專利名稱：電鑄槽的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在精密模具表面覆蓋金屬層的電鑄設(shè)備，具體地說(shuō)是 涉及該種設(shè)備中的電鑄槽。
背景技術(shù)：
電鑄在工業(yè)中的應(yīng)用日漸深入，廣泛主要用作制取各種難以用機(jī)械加 工方法制造或加工成本很高的零件，在精密模具、航空航天、兵器制造等 領(lǐng)域已經(jīng)得到了許多重要應(yīng)用，如光學(xué)精密模具、火箭發(fā)動(dòng)機(jī)燃燒室、電 加工電極、收音機(jī)電視錄像記錄盤(pán)、激光防偽商標(biāo)模版等。
這類電鑄產(chǎn)品通常有很高的精度要求，而且需要一定的厚度要求，
如作為回復(fù)反射器注塑模具用的光學(xué)模仁就需要有大概15mm厚度。然 而，對(duì)于精度要求高的電鑄產(chǎn)品，形成l隨的電鑄層就需要24小時(shí)的電鑄 時(shí)間，因此如要形成20mm厚度的電鑄層，便需要20天的電鑄時(shí)間。在這漫 長(zhǎng)的沉積時(shí)間內(nèi)，必須保證電鑄液保持純凈及工藝參數(shù)(添加劑含量、溫 度、液位等)的穩(wěn)定，若稍有差錯(cuò)就必須重新電鑄再加工，而更加影響效 率。
現(xiàn)有的電鑄槽只有一個(gè)電鑄工作區(qū)，電鑄液凈化、添加、加溫均在這 個(gè)工作區(qū)內(nèi)完成，很難保證電鑄液保持純凈及工藝參數(shù)(添加劑含量、溫 度、液位等)的穩(wěn)定，電鑄效果不佳，電鑄成功率不高，電鑄母模表面光 潔度和平整度不是很好。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種新型的高效連續(xù)凈化電鑄槽，實(shí)現(xiàn) 了在連續(xù)生產(chǎn)中保持電鑄液的純凈同時(shí)能穩(wěn)定電鑄的工藝參數(shù)，解決了生 產(chǎn)中電鑄液受污染的問(wèn)題，減少停機(jī)時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。
為了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明目的，采用下述技術(shù)方案給予解決
一種電鑄槽，包括機(jī)殼、依次設(shè)在機(jī)殼體內(nèi)的連續(xù)三個(gè)區(qū)域，分別為 電鑄凈化區(qū)、電鑄工作區(qū)和溢流凈化區(qū)。
電鑄凈化區(qū)內(nèi)設(shè)有電解除金屬雜質(zhì)裝置、加熱裝置和電鑄藥劑添加裝 置進(jìn)口；電鑄工作區(qū)內(nèi)設(shè)有電鑄陽(yáng)極、電鑄陰極；所述溢流凈化區(qū)內(nèi)設(shè)有 電鑄液液位4企測(cè)裝置和補(bǔ)充裝置。電鑄凈化區(qū)與電鑄工作區(qū)之間設(shè)有電鑄液分區(qū)裝置，電鑄液從電鑄凈 化區(qū)通過(guò)電鑄液分區(qū)裝置溢流至電鑄工作區(qū)，電鑄工作區(qū)與電鑄凈化區(qū)之
間設(shè)有使電鑄液能從機(jī)殼體外回流至電鑄凈化區(qū)的回流裝置；電鑄工作區(qū) 與溢流凈化區(qū)之間設(shè)有電鑄液分區(qū)設(shè)備，電鑄液從電鑄工作區(qū)通過(guò)電鑄液 分區(qū)設(shè)備溢流至溢流凈化區(qū)，溢流凈化區(qū)與電鑄凈化區(qū)之間設(shè)有使電鑄液 能從機(jī)殼體外回流至電鑄凈化區(qū)的回流設(shè)備。
上述^l支術(shù)方案還可通過(guò)以下改動(dòng)作進(jìn)一步完善
