一種異型陰極電解槽的鋪焦方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于異型陰極鋁電解槽焙燒啟動(dòng)【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種異型陰極電解槽的鋪焦方法。鋪焦時(shí)異型陰極凹槽處用3-5mm粒度的石墨碎填平，填平后上層鋪陳配比好的焦粒。本發(fā)明針對(duì)異型陰極電解槽的鋪焦方法，操作簡(jiǎn)單，成本低，節(jié)能效果顯著，焙燒啟動(dòng)可達(dá)到預(yù)期效果。
【專利說(shuō)明】一種異型陰極電解槽的鋪焦方法
[0001]
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明屬于異型陰極鋁電解槽焙燒啟動(dòng)【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種異型陰極電解槽的鋪焦方法。
【背景技術(shù)】
[0003]目前，許多大型預(yù)焙電解槽采用的都是平底陰極電解槽，其焦粒配比及鋪焦方法等技術(shù)已經(jīng)非常成熟。但是隨著異型陰極電解槽的大批引入，由于異型陰極“凸臺(tái)”的特有結(jié)構(gòu)，原來(lái)適合平底陰極電解槽的焦粒配比，尤其是鋪焦方法等不再適用，給生產(chǎn)帶來(lái)了新的技術(shù)難題。對(duì)于適合異型陰極電解槽的鋪焦方法的探索也成為了本領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種異型陰極電解槽的鋪焦方法。
[0005]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案如下:
一種異型陰極電解槽的鋪焦方法，鋪焦時(shí)異型陰極凹槽處用3-5_粒度的石墨碎填平壓實(shí)，填平后上層鋪陳配比好的焦粒；所述配比好的焦粒中，焦粒A:焦粒B:焦粒C:石墨碎D的質(zhì)量比為9:6:5:4，焦粒A的粒度為0.5-lmm，焦粒B的粒度為l_2mm，焦粒C的粒度為2-3mm，石墨碎D的粒度為2_3mm，且焦粒A、B、C以及石墨碎D的粒度不相同。
[0006]凹槽處填充的石墨碎與配比好的焦粒的質(zhì)量比為2.5-3.5:1，石墨碎用量因凸臺(tái)高度的不同而增減，高度在11 0-150 mm不等。
[0007]異型陰極凹槽處填平壓實(shí)后上層配比好的焦粒厚度25mm。目的是增加密實(shí)度，利于導(dǎo)電。
[0008]焦粒和石墨碎使用前進(jìn)行8-10小時(shí)的加熱烘干，烘干溫度不低于100°C。
[0009]本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn):
1.電解槽焙燒時(shí)間由原來(lái)的96小時(shí)縮短為84小時(shí)，單臺(tái)電解槽節(jié)電約lOOOOKWh，節(jié)
能效果顯著。
[0010]2.有利于焙燒期間陽(yáng)極導(dǎo)桿電流分布均勻度控制，焙燒期間陽(yáng)極電流分布在5-lOmv之間，杜絕了因陽(yáng)極電流分布不均導(dǎo)致的脫爪現(xiàn)象發(fā)生。
[0011]3.有利于焙燒期間爐膛溫升梯度和均勻度的控制，溫升梯度不超過(guò)15°C /h，爐膛最高溫度950-1000°C，最低溫度500-550°C，溫升均勻，對(duì)爐膛的熱沖擊小，避免電解槽內(nèi)襯的早期裂紋破損，有利于延長(zhǎng)電解槽壽命，節(jié)能效果顯著。
[0012]4.啟動(dòng)前爐膛平均溫度700_750°C，爐膛溫度均勻，焙燒效果好，避免了之前因平均溫度過(guò)高導(dǎo)致的陰極凸臺(tái)脫落和啟動(dòng)后爐底鋼板溫度超過(guò)120°C的現(xiàn)象，有利于電解槽的穩(wěn)定運(yùn)行和后期管理中經(jīng)濟(jì)技術(shù)指標(biāo)的提聞。
[0013]本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下優(yōu)點(diǎn):本發(fā)明針對(duì)異型陰極電解槽特有的陰極結(jié)構(gòu)，采用新的焦粒配比和鋪焦方法，保證電解槽鋪焦和焙燒效果。方法操作簡(jiǎn)單，投入成本低，焙燒期間電流分布、爐膛溫度均勻，啟動(dòng)前達(dá)到預(yù)期溫度和效果，啟動(dòng)后電解槽各項(xiàng)技術(shù)指標(biāo)和技術(shù)參數(shù)正常。本發(fā)明方法適用于所有異型陰極電解槽，有很廣的推廣價(jià)值和實(shí)用性。
【具體實(shí)施方式】
[0014]以下以具體實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限于此: 一種異型陰極電解槽的鋪焦方法，首先進(jìn)行焦粒的配比:焦粒A:焦粒B:焦粒C:石墨
碎D的質(zhì)量比為9:6:5: 4，總重量750Kg，焦粒A的粒度為0.5-lmm,焦粒B的粒度為l_2mm，焦粒C的粒度為2-3mm，石墨碎D的粒度為2_3mm，且焦粒A、B、C以及石墨碎D的粒度不相同。配焦后連同粒度為3-5_的石墨碎一起進(jìn)行8小時(shí)的加熱烘干，溫度不低于100°C。
[0015]進(jìn)行鋪焦:將異型陰極凹槽處用3_5mm粒度的石墨碎填平壓實(shí)，填平時(shí)，先在凹槽處倒入石墨碎，高于凸臺(tái)20_公分，用陽(yáng)極壓平夯實(shí)。高出凸臺(tái)部分用水平桿刮掉取出，保證上表面平整。上層鋪陳配比好的焦粒，厚度為25mm。
【權(quán)利要求】
1.一種異型陰極電解槽的鋪焦方法，其特征在于，鋪焦時(shí)異型陰極凹槽處用3-5 mm粒度的石墨碎填平壓實(shí)，填平后上層鋪陳配比好的焦粒；所述配比好的焦粒中，焦粒A:焦粒B:焦粒C:石墨碎D的質(zhì)量比為9:6:5:4，焦粒A的粒度為0.5-1mm，焦粒B的粒度為1-2mm，焦粒C的粒度為2-3mm，石墨碎D的粒度為2-3mm，且焦粒A、B、C以及石墨碎D的粒度不相同。
2.如權(quán)利要求1所述的異型陰極電解槽的鋪焦方法，其特征在于，凹槽處填充的石墨碎與配比好的焦粒的質(zhì)量比為2.5-3.5:1。
3.如權(quán)利要求1所述的異型陰極電解槽的鋪焦方法，其特征在于，異型陰極凹槽處填平壓實(shí)后上層配比好的焦粒厚度25mm。
4.如權(quán)利要求1-3任一所述的異型陰極電解槽的鋪焦方法，其特征在于，焦粒和石墨碎使用前進(jìn)行8-10小時(shí)的加熱烘干，烘干溫度不低于100°C。
【文檔編號(hào)】C25C3/08GK103510114SQ201310407284
【公開(kāi)日】2014年1月15日 申請(qǐng)日期:2013年9月10日 優(yōu)先權(quán)日:2013年9月10日
【發(fā)明者】王超, 鄭宇 , 李建峰 申請(qǐng)人:河南中孚實(shí)業(yè)股份有限公司