本發(fā)明屬于廢氣處理技術(shù)領(lǐng)域，涉及到一種低溫等離子體廢氣處理裝置。

背景技術(shù)：

廢氣是指人類在生產(chǎn)和生活過(guò)程中排出的有毒有害的氣體。特別是化工廠、鋼鐵廠、制藥廠、以及煉焦廠和煉油廠等，排放的廢氣氣味大，嚴(yán)重污染環(huán)境和影響人體健康，各類生產(chǎn)企業(yè)排放的工業(yè)廢氣是大氣污染物的重要來(lái)源。大量工業(yè)廢氣如果未經(jīng)處理達(dá)標(biāo)后排入大氣，必然使大氣環(huán)境質(zhì)量下降，給人體健康帶來(lái)嚴(yán)重危害，給國(guó)民經(jīng)濟(jì)造成巨大損失，廢氣包括有機(jī)廢氣、無(wú)機(jī)廢氣和惡臭廢氣，主要包括各種烴類、醇類、醛類、酸類、酮類和胺類、硫氧化物、氮氧化物、碳氧化物、鹵素及其化合物等。

目前廢氣處理的常用方法有吸收法、吸附法、催化燃燒、生物法等，這些方法所用設(shè)備多、工藝繁瑣、能耗大。

低溫等離子技術(shù)是近年來(lái)氣態(tài)污染物治理領(lǐng)的熱點(diǎn)技術(shù)。相比于傳統(tǒng)的空氣凈化技術(shù)，低溫等離子體技術(shù)具有處理流程短、效率高、能耗低、二次污染少、適用范圍廣等特點(diǎn)。等離子體是電子、正負(fù)離子、激發(fā)態(tài)原子、原子以及自由基的混合狀態(tài)。等離子體的狀態(tài)主要取決于它的化學(xué)成分、粒子密度和粒子溫度等物理化學(xué)參量，其中粒子的密度和溫度是等離子體的兩個(gè)最基本的參量。在等離子體環(huán)境中，各種化學(xué)反應(yīng)都是在高激發(fā)態(tài)下進(jìn)行的，比通常的化學(xué)反應(yīng)所產(chǎn)生的活性粒子種類更多、活性更強(qiáng)、更易于和廢氣中的污染物發(fā)生反應(yīng)，在較短時(shí)間內(nèi)使得污染物分子分解，從而達(dá)到降解污染物的目的。

為了進(jìn)一步提高低溫等離子體在廢氣處理過(guò)程中的效率，現(xiàn)設(shè)計(jì)一種低溫等離子體廢氣處理裝置。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種低溫等離子體廢氣處理裝置，產(chǎn)生的廢氣依次通過(guò)預(yù)處理裝置和等離子反應(yīng)裝置后能夠?qū)U氣進(jìn)行處理，解決了低溫等離子在處理過(guò)程中效率低且能耗高的問(wèn)題。

本發(fā)明的目的可以通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種低溫等離子體廢氣處理裝置，包括預(yù)處理裝置和等離子反應(yīng)裝置；

所述預(yù)處理裝置包括預(yù)洗滌箱、循環(huán)水箱和過(guò)濾箱體；

所述預(yù)洗滌箱用于對(duì)進(jìn)入預(yù)處理裝置內(nèi)的廢氣進(jìn)行預(yù)先處理；

所述循環(huán)水箱與預(yù)洗滌箱的排水口連接，將預(yù)洗滌箱內(nèi)的污水流入循環(huán)水箱內(nèi)；

所述過(guò)濾箱體與預(yù)洗滌箱的出氣口連接，用于將經(jīng)出氣口流出的氣體進(jìn)行過(guò)濾；

所述離子反應(yīng)裝置與過(guò)濾箱體連接，所述濾箱體流出的氣體依次經(jīng)等離子反應(yīng)裝置內(nèi)的除霧器、除塵板和冷凝管進(jìn)行二次處理，所述冷凝管流出的廢氣在預(yù)電離等離子裝置和低溫等離子裝置中增加碰撞的次數(shù)。