由于加熱裝置和藥劑自動(dòng)添加系統(tǒng)設(shè)在電鑄凈化區(qū)內(nèi)，所述電鑄凈化 區(qū)盛裝電鑄液的容積大于電鑄工作區(qū)盛裝電鑄液的容積，且一般控制在1.5 至5倍之間，以2倍左右較優(yōu)，該設(shè)計(jì)保證電鑄液工藝參數(shù)(添加劑含量、 溫度等)的穩(wěn)定且符合在電鑄工作區(qū)工藝要求，保證了電鑄穩(wěn)定。由于電 解凈化區(qū)的電鑄液總?cè)萘渴请婅T工作區(qū)1.5倍以上，同時(shí)電鑄液在電解凈化 區(qū)經(jīng)過(guò)電解除金屬雜質(zhì)凈化、溫控系統(tǒng)加熱、藥劑自動(dòng)添加系統(tǒng)后溢流進(jìn) 入電鑄工作區(qū)，并單向流動(dòng)。因此，電鑄工作區(qū)中的電鑄液被已經(jīng)經(jīng)過(guò)凈 化處理高純度的藥液合理的替換，從而保證了電鑄工作區(qū)內(nèi)的電鑄液的純 凈，并且保證了電鑄工藝參數(shù)(添加劑含量、溫度等)的穩(wěn)定。另一方 面，電鑄液的循環(huán)使用，不需要由外界補(bǔ)充得到所述的電鑄體系，因而在 保障電鑄工藝參數(shù)穩(wěn)定的同時(shí)，能夠極大的減少維護(hù)費(fèi)用。
而電鑄工作區(qū)盛裝電鑄液的容積大于溢流凈化區(qū)盛裝電鑄液的容積， 也一般控制在2到7倍之間，以4倍較優(yōu)。在溢流凈化區(qū)內(nèi)補(bǔ)加的純水，經(jīng) 過(guò)二次緩沖(流經(jīng)溢流凈化區(qū)和電鑄凈化區(qū))后才進(jìn)入電鑄工作區(qū)最大限 度的降低了工藝參數(shù)的波動(dòng)，保證了電鑄液工藝工作參數(shù)的穩(wěn)定，為精密 電鑄提供了有力的保障，降低了生產(chǎn)成本。溢流凈化區(qū)電鑄液來(lái)源于電鑄 工作區(qū)的溢流，區(qū)內(nèi)設(shè)置活性炭過(guò)濾系統(tǒng)消除大分子有機(jī)雜質(zhì)污染，凈化 電鑄液。
由于電鑄液氣味難聞，為了保證工作場(chǎng)所環(huán)境，把所述機(jī)殼側(cè)壁設(shè)計(jì) 為夾層結(jié)構(gòu)，在高于電鑄液液面的機(jī)殼側(cè)壁內(nèi)層設(shè)有進(jìn)氣口，機(jī)殼側(cè)壁外 層設(shè)有出氣口，這樣氣味可以集中排放。
所述電解除金屬雜質(zhì)裝置包括除雜質(zhì)陽(yáng)極和除雜質(zhì)陰極，電鑄的鎳鈷 等金屬在陽(yáng)極添加，所述除雜質(zhì)陰極為金屬篩網(wǎng)，篩網(wǎng)橫跨機(jī)殼插在電鑄 凈化區(qū)內(nèi)，電鑄液從篩網(wǎng)穿過(guò)，篩網(wǎng)孔徑在2-7mm,并制作成瓦楞狀，用以增加電解的表面積。篩網(wǎng)表面積大于除雜質(zhì)陽(yáng)極表面積，除雜質(zhì)陽(yáng)極和篩
網(wǎng)的表面積比小于1: 6，除雜質(zhì)陰極電流密度約為0. 1至0. 2安培/平方分 米，電鑄液從篩網(wǎng)流過(guò)的同時(shí)，經(jīng)過(guò)低電流密度電解凈化，除去銅離子、 鋅離子等金屬離子雜質(zhì)，篩網(wǎng)一旦堵塞可以隨時(shí)更換。
所述電鑄凈化區(qū)和電鑄工作區(qū)之間的分區(qū)裝置為兩塊擾流板，兩塊擾 流板相離，靠近電鑄凈化區(qū)的第一擾流板兩側(cè)面與機(jī)殼側(cè)壁內(nèi)層連接，底 面與機(jī)殼底面相離以使電鑄液從第一擾流板底部通過(guò)，靠近電鑄工作區(qū)的 第二擾流板兩側(cè)面與機(jī)殼側(cè)壁內(nèi)層連接，底面與機(jī)殼底面連接，電鑄液從 第二擾流板頂面溢流進(jìn)入電鑄工作區(qū)。這樣微小氣泡一直處于電鑄工作區(qū) 的電鑄液上面，避免了微小氣泡進(jìn)入電鑄液內(nèi)部吸附在電鑄母模上形成氣 孔。
