本發(fā)明屬于環(huán)保設備技術領域，涉及一種凈化設備，尤其涉及一種電光離子多效凈化設備。

背景技術：

惡臭氣體對人類環(huán)境的影響是當今社會一個非常重要的問題，已經(jīng)引起人們越來越多的關注。在一些發(fā)達國家中，人們對惡臭投訴的比例也越來越高。在澳大利亞，對惡臭的投訴占環(huán)境污染總投訴的91.3％；在美國，占全部空氣污染投訴的50％以上；在日本為僅次于噪聲的第二位。在我國各大城市，居民對惡臭的投訴已呈現(xiàn)急劇增長的趨勢，引起了有關部門的高度重視。

惡臭物質種類繁多，目前人們發(fā)現(xiàn)環(huán)境中惡臭物質已達數(shù)萬種之多，單憑人的嗅覺能感知的就有4000多種，其中對人類危害較大的也有50多種。惡臭氣體按化學組成可分成5類：(1)含硫的化合物：h2s、so2、硫醇、硫醚等。含硫惡臭物質來源極廣，毒性極大。其中，硫化氫、甲硫醇和乙硫醇是典型的惡臭、有毒有害氣體；(2)含氮的化合物：胺類、酰胺、吲哚等；(3)鹵素及其衍生物：氯氣、鹵代烴等；(4)烴類：烷烴、烯烴、炔烴、芳香烴等；(5)含氧的有機物：醇、醛、酮、酚、酯、有機酸等。

惡臭污染通過發(fā)臭基團，如硫基、羰基等刺激嗅覺細胞，使人感到厭惡和不愉快。惡臭對人體呼吸、消化、心血管、內(nèi)分泌及神經(jīng)系統(tǒng)都會造成影響。高濃度的惡臭還可使接觸者發(fā)生肺水腫甚至窒息死亡，長期反復受到惡臭物質的刺激，還會引起嗅覺疲勞，導致嗅覺失靈。

我國于1993年頒布了惡臭污染排放標準，分年限規(guī)定了八種典型惡臭污染物的一次最大排放限值、復合惡臭物質的臭氣濃度限值及無組織排放原的廠界濃度限值(表1)。(表2)列出了一些常見惡臭物質的嗅覺闋值等性質，可以看到，惡臭物質在非常低的濃度(ppb級)就能對人產(chǎn)生嗅覺刺激。steven公式(i：惡臭強度，c：惡臭物質濃度)反映出，惡臭給人的感覺量(惡臭強度)與對人的刺激量(惡臭物質濃度)的對數(shù)成正比。上式說明，即使將惡臭物質去除90％，人在感覺上卻認為只去除了50％，這就決定了惡臭污染控制比其他空氣污染控制更困難。

分布在城市鄉(xiāng)村生活小區(qū)中的惡臭氣體對人體健康的影響標準現(xiàn)在多個方面：給人們帶來不愉快的感覺，長此以往，更能引發(fā)生理和心理上的病癥，如情緒不穩(wěn)定、煩躁、食欲不振、嗅覺失調(diào)、失眠甚至惡心、頭痛和誘發(fā)哮喘等。高濃度的惡臭更可引起人體重要的生理機理發(fā)生障礙和病變，使人產(chǎn)生慢性病并縮短壽命，嚴重時甚至可使受污染人群發(fā)生急性病并引起死亡。

許多揮發(fā)性有機物(vocs)對人類的居住環(huán)境與健康帶來很大的威脅，專家們把它們稱為“芳香殺手”。例如，苯化合物已經(jīng)被世界衛(wèi)生組織確定為強烈致癌物質。人在短時間內(nèi)吸收高濃度的甲苯、二甲苯時會出現(xiàn)中樞神經(jīng)系統(tǒng)麻醉的癥狀。輕者頭暈、頭痛、惡心、胸悶、乏力、意識模糊。嚴重的會出現(xiàn)昏迷，以致呼吸、循環(huán)衰竭死亡。苯對皮膚、眼睛和上呼吸道有刺激作用，經(jīng)常接觸苯，皮膚會因脫脂而變干燥、脫屑，有的還會出現(xiàn)過敏性濕疹。

綜上所述，人類在科技不斷進步的推動下始終致力于對環(huán)境破壞小、運行費用低、操作簡便、效率高的處理方法的探索。

常用控制技術的比較可參閱表1、表2。

表1vocs回收技術

表2vocs銷毀技術

常用的惡臭污染控制與降解voc的技術，根據(jù)廢氣的類型與特性被選用。而現(xiàn)在工業(yè)廢氣成分比較復雜，而在實際應用中，許多設備由于設計上不夠完善，使用效果也不盡人意。這些傳統(tǒng)的處理方法均存在較大的局限性，因此有必要開發(fā)一種比較通用的廢氣處理技術。通常存在處理量不大，處理率不高，能耗高，設備體積大等諸多問題。