進(jìn)一步地，所述預(yù)洗滌箱自上而下設(shè)置有噴淋區(qū)、填料區(qū)和噴淋液循環(huán)區(qū)，所述噴淋區(qū)用于對(duì)填料區(qū)內(nèi)的氣體進(jìn)行噴灑，經(jīng)噴灑后的液體落入噴淋液循環(huán)區(qū)內(nèi)。

進(jìn)一步地，所述循環(huán)水箱內(nèi)設(shè)置有液位計(jì)、電加熱器和溫度傳感器，所述液位計(jì)、溫度傳感器分別用于對(duì)循環(huán)水箱內(nèi)的水位、水溫進(jìn)行檢測(cè)，所述電加熱器用于對(duì)循環(huán)水箱內(nèi)的水進(jìn)行加熱。

進(jìn)一步地，所述預(yù)洗滌箱的排水口和出氣口分別位于預(yù)洗滌箱的底部和頂部。

進(jìn)一步地，所述離子反應(yīng)裝置包括進(jìn)氣口與出氣口，所述進(jìn)氣口與出氣口均采用錐形結(jié)構(gòu)，所述出氣口處設(shè)置有氣體濃度自動(dòng)檢測(cè)儀，用于對(duì)處理后的氣體的濃度進(jìn)行檢測(cè)。

進(jìn)一步地，所述離子反應(yīng)裝置的進(jìn)氣口至出氣口間依次設(shè)置有除霧器、除塵板、冷凝器、預(yù)電離等離子裝置和低溫等離子裝置。

進(jìn)一步地，所述除塵板與等離子反應(yīng)裝置的內(nèi)壁間隙小于1mm，在所述除塵板的表面采用褶皺設(shè)計(jì)，可過(guò)濾廢氣中的懸浮顆粒。

進(jìn)一步地，所述冷凝器包括壓縮機(jī)接口、S型冷凝管和干燥氣體出口。

進(jìn)一步地，所述預(yù)電離等離子裝置與低溫等離子裝置為結(jié)構(gòu)、大小及形狀相同的圓管，所述預(yù)電離等離子裝置與低溫等離子裝置中的四邊形結(jié)構(gòu)之間的夾角為45°，用于增加等離子體的碰撞和接觸次數(shù)。

本發(fā)明的有益效果：

本發(fā)明中廢氣通過(guò)預(yù)處理裝置能夠有效去除廢氣中的易溶解氣體和大顆粒的灰塵，使得廢氣中的有機(jī)氣體濃度降低；通過(guò)在等離子反應(yīng)裝置的進(jìn)氣口與出氣口之間依次設(shè)置有除霧器、除塵板和冷凝器，能夠再次對(duì)廢氣進(jìn)行處理；通過(guò)在等離子反應(yīng)裝置中設(shè)置形狀大小相同且角度傾斜的預(yù)電離等離子裝置和低溫等離子裝置，使得經(jīng)預(yù)電離等離子裝置發(fā)生碰撞后再次經(jīng)低溫等離子裝置進(jìn)行碰撞，增加等離子碰撞的次數(shù)，進(jìn)而提高等離子體的廢氣處理效率，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、效率高和能耗低的特點(diǎn)。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明一種低溫等離子體廢氣處理裝置示意圖；

圖2為本發(fā)明一種低溫等離子體廢氣處理裝置中冷凝器示意圖；

圖3為本發(fā)明中預(yù)電離等離子裝置與低溫等離子裝置的示意圖；

附圖中，各標(biāo)號(hào)所代表的部件列表如下：

1-預(yù)處理裝置,2-等離子反應(yīng)裝置，11-預(yù)洗滌箱，12-循環(huán)水箱，13-過(guò)濾箱體，21-除霧器，22-除塵板，23-冷凝器，231-壓縮機(jī)接口，232-S型冷凝管，233-干燥氣體出口、24-預(yù)電離等離子裝置，25-低溫等離子裝置，26-氣體濃度自動(dòng)檢測(cè)儀。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