所述電鑄工作區(qū)內(nèi)在電鑄陽(yáng)極和電鑄陰極之間設(shè)有電流擋板，電流擋 板上開(kāi)孔，孔的大小與安裝在電鑄陰極上的電鑄母模的電鑄面積一致，并 且與電鑄母模平行安裝。該電流擋板模擬象形陽(yáng)極的設(shè)計(jì)，最大限度的使 電鑄工作中整個(gè)電鑄母模的電流密度均勻，減小了電流的繞流現(xiàn)象，保證 了電鑄產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定。
所述電鑄工作區(qū)和溢流凈化區(qū)之間的分區(qū)設(shè)備包括分區(qū)擋板，分區(qū)擋 板兩側(cè)面與機(jī)殼側(cè)壁內(nèi)層連接，底面與機(jī)殼底面連接，電鑄液從分區(qū)擋板 頂面溢流至溢流凈化區(qū)。電鑄藥液中的大分子有機(jī)雜質(zhì)會(huì)懸浮在溢流凈化 區(qū)的電鑄液的表面，這樣含有大分子有機(jī)物漂浮物的電鑄液經(jīng)溢流收集， 通過(guò)活性炭過(guò)濾裝置，除去大分子有機(jī)雜質(zhì)以保障精密電鑄工作的順利進(jìn) 行。過(guò)濾裝置采用最大過(guò)濾孔徑為1pm的精密過(guò)濾機(jī)，并在過(guò)濾機(jī)內(nèi)裝如 顆粒狀的活性炭對(duì)大分子有機(jī)雜質(zhì)進(jìn)行吸附。其每小時(shí)的過(guò)濾量為溢流凈 化區(qū)電鑄液總量的五倍以上，以保證電鑄液的純凈，減少電鑄液中的大分 子有機(jī)雜質(zhì)影響。溢流進(jìn)入溢流凈化區(qū)的電鑄液，經(jīng)過(guò)活性炭過(guò)濾后進(jìn)入 進(jìn)入電解凈化區(qū)。
所述電鑄液液位檢測(cè)裝置和補(bǔ)充裝置為浮球閥。 一旦電鑄液液位低于 設(shè)計(jì)時(shí)，浮球閥動(dòng)作，溢流凈化區(qū)內(nèi)可得到純水補(bǔ)充。
所述電鑄工作區(qū)內(nèi)的電鑄液從機(jī)殼體外回流至電鑄凈化區(qū)所采用的回 流裝置包括回流管，回流管進(jìn)口位于電鑄工作區(qū)底部，回流管出口位于電 鑄凈化區(qū)的除雜質(zhì)陽(yáng)極和除雜質(zhì)陰極之間，回流后的電鑄液可以重新得到凈化?；亓鞴苌显O(shè)有精密過(guò)濾器，該精密過(guò)濾器為現(xiàn)有技術(shù)，過(guò)濾裝置采
用最大過(guò)濾孔徑為1Mm的精密過(guò)濾器，精密過(guò)濾器每小時(shí)的過(guò)濾量為電鑄 工作區(qū)電鑄液總量的十倍以上，以保證電鑄液的純凈，減少電鑄液中顆粒 雜質(zhì)的影響。
所述溢流凈化區(qū)內(nèi)的電鑄液從機(jī)殼體外回流至電鑄凈化區(qū)所采用的回 流設(shè)備包括回流管，回流管進(jìn)口位于溢流凈化區(qū)底部，回流管出口位于電 鑄凈化區(qū)的除雜質(zhì)陽(yáng)極和除雜質(zhì)陰極之間，回流后的電鑄液可以重新得到 凈化。所述回流管上設(shè)有吸附大分子有機(jī)物的活性炭裝置。
通過(guò)上述技術(shù)方案，可以得出本發(fā)明具有下述優(yōu)點(diǎn)本專利實(shí)現(xiàn)了在 連續(xù)生產(chǎn)中保持電鑄液的純凈，解決了生產(chǎn)中電鑄液受污染的問(wèn)題，減少 停機(jī)時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。使電鑄母模表面光潔度和平穩(wěn)度都大大提高， 電鑄場(chǎng)所空氣無(wú)異^K，工作環(huán)境大大得到改善。


圖1為實(shí)施例立體圖2為實(shí)施例另一角度立體圖3為實(shí)施例剖切后一部分產(chǎn)品立體圖4為實(shí)施例剖切后的另一部分產(chǎn)品立體圖5為實(shí)施例俯視圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳述。
