專利名稱：一種陰極底座的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及電解設(shè)備，特別涉及陰極底座。
背景技術(shù)：
電解過程中是通過整流器把高電壓、低電流轉(zhuǎn)換成低電壓、高電流；整個處理工藝，電流是關(guān)鍵因素，所以就要求整個設(shè)備接觸很好，電能損耗最小，這樣對于提高產(chǎn)量，降低運行成本是十分有必要?，F(xiàn)有技術(shù)包括用螺絲鎖接觸面或者接觸點、用電纜線連接。其缺陷是接觸較差、導(dǎo)致發(fā)熱。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種陰極底座。本實用新型的技術(shù)方案是一種陰極底座，包括基座，其上設(shè)有凹槽；楔形塊，其下部形狀與該凹槽形狀相匹配。其中該凹槽為V形。相應(yīng)地，該楔形塊的下部同樣為V形，并且該楔形塊上部設(shè)有狹槽。本實用新型的積極進(jìn)步效果在于增加銅塊接觸點面積，降低電阻，減少電耗；增強(qiáng)機(jī)械強(qiáng)度，防止銅碼座變形、移位；操作簡捷方便，無須拆卸，減少技術(shù)人員操作過程中風(fēng)險隱患。

圖1是本實用新型一實施例的立體組合示意圖。圖2是圖1中的基座的立體示意圖。圖3是圖1中的楔形塊的立體示意圖。
具體實施方式
如圖1所示，本實用新型一實施例中，陰極底座10包括基座100和楔形塊200。如圖2所示，該基座100上設(shè)有V型凹槽110。如圖3所示，該楔形塊200的下部210的形狀與該V型凹槽110的形狀相匹配。該楔形塊200的上部設(shè)有狹槽220，其中可設(shè)有電解飛靶。該陰極底座可由電的良導(dǎo)體材料制成，如銅。本實用新型用V型銅底座，其優(yōu)點體現(xiàn)在下面增大了銅塊接觸點相互之間的面積，電阻變小，降低電能的損耗。V型銅底座上下能完全吻合，相互間沒空隙，不會因為接觸不好，引起銅碼座發(fā)熱，導(dǎo)致設(shè)備運行效率低下。陰極V型銅底座能承受一定重量，不變形， 不張裂。使用中，連接整流器輸出電流給V形銅底座，直至飛靶，進(jìn)行電解工作。V形銅底座正好解決了接觸面積小、電阻大以及電解過程中難以觀察電解狀況問題。
權(quán)利要求1.一種陰極底座，其特征在于，其包括基座，其上設(shè)有凹槽；楔形塊，其下部形狀與該凹槽形狀相匹配。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰極底座，其特征在于，該凹槽為V形，該楔形塊的下部同樣為V形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰極底座，其特征在于，該楔形塊上部設(shè)有狹槽。
專利摘要本實用新型公開一種陰極底座，包括基座，其上設(shè)有凹槽；楔形塊，其下部形狀與該凹槽形狀相匹配。本實用新型增加了銅塊接觸點面積，降低電阻，減少電耗；增強(qiáng)機(jī)械強(qiáng)度，防止銅碼座變形、移位；操作簡捷方便，無須拆卸，減少技術(shù)人員操作過程中風(fēng)險隱患。
文檔編號C25C7/00GK202272963SQ20112033707
公開日2012年6月13日 申請日期2011年9月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月9日
發(fā)明者翁意晴 申請人:中澤技鑫環(huán)?？萍?上海)有限公司