有鑒于此，如今迫切需要設計一種新的凈化方式，以便克服現(xiàn)有凈化方式存在的上述缺陷。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術問題是：提供一種電光離子多效凈化設備，能有效地處理惡臭氣體和揮發(fā)性有機物(vocs)，單機處理量可高達100000m³/h；處理效率可達90％以上。有著處理范圍廣，處理效能高，節(jié)能，體積小，操作簡便等諸多優(yōu)點。

為解決上述技術問題，本發(fā)明采用如下技術方案：

一種電光離子多效凈化設備，所述電光離子多效凈化設備包括：支撐底座、水箱、導流裝置、循環(huán)泵、泡沫噴嘴、加藥罐、管路系統(tǒng)、高頻高壓器、出口裝置、等離子裝置、除霧器、燈管清洗噴嘴、uv模塊裝置、電磁閥、入口裝置、泄壓箱、穿孔板、泡沫層；

所述水箱設置于支撐底座的上方，所述泄壓箱與水箱為一體式箱體，一體式箱體的下部作為水箱，盛放水，一體式箱體的上部作為泄壓箱；所述泄壓箱設有入風口，泄壓箱內(nèi)設有導流裝置；

所述泄壓箱上方設置穿孔板；穿孔板上方設置泡沫層、噴淋裝置；噴淋裝置包括泡沫噴嘴、泵體、管路、閥體；

所述穿孔板的噴淋裝置上方設置uv模塊裝置，uv模塊裝置上方設置清洗裝置；清洗裝置包括燈管清洗噴嘴；

所述uv模塊裝置的清洗裝置上方設置除霧器；除霧器的出口設置等離子裝置，等離子裝置置于除霧器的上方；等離子裝置連接出口裝置，出口裝置設有出風口；

所述循環(huán)泵連接管路系統(tǒng)，管道系統(tǒng)設有電磁閥，管道系統(tǒng)設有加藥罐；管路系統(tǒng)分別連接泡沫噴嘴、燈管清洗噴嘴；所述循環(huán)泵用于噴淋穿孔板，也用于uv模塊裝置清洗。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述等離子裝置利用高頻高壓的電場與光輻照在電場作用下，離子發(fā)生器產(chǎn)生大量的離子，離子與空氣中的氧分子進行碰撞而形成正、負氧離子；氣體放電產(chǎn)生等離子體，稱為低溫等離子；

所述uv模塊裝置利用光與廢氣氣體分子相互作用，即震蕩電場與震蕩偶極子會聚時的一種能量交換，使廢氣物質分子的能態(tài)發(fā)生了改變，即分子的轉動、振動或電子能級發(fā)生變化，由低能態(tài)被激發(fā)至高能態(tài)，這種變化是量子化的；

所述等離子裝置與uv模塊裝置配合作用，在高壓的電場與光輻照下能在極短的時間內(nèi)氧化、分解污染因子，且在與voc分子相接觸后打開有機揮發(fā)性氣體的化學鍵，經(jīng)過系列的復雜的化學反應，最終生成穩(wěn)定無害的小分子，包括二氧化碳、水。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述等離子裝置與uv模塊裝置相結合，氣體在s型流動通道的作用下，依次經(jīng)過泄壓箱、導流裝置、穿孔板、泡沫層、uv模塊裝置、除霧器、等離子裝置、出口裝置流出。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，整個氣體流動通道成s型，所述入風口和出風口作為s型流動通道的頂端與末端。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述電光離子多效凈化設備設有若干泡沫噴嘴，各泡沫噴嘴位于穿孔板之上、uv模塊裝置之下，若干泡沫噴嘴通過同一循環(huán)泵供給，且uv模塊裝置清洗由該循環(huán)泵供給。

作為本發(fā)明的一種優(yōu)選方案，所述穿孔板下方設置導流板，致使氣流均勻。

本發(fā)明的有益效果在于：本發(fā)明提出的電光離子多效凈化設備，能有效地處理惡臭氣體和揮發(fā)性有機物(vocs)，單機處理量可高達100000m³/h；處理效率可達90％以上。有著處理范圍廣，處理效能高，節(jié)能，體積小，操作簡便等諸多優(yōu)點。

附圖說明

圖1為本發(fā)明電光離子多效凈化設備的結構示意圖。

圖2為本發(fā)明電光離子多效凈化設備另一方向的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖詳細說明本發(fā)明的優(yōu)選實施例。

實施例一

請參閱圖1、圖2，本發(fā)明揭示了一種電光離子多效凈化設備，所述電光離子多效凈化設備包括：支撐底座1、水箱2、導流裝置3、入風口4、循環(huán)泵5、泡沫噴嘴6、加藥罐7、管路系統(tǒng)8、高頻高壓器9，出風口10、出口裝置11、等離子裝置12、除霧器13、燈管清洗噴嘴14、uv模塊裝置15、電磁閥16、入口裝置17、泄壓箱18、穿孔板19、泡沫層20。