實(shí)施例，結(jié)合圖1至圖5， 一種電鑄槽，包括機(jī)殼1、設(shè)在機(jī)殼體內(nèi)的 連續(xù)三個(gè)區(qū)域，分別為電鑄凈化區(qū)2、電鑄工作區(qū)3和溢流凈化區(qū)4，電鑄 凈化區(qū)2裝的電鑄液體積為電鑄工作區(qū)3的2倍，溢流凈化區(qū)4裝的電鑄液 體積為電鑄工作區(qū)3的20%。機(jī)殼1側(cè)壁為夾層結(jié)構(gòu)，高于電鑄液液面的機(jī) 殼側(cè)壁內(nèi)層設(shè)有進(jìn)氣口 11，機(jī)殼側(cè)壁外層設(shè)有出氣口 12,出氣口與外界連 接的排氣裝置(圖中未示出)連接，實(shí)現(xiàn)集中抽氣排放。
電鑄凈化區(qū)2內(nèi)起始端部設(shè)有除雜質(zhì)陽(yáng)極20和除雜質(zhì)陰極21，所述除 雜質(zhì)陰極21為不銹鋼篩網(wǎng)，篩網(wǎng)橫跨機(jī)殼1插在電鑄凈化區(qū)內(nèi)，篩網(wǎng)表面 積大于除雜質(zhì)陽(yáng)極表面積。電鑄凈化區(qū)內(nèi)還設(shè)有加熱用的電發(fā)熱管22和電 鑄藥劑添加裝置23，例如自動(dòng)控制電鑄液溫度為5o士rc,自動(dòng)調(diào)節(jié)氬離 子濃度為4.1±0. lpH，通過(guò)添加劑的控制加入適當(dāng)?shù)刈詣?dòng)調(diào)節(jié)電鑄液的沉
7積應(yīng)力。
一旦電鑄藥劑添加裝置檢測(cè)到氬離子濃度或沉積應(yīng)力偏離設(shè)定
值，電鑄藥劑添加裝置開(kāi)啟電鑄藥劑加入電鑄凈化區(qū)2，本實(shí)施例在圖中只 示出了電鑄藥劑添加裝置進(jìn)口 ，該裝置為現(xiàn)有技術(shù)故省略。
電鑄凈化區(qū)2與電鑄工作區(qū)3之間設(shè)有兩塊擾流板24、 30，兩塊擾流 板相離，第一擾^^反24兩側(cè)面與機(jī)殼1側(cè)壁內(nèi)層連接，底面與機(jī)殼底面相 離以使電鑄液從第一擾流板24底部通過(guò)，第二擾流板30兩側(cè)面與機(jī)殼側(cè)壁 內(nèi)層連接，底面與機(jī)殼底面連接，電鑄液從第二擾流板30頂面溢流進(jìn)入電 鑄工作區(qū)3。
電鑄工作區(qū)3內(nèi)設(shè)有電鑄陽(yáng)極31、電流擋板32、電鑄陰極33。電鑄母 模為電鑄陰極33。電鑄陽(yáng)極31和電鑄陰極33之間設(shè)有電流擋板32 (用于 模擬象形陽(yáng)極工作)，電流擋板32上開(kāi)孔34，孑L 34的大小與安裝在電鑄 陰極上的電鑄母模的電鑄面積一致。
電鑄工作區(qū)3與電鑄凈化區(qū)2之間設(shè)有使電鑄液能從機(jī)殼體外回流至電 鑄凈化區(qū)的回流裝置。所述回流裝置包括回流管5A和回流管5B,回流管5A 和回流管5B進(jìn)口位于電鑄工作區(qū)3底部，回流管5A和回流管5B出口位于 電鑄凈化區(qū)2的位于除雜質(zhì)陽(yáng)極20和除雜質(zhì)陰極21之間。所述回流管上設(shè) 有精密過(guò)濾器(圖中未示出)，每臺(tái)精密過(guò)濾器每小時(shí)的過(guò)濾量為電鑄工 作區(qū)電鑄液總量的十倍以上，以保證電鑄液的純凈，減少電鑄液中顆粒雜 質(zhì)的影響。同時(shí)加快電鑄液的單向流動(dòng)，起到強(qiáng)烈的攪拌效果，及時(shí)補(bǔ)充 電鑄層表面的離子濃度。與傳統(tǒng)攪拌方法(如氣體攪拌)相比具有效率 高、不會(huì)從外界引入新的污染源(如空氣中的灰塵等)等優(yōu)點(diǎn)，減少了電 鑄工藝波動(dòng)(如空氣攪拌引起電鑄液的溫度波動(dòng))，提高了電鑄的準(zhǔn)確 性。
