)體材料的區(qū)域提純,是生產(chǎn)純單晶的關(guān)鍵工序,由于產(chǎn)品的需求增大,現(xiàn)有很多區(qū)熔爐設(shè)備無(wú)法滿足生產(chǎn)需要,特別是因其軸部位的密封結(jié)構(gòu)單一,缺乏全方位的密封結(jié)構(gòu),會(huì)給人員和設(shè)備帶來(lái)一定的安全隱患,尤其是硅單晶區(qū)熔法拉制設(shè)備的下軸部位缺乏穩(wěn)定性,無(wú)法對(duì)大直徑區(qū)熔法硅單晶的拉制實(shí)施有效控制。針對(duì)以上方面,需要對(duì)現(xiàn)有技術(shù)進(jìn)行合理的改進(jìn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]針對(duì)以上缺陷,本實(shí)用新型提供一種極大地增強(qiáng)了密封性、可使硅單晶區(qū)熔法拉制設(shè)備的下軸更加穩(wěn)定、能充分保證大直徑區(qū)熔法硅單晶拉制的新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu),以解決現(xiàn)有技術(shù)的諸多不足。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0005]一種新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu),包括內(nèi)倉(cāng)、外倉(cāng)、同步輪,內(nèi)倉(cāng)設(shè)置于軸外圍并且位于內(nèi)倉(cāng)下方的軸端上裝有同步輪,位于內(nèi)倉(cāng)上方的軸端上裝有擋碴環(huán),位于擋碴環(huán)與內(nèi)倉(cāng)之間的軸外部裝有軸用導(dǎo)向環(huán),該軸用導(dǎo)向環(huán)一側(cè)設(shè)置雙向往復(fù)軸用密封套;同時(shí),所述內(nèi)倉(cāng)外圍套有外倉(cāng),位于外倉(cāng)內(nèi)表面上、下兩側(cè)分別配置角接觸軸承、防塵深溝球軸承,位于內(nèi)倉(cāng)與外倉(cāng)之間設(shè)置雙向旋轉(zhuǎn)軸用密封套。
[0006]位于同步輪內(nèi)部與軸相接位置處裝有防塵圈,位于擋碴環(huán)內(nèi)部與軸相接位置處分別裝有防塵圈。
[0007]本實(shí)用新型所述的新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu)的有益效果為:垂直使用時(shí),大軸要作復(fù)合運(yùn)動(dòng)(旋轉(zhuǎn)、往復(fù))外倉(cāng)和爐體固定,內(nèi)倉(cāng)同大軸同步旋轉(zhuǎn)且有相對(duì)往復(fù)運(yùn)動(dòng),軸用導(dǎo)向環(huán)保障往復(fù)運(yùn)動(dòng),角接觸軸承、防塵深溝球軸承可確保旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),密封結(jié)構(gòu)由雙向旋轉(zhuǎn)軸用密封套與雙向往復(fù)軸用密封套組成,極大地增強(qiáng)了密封性、可使硅單晶區(qū)熔法拉制設(shè)備的下軸更加穩(wěn)定、能充分保證I至2米大直徑區(qū)熔法硅單晶拉制。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0008]下面根據(jù)附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
[0009]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例所述新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu)示意圖。
[0010]圖中:
[0011]1、擋碴環(huán);2、防塵圈;3、軸用導(dǎo)向環(huán);4、雙向旋轉(zhuǎn)軸用密封套;5、雙向往復(fù)軸用密封套;6、內(nèi)倉(cāng);7、外倉(cāng);8、角接觸軸承;9、防塵深溝球軸承;10、同步輪?!揪唧w實(shí)施方式】
[0012]如圖1所示,本實(shí)用新型實(shí)施例所述的新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu),包括內(nèi)倉(cāng)6、外倉(cāng)7、同步輪10,所述內(nèi)倉(cāng)6設(shè)置于下軸外圍并且位于內(nèi)倉(cāng)6下方的軸端上裝有同步輪10,位于內(nèi)倉(cāng)6上方的軸端上裝有擋碴環(huán)1,其中位于同步輪10內(nèi)部與軸相接位置處、以及位于擋碴環(huán)I內(nèi)部與軸相接位置處分別裝有防塵圈2 ;位于擋碴環(huán)I與內(nèi)倉(cāng)6之間的軸外部裝有軸用導(dǎo)向環(huán)3,該軸用導(dǎo)向環(huán)3 —側(cè)設(shè)置雙向往復(fù)軸用密封套5 ;同時(shí),所述內(nèi)倉(cāng)6外圍套有外倉(cāng)7,位于外倉(cāng)7內(nèi)表面上、下兩側(cè)分別配置角接觸軸承8、防塵深溝球軸承9,位于內(nèi)倉(cāng)6與外倉(cāng)7之間設(shè)置雙向旋轉(zhuǎn)軸用密封套4,大軸要作復(fù)合運(yùn)動(dòng)(旋轉(zhuǎn)、往復(fù))外倉(cāng)和爐體固定,內(nèi)倉(cāng)6同大軸同步旋轉(zhuǎn)且有相對(duì)往復(fù)運(yùn)動(dòng),軸用導(dǎo)向環(huán)3保障往復(fù)運(yùn)動(dòng),角接觸軸承8、防塵深溝球軸承9可確保旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。
[0013]以上實(shí)施例是本實(shí)用新型較優(yōu)選【具體實(shí)施方式】的一種,本領(lǐng)域技術(shù)人員在本技術(shù)方案范圍內(nèi)進(jìn)行的通常變化和替換應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu),包括內(nèi)倉(cāng)(6)、外倉(cāng)(7)、同步輪(10),內(nèi)倉(cāng)(6)設(shè)置于軸外圍并且位于內(nèi)倉(cāng)(6)下方的軸端上裝有同步輪(10),其特征在于:位于內(nèi)倉(cāng)(6)上方的軸端上裝有擋碴環(huán)(I),位于擋碴環(huán)(I)與內(nèi)倉(cāng)(6)之間的軸外部裝有軸用導(dǎo)向環(huán)(3),該軸用導(dǎo)向環(huán)(3) —側(cè)設(shè)置雙向往復(fù)軸用密封套(5);同時(shí),所述內(nèi)倉(cāng)(6)外圍套有外倉(cāng)(7),位于外倉(cāng)(7)內(nèi)表面上、下兩側(cè)分別配置角接觸軸承(8)、防塵深溝球軸承(9),位于內(nèi)倉(cāng)(6)與外倉(cāng)(7)之間設(shè)置雙向旋轉(zhuǎn)軸用密封套(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu),其特征在于:位于同步輪(10)內(nèi)部與軸相接位置處裝有防塵圈(2)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型區(qū)熔爐下軸密封機(jī)構(gòu),其特征在于:位于擋碴環(huán)(I)內(nèi)部與軸相接位置處分別 裝有防塵圈(2)。
【文檔編號(hào)】F16J15/16GK203571036SQ201320056456
【公開(kāi)日】2014年4月30日 申請(qǐng)日期:2013年2月1日 優(yōu)先權(quán)日:2013年2月1日
【發(fā)明者】劉劍 申請(qǐng)人:劉劍
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