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一種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池的制作方法

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一種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種電鍍池,具體地涉及一種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著半導(dǎo)體芯片的集成度不斷提高,晶體管的特征尺寸不斷縮小。進(jìn)入到130納米技術(shù)節(jié)點(diǎn)之后,受到鋁的高電阻特性的限制,銅互連逐漸替代鋁互連成為金屬互連的主流。
[0003]電鍍池內(nèi)的各成分的含量都是有一定范圍限制的,若是超標(biāo),會(huì)導(dǎo)致電路板過(guò)連、電鍍速率變慢等等。在電鍍過(guò)程中往往會(huì)使得電鍍池內(nèi)的電解液的某些成分的含量超標(biāo),從而產(chǎn)生不良影響,因此需要對(duì)超標(biāo)的成分進(jìn)行處理。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本實(shí)用新型旨在提供一種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池,該種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池,可以對(duì)超標(biāo)的電解液成分進(jìn)行自動(dòng)處理,從而使得電解液的濃度維持恒定。
[0005]為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池,包括電鍍池,所述電鍍池內(nèi)設(shè)置有電鍍液分析裝置和水泵,所述電鍍液分析裝置設(shè)置在電鍍池中部,所述電鍍池通過(guò)第一管路連接過(guò)渡池,所述過(guò)渡池內(nèi)中部設(shè)置有電鍍液分析裝置,所述過(guò)渡池通過(guò)第二管路連接加料裝置,所述加料裝置高于過(guò)渡池。
[0006]進(jìn)一步的,所述過(guò)渡池內(nèi)設(shè)置有水泵,所述第一管路的兩端都設(shè)置有電磁閥。
[0007]進(jìn)一步的,所述第二管路設(shè)置有電磁閥。
[0008]本實(shí)用新型的有益效果是:該種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池,可以對(duì)超標(biāo)的電解液成分進(jìn)行自動(dòng)處理,從而使得電解液的濃度維持恒定。結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,控制方式簡(jiǎn)單,安全環(huán)保,成本低廉,可以將電解液循環(huán)使用。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1是本實(shí)用新型鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0010]圖2是本實(shí)用新型鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池的原理框圖。
[0011]其中,1、電鍍池,2、過(guò)渡池,3、加料裝置,4、第二管路,5、電磁閥,6、第一管路,7、水泵,8、電磁閥,9、水泵,11、電鍍液分析裝置,21、電鍍液分析裝置。
【具體實(shí)施方式】
[0012]為使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明了,下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】并參照附圖,對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)該理解,這些描述只是示例性的,而并非要限制本實(shí)用新型的范圍。此外,在以下說(shuō)明中,省略了對(duì)公知結(jié)構(gòu)和技術(shù)的描述,以避免不必要地混淆本實(shí)用新型的概念。
[0013]如圖1、2所示,一種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池,包括電鍍池1,電鍍池I內(nèi)設(shè)置有電鍍液分析裝置11和水泵7,電鍍液分析裝置11設(shè)置在電鍍池I中部,電鍍池I通過(guò)第一管路6連接過(guò)渡池2,過(guò)渡池2內(nèi)中部設(shè)置有電鍍液分析裝置21,過(guò)渡池2通過(guò)第二管路4連接加料裝置3,加料裝置3高于過(guò)渡池2設(shè)置。過(guò)渡池2內(nèi)設(shè)置有水泵9,第一管路6的兩端都設(shè)置有電磁閥8,第二管路4設(shè)置有電磁閥5。
[0014]如圖2為該裝置的原理框圖,
[0015]電鍍池I中的電鍍液分析裝置11可以實(shí)時(shí)分析電鍍池I中各成分的含量,并將數(shù)據(jù)傳送給單片機(jī),單片機(jī)進(jìn)行處理,若含量超出設(shè)定值時(shí),將兩個(gè)電磁閥8打開(kāi),控制水泵7工作將電解液輸送到過(guò)渡池2中,然后由過(guò)渡池2中的電鍍液分析裝置21分析電鍍液的成分,將信號(hào)傳遞給單片機(jī),單片機(jī)控制不同的電磁閥5進(jìn)行動(dòng)作,當(dāng)過(guò)渡池2中的電鍍液的成分含量在設(shè)定的范圍內(nèi)時(shí),將兩個(gè)電磁閥8打開(kāi),控制水泵9工作,將電鍍液輸送到電鍍池I中使用。如此往復(fù)循環(huán),從而可以循環(huán)使用電鍍液,降低成本,安全環(huán)保。
[0016]應(yīng)當(dāng)理解的是,本實(shí)用新型的上述【具體實(shí)施方式】?jī)H僅用于示例性說(shuō)明或解釋本實(shí)用新型的原理,而不構(gòu)成對(duì)本實(shí)用新型的限制。因此,在不偏離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。此外,本實(shí)用新型所附權(quán)利要求旨在涵蓋落入所附權(quán)利要求范圍和邊界、或者這種范圍和邊界的等同形式內(nèi)的全部變化和修改例。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池,包括電鍍池,其特征在于,所述電鍍池內(nèi)設(shè)置有電鍍液分析裝置和水泵,所述電鍍液分析裝置設(shè)置在電鍍池中部,所述電鍍池通過(guò)第一管路連接過(guò)渡池,所述過(guò)渡池內(nèi)中部設(shè)置有電鍍液分析裝置,所述過(guò)渡池通過(guò)第二管路連接加料裝置,所述加料裝置高于過(guò)渡池。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池,其特征在于,所述過(guò)渡池內(nèi)設(shè)置有水泵,所述第一管路的兩端都設(shè)置有電磁閥。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池,其特征在于,所述第二管路設(shè)置有電磁閥。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池,包括電鍍池,所述電鍍池內(nèi)設(shè)置有電鍍液分析裝置和水泵,所述電鍍液分析裝置設(shè)置在電鍍池中部,所述電鍍池通過(guò)第一管路連接過(guò)渡池,所述過(guò)渡池內(nèi)中部設(shè)置有電鍍液分析裝置,所述過(guò)渡池通過(guò)第二管路連接加料裝置,所述加料裝置高于過(guò)渡池。該種鍍液成份超標(biāo)自動(dòng)處理的鍍液池,可以對(duì)超標(biāo)的電解液成分進(jìn)行自動(dòng)處理,從而使得電解液的濃度維持恒定。結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,控制方式簡(jiǎn)單,安全環(huán)保,成本低廉,可以將電解液循環(huán)使用。
【IPC分類】C25D21-14
【公開(kāi)號(hào)】CN204434760
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520055525
【發(fā)明人】趙進(jìn)明
【申請(qǐng)人】淮安國(guó)豐電子科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年7月1日
【申請(qǐng)日】2015年1月27日
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