電鑄工作區(qū)3與溢流凈化區(qū)4之間設(shè)有分區(qū)擋板40，分區(qū)擋板40兩側(cè) 面與機(jī)殼側(cè)壁內(nèi)層連接，底面與機(jī)殼底面連接，電鑄液從分區(qū)擋板頂面溢 流至溢流凈化區(qū)。
所述溢流凈化區(qū)4內(nèi)設(shè)有檢測(cè)電鑄液液位和補(bǔ)充純水的浮球閥41。 溢流凈化區(qū)4與電鑄凈化區(qū)2之間設(shè)有使電鑄液能從機(jī)殼體外回流至電 鑄凈化區(qū)的回流設(shè)備。所述回流設(shè)備包括回流管6，回流管6進(jìn)口位于溢流 凈化區(qū)4底部，回流管6出口位于電鑄凈化區(qū)的除雜質(zhì)陽(yáng)極20和除雜質(zhì)陰極n之間。所述回流管6上設(shè)有吸附大分子有機(jī)物的吸附器(圖中未示 出)。
盡管以上結(jié)合具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做了詳細(xì)說(shuō)明，但本發(fā)明不應(yīng)該局 限于上述的具體實(shí)施例或方案。在不超出本發(fā)明的精神和范圍的前提下，本 領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以對(duì)上述的實(shí)施例、技術(shù)方案或技術(shù)特征組合進(jìn)行修 改。
權(quán)利要求
1、一種電鑄槽，包括機(jī)殼、設(shè)在機(jī)殼體內(nèi)的電鑄工作區(qū)，電鑄工作區(qū)內(nèi)設(shè)有電鑄陽(yáng)極、電鑄陰極，其特征在于所述機(jī)殼體內(nèi)還設(shè)有電鑄凈化區(qū)和溢流凈化區(qū)，電鑄凈化區(qū)和溢流凈化區(qū)分別位于電鑄工作區(qū)兩端，電鑄凈化區(qū)內(nèi)設(shè)有電解除金屬雜質(zhì)裝置、加熱裝置和電鑄藥劑添加裝置進(jìn)口，電鑄凈化區(qū)與電鑄工作區(qū)之間設(shè)有電鑄液分區(qū)裝置，電鑄液從電鑄凈化區(qū)通過(guò)電鑄液分區(qū)裝置溢流至電鑄工作區(qū)，電鑄工作區(qū)與電鑄凈化區(qū)之間設(shè)有使電鑄液能從機(jī)殼體外回流至電鑄凈化區(qū)的回流裝置，所述溢流凈化區(qū)內(nèi)設(shè)有電鑄液液位檢測(cè)裝置和補(bǔ)充裝置，電鑄工作區(qū)與溢流凈化區(qū)之間設(shè)有電鑄液分區(qū)設(shè)備，電鑄液從電鑄工作區(qū)通過(guò)電鑄液分區(qū)設(shè)備溢流至溢流凈化區(qū)，溢流凈化區(qū)與電鑄凈化區(qū)之間設(shè)有使電鑄液能從機(jī)殼體外回流至電鑄凈化區(qū)的回流設(shè)備。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述電鑄槽，其特征在于所述電鑄凈化區(qū)容 積為電鑄工作區(qū)容積的1.5至5倍，電鑄工作區(qū)容積為溢流凈化區(qū)容 積的2到7倍。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述電鑄槽，其特征在于所述機(jī)殼側(cè)壁 為夾層結(jié)構(gòu)，高于電鑄液液面的機(jī)殼側(cè)壁內(nèi)層設(shè)有進(jìn)氣口，機(jī)殼側(cè)壁 外層設(shè)有出氣口。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述電鑄槽，其特征在于所述電解除金屬雜 質(zhì)裝置包括除雜質(zhì)陽(yáng)極和除雜質(zhì)陰極，所述除雜質(zhì)陰極為金屬篩網(wǎng)， 篩網(wǎng)橫跨機(jī)殼插在電鑄凈化區(qū)內(nèi)，篩網(wǎng)表面積大于除雜質(zhì)陽(yáng)極表面 積。