所述水箱2設置于支撐底座1的上方，所述泄壓箱18與水箱2為一體式箱體，一體式箱體的下部作為水箱，盛放水，一體式箱體的上部作為泄壓箱18；所述泄壓箱18設有入風口4，泄壓箱18內(nèi)設有導流裝置3。

泄壓箱18上方設置穿孔板19；穿孔板19上方設置泡沫層20、噴淋裝置；噴淋裝置包括泡沫噴嘴6、泵體、管路、閥體。

所述穿孔板19的噴淋裝置上方設置uv模塊裝置15，uv模塊裝置15上方設置清洗裝置；清洗裝置包括燈管清洗噴嘴14。

所述uv模塊裝置15的清洗裝置上方設置除霧器13；除霧器13的出口設置等離子裝置12，等離子裝置12置于除霧器13的上方；等離子裝置12連接出口裝置11，出口裝置11設有出風口10。

所述循環(huán)泵5連接管路系統(tǒng)8，管道系統(tǒng)8設有電磁閥16，管道系統(tǒng)8設有加藥罐7；管路系統(tǒng)8分別連接泡沫噴嘴6、燈管清洗噴嘴14；所述循環(huán)泵5用于噴淋穿孔板，也用于uv模塊裝置15清洗。

所述等離子裝置12利用高頻高壓的電場與光輻照在電場作用下，離子發(fā)生器產(chǎn)生大量的離子，離子與空氣中的氧分子進行碰撞而形成正、負氧離子；氣體放電產(chǎn)生等離子體，稱為低溫等離子。

uv模塊裝置15利用光與廢氣氣體分子相互作用，即震蕩電場與震蕩偶極子會聚時的一種能量交換，使廢氣物質分子的能態(tài)發(fā)生了改變，即分子的轉動、振動或電子能級發(fā)生變化，由低能態(tài)被激發(fā)至高能態(tài)，這種變化是量子化的。

等離子裝置12與uv模塊裝置15配合作用，在高壓的電場與光輻照下能在極短的時間內(nèi)氧化、分解污染因子，且在與voc分子相接觸后打開有機揮發(fā)性氣體的化學鍵，經(jīng)過系列的復雜的化學反應，最終生成穩(wěn)定無害的小分子，包括二氧化碳、水。

所述等離子裝置12與uv模塊裝置15相結合，氣體在s型路線的作用下，歷經(jīng)泄壓箱18、導流裝置3、穿孔板19、泡沫層20、uv模塊裝置15、除霧器13、等離子裝置12、出口裝置11。

所述入風口4和出風口10呈s型頂端與末端，整個流動通道成s型狀。

所述電光離子多效凈化設備設有若干泡沫噴嘴6，各泡沫噴嘴6位于穿孔板19之上、uv模塊裝置15之下，若干泡沫噴嘴6通過同一循環(huán)泵供給，且uv模塊裝置15清洗由該循環(huán)泵供給。

泄壓箱18上方設置穿孔板19，穿孔板19置于泄壓箱18之上，穿孔板9下方設置導流板3，致使氣流均勻。所述泄壓箱18與水箱2為一體式，充分節(jié)省空間。

穿孔板上方設置泡沫層、噴淋裝置，能有效處理親水性顆粒物，及吸收部分異味。

穿孔板的噴淋裝置上方設置uv模塊裝置15，uv模塊裝置15上方設置若干燈管清洗噴嘴14，uv模塊裝置15的燈管清洗噴嘴14上方設置除霧器13，避免水霧到達等離子裝置12，保障等離子裝置12運行。

所述等離子裝置12設置在除霧器13出口，置于除霧器13之上，形成了等離子裝置12與uv模塊裝置15結合作用；能在極短的時間內(nèi)氧化、分解污染因子，經(jīng)過系列的復雜的化學反應，最終生成二氧化碳和水等穩(wěn)定無害的小分子。

泄壓箱18位于設備底部，入口與設備呈30度夾角，緩解工況中氣流不穩(wěn)，側邊裝一檢修人孔21，便于內(nèi)部檢修與安裝，結構緊湊。

綜上所述，本發(fā)明提出的電光離子多效凈化設備，能有效地處理惡臭氣體和揮發(fā)性有機物(vocs)，單機處理量可高達100000m³/h；處理效率可達90％以上。有著處理范圍廣，處理效能高，節(jié)能，體積小，操作簡便等諸多優(yōu)點。

這里本發(fā)明的描述和應用是說明性的，并非想將本發(fā)明的范圍限制在上述實施例中。這里所披露的實施例的變形和改變是可能的，對于那些本領域的普通技術人員來說實施例的替換和等效的各種部件是公知的。本領域技術人員應該清楚的是，在不脫離本發(fā)明的精神或本質特征的情況下，本發(fā)明可以以其它形式、結構、布置、比例，以及用其它組件、材料和部件來實現(xiàn)。在不脫離本發(fā)明范圍和精神的情況下，可以對這里所披露的實施例進行其它變形和改變。