專利名稱：一種半封閉式指狀隔板電解槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種電解槽，尤其涉及一種用于提純金屬鎵的半封閉式指 狀隔板電解槽
背景技術(shù)：
金屬鎵熔點為3(TC,其在電解過程中以液態(tài)形式存在，所以其電解提純有 別于一般固態(tài)金屬的電解方法?，F(xiàn)有的鎵電解槽在底部分割為兩個隔離的區(qū)域， 區(qū)域呈兩個同心圓形狀，上部敞口。當(dāng)液態(tài)鎵放入后，成為電解時的陰極區(qū)、 陽極區(qū)。電解時，上述陰極區(qū)、陽極區(qū)分布結(jié)構(gòu)進(jìn)行電化學(xué)反應(yīng)存在較大的反 電場，增大電子遷移的難度，產(chǎn)生了較大的濃差極化現(xiàn)象，增加了電耗，降低 了電解效率。而且這樣的電解槽裝占用空間較大，陰、陽極的界面比小，效率 低，不適用于大規(guī)模生產(chǎn)。現(xiàn)有的電解槽內(nèi)使用的是堿性電解液，在電解過程 中，空氣中的二氧化碳會與堿性電解液發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成溶解度較小的碳酸鹽， 影響電解液的使用壽命并大大降低了電解效率
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的在于克服上述不足，提供一種用于提純金屬鎵的半封閉 式指狀隔板電解槽。
本實用新型的技術(shù)方案如下 一種半封閉式指狀隔板電解槽，所述電解槽 上部設(shè)有遮蓋裝置，所述電解槽底部設(shè)有指狀隔板，將電解槽底部分為相互隔 絕的兩部分，分別成為電解時的陰極區(qū)和陽極區(qū)。
所述陰極區(qū)和陽極區(qū)電解時分別放置金屬鎵。
所述遮蓋裝置為帶有氣孔的蓋子。
本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的有益效果是電解槽加蓋后，大大減少 了電解液與空氣的接觸，避免了空氣中的二氧化碳與堿性電解液發(fā)生化學(xué)反應(yīng)， 延長了電解槽的使用壽命并大大提高了電解效率；電解槽底部設(shè)有指狀隔板， 改變了陰極區(qū)、陽極區(qū)分布結(jié)構(gòu)，增加了陰極、陽極的界面比，節(jié)約了電耗， 提升電解效果。說明書第2/2頁


圖l為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和具體實施方式
對本實用新型作詳細(xì)描述。 實施例l:如圖1所示， 一種半封閉式指狀隔板電解槽，電解槽上部設(shè)有帶 有氣孔1的蓋子2，電解槽底部設(shè)有指狀隔板4，將電解槽底部分為相互隔絕的 兩部分，分別成為電解時的陰極區(qū)3和陽極區(qū)5,陰極區(qū)和陽極區(qū)電解時分別放 置金屬鎵。電解槽加蓋后，大大減少了電解液與空氣的接觸，避免了空氣中的 二氧化碳與堿性電解液發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，延長了電解槽的使用壽命并大大提高了 電解效率，蓋子上的氣孔又可以將電解時產(chǎn)生的氣體排出，從而形成半封閉式 電解槽；電解槽底部設(shè)有指狀隔板，改變了陰極區(qū)、陽極區(qū)分布結(jié)構(gòu)，增加了 陰極、陽極的界面比，節(jié)約了電耗，提升電解效果。
除上述實施例外，本實用新型還可以有其他實施方式，凡釆用等同替換或 等效變換形成的技術(shù)方案，均落在本實用新型要求的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種半封閉式指狀隔板電解槽，其特征在于所述電解槽上部設(shè)有遮蓋裝置，所述電解槽底部設(shè)有指狀隔板，將電解槽底部分為相互隔絕的兩部分，分別成為電解時的陰極區(qū)和陽極區(qū)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種半封閉式指狀隔板電解槽，其特征在于所述陰極 區(qū)和陽極區(qū)電解時分別放置金屬鎵。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種半封閉式指狀隔板電解槽，其特征在于所述遮蓋 裝置為帶有氣孔的蓋子。
專利摘要本實用新型公開了一種半封閉式指狀隔板電解槽，所述電解槽上部設(shè)有遮蓋裝置，所述電解槽底部設(shè)有指狀隔板，將電解槽底部分為相互隔絕的兩部分，分別成為電解時的陰極區(qū)和陽極區(qū)。電解槽加蓋后，大大減少了電解液與空氣的接觸，避免了空氣中的二氧化碳與堿性電解液發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，延長了電解槽的使用壽命并大大提高了電解效率；電解槽底部設(shè)有指狀隔板，改變了陰極區(qū)、陽極區(qū)分布結(jié)構(gòu)，避免了電解時濃差極化現(xiàn)象的產(chǎn)生，節(jié)約了電耗，提升電解效果。
文檔編號C25C7/00GK201358303SQ200920036929
公開日2009年12月9日 申請日期2009年3月2日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月2日
發(fā)明者劉文兵, 張長平, 范家驊, 陸森云, 鹿勤儉 申請人:南京金美鎵業(yè)有限公司