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1所述電鑄槽，其特征在于所述分區(qū)裝置包括 兩塊擾流板，兩塊擾流板相離，靠近電鑄凈化區(qū)的第 一擾流板兩側(cè)面 與機(jī)殼側(cè)壁內(nèi)層連接，底面與機(jī)殼底面相離以使電鑄液從第一擾流板 底部通過(guò)，靠近電鑄工作區(qū)的第二擾流板兩側(cè)面與機(jī)殼側(cè)壁內(nèi)層連 接，底面與機(jī)殼底面連接，電鑄液從第二擾流板頂面溢流進(jìn)入電鑄工 作區(qū)。
6、 根據(jù)權(quán)利要求1所述電鑄槽，其特征在于所述電鑄工作區(qū)內(nèi) 在電鑄陽(yáng)極和電鑄陰極之間設(shè)有電流擋板，電流擋板上開(kāi)孔，孔的大 小與安裝在電鑄陰極上的電鑄母模的電鑄面積一致。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1所述電鑄槽，其特征在于所述分區(qū)設(shè)備包括 分區(qū)擋板，分區(qū)擋板兩側(cè)面與機(jī)殼側(cè)壁內(nèi)層連接，底面與機(jī)殼底面連 接，電鑄液從分區(qū)擋板頂面溢流至溢流凈化區(qū)。
8、 根據(jù)權(quán)利要求1所述電鑄槽，其特征在于電鑄液液位檢測(cè)裝 置和補(bǔ)充裝置為浮^^閥。
9、 根據(jù)權(quán)利要求4所述電鑄槽，其特征在于所述回流裝置包括 回流管，回流管進(jìn)口位于電鑄工作區(qū)底部，回流管出口位于電鑄凈化 區(qū)的除雜質(zhì)陽(yáng)極和除雜質(zhì)陰極之間，回流管上設(shè)有精密過(guò)濾器。
10、 根據(jù)權(quán)利要求4所述電鑄槽，其特征在于所述回流設(shè)備包 括回流管，回流管進(jìn)口位于溢流凈化區(qū)底部，回流管出口位于電鑄凈 化區(qū)的除雜質(zhì)陽(yáng)極和除雜質(zhì)陰極之間，所述回流管上設(shè)有吸附大分子 有機(jī)物的吸附器。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種在精密模具表面覆蓋金屬層的電鑄設(shè)備，具體地說(shuō)是涉及一種電鑄槽。它包括機(jī)殼、設(shè)在機(jī)殼體內(nèi)的連續(xù)三個(gè)區(qū)域，分別為電鑄凈化區(qū)、電鑄工作區(qū)和溢流凈化區(qū)。電鑄凈化區(qū)內(nèi)設(shè)有電解除金屬雜質(zhì)裝置、加熱裝置和電鑄藥劑添加裝置；電鑄工作區(qū)內(nèi)設(shè)有電鑄陽(yáng)極、電鑄陰極以及電鑄液攪拌器；所述溢流凈化區(qū)內(nèi)設(shè)有電鑄液液位檢測(cè)裝置和補(bǔ)充裝置。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了在連續(xù)生產(chǎn)中保持電鑄液的純凈，解決了生產(chǎn)中電鑄液受污染的問(wèn)題，減少停機(jī)時(shí)間，提高生產(chǎn)效率。使電鑄母模表面光潔度和平穩(wěn)度都大大提高，電鑄場(chǎng)所空氣無(wú)異味，工作環(huán)境大大得到改善。
文檔編號(hào)C25D1/00GK101503810SQ200910103138
公開(kāi)日2009年8月12日 申請(qǐng)日期2009年1月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年1月20日
發(fā)明者劉常升, 唐顯仕, 彧 朱, 李曉彬, 韓海斌 申請(qǐng)人:賽特萊特(佛山)塑膠制品有限公司