請(qǐng)參閱圖1所示，本發(fā)明為一種低溫等離子體廢氣處理裝置，包括預(yù)處理裝置1和等離子反應(yīng)裝置2，所述預(yù)處理裝置1包括預(yù)洗滌箱11、循環(huán)水箱12和過(guò)濾箱體13；預(yù)洗滌箱11自上而下設(shè)置有噴淋區(qū)、填料區(qū)和噴淋液循環(huán)區(qū)，噴淋區(qū)用于對(duì)填料區(qū)內(nèi)的氣體進(jìn)行噴灑，經(jīng)噴灑后的液體落入噴淋液循環(huán)區(qū)內(nèi)；預(yù)洗滌箱11的底部設(shè)置有排水口，排水口與循環(huán)水箱12的進(jìn)水口連接，用于將預(yù)洗滌箱11內(nèi)的噴淋液流入循環(huán)水箱12內(nèi)；

循環(huán)水箱12與水管連接，用于補(bǔ)充或替換水箱中的水，循環(huán)水箱12內(nèi)設(shè)置有液位計(jì)、電加熱器和溫度傳感器，用于對(duì)循環(huán)水箱12內(nèi)的水及時(shí)進(jìn)行補(bǔ)充和加熱。

預(yù)洗滌箱11的頂部設(shè)置有出氣口，出氣口與過(guò)濾箱體13連接，用于將經(jīng)出氣口流出的氣體進(jìn)行過(guò)濾，過(guò)濾箱體13的頂部出氣口與等離子反應(yīng)裝置2的側(cè)部進(jìn)氣口通過(guò)管道連接，等離子反應(yīng)裝置2為圓柱狀，等離子反應(yīng)裝置2的進(jìn)氣口處設(shè)置有除霧器21用于去除或降低由過(guò)濾箱體13出氣口出的氣體中帶有的水分和灰塵，為等離子反應(yīng)做準(zhǔn)備；除霧器21的后方安裝有除塵板22，除塵板22與等離子反應(yīng)裝置2的內(nèi)壁間隙小于1mm，防止漏風(fēng)，在除塵板22的表面有大量的褶皺，可有效過(guò)濾廢氣中的懸浮顆粒；在除塵板22的后側(cè)安裝有冷凝器23，如圖2所示，冷凝器23包括壓縮機(jī)接口231、S型冷凝管232和干燥氣體出口233，壓縮機(jī)接口231與壓縮機(jī)的連接口連接，壓縮機(jī)接通電源后將經(jīng)除塵板22的廢氣進(jìn)行冷凝，冷凝的廢水通過(guò)等離子反應(yīng)裝置2底部的排水口流出，可有效去除廢氣中的水蒸氣。

在除塵板22的后側(cè)設(shè)置依次設(shè)置預(yù)電離等離子裝置24和低溫等離子裝置25，如圖3所示，預(yù)電離等離子裝置24與低溫等離子裝置25為結(jié)構(gòu)、大小及形狀相同的四邊形管，預(yù)電離等離子裝置24與低溫等離子裝置25中的四邊形結(jié)構(gòu)之間的夾角為45°，且預(yù)電離等離子裝置24與低溫等離子裝置25在幾何圖案上相差四邊形的半個(gè)邊長(zhǎng)，用于增加等離子體的碰撞和接觸次數(shù)。

等離子反應(yīng)裝置2的進(jìn)氣口和出氣口均采用錐形結(jié)構(gòu)，使得廢氣在等離子反應(yīng)裝置2內(nèi)能夠充分反應(yīng)，在等離子反應(yīng)裝置2的出氣口處設(shè)置有氣體濃度自動(dòng)檢測(cè)儀26，用于對(duì)處理后的氣體的濃度進(jìn)行檢測(cè)。

本發(fā)明中廢氣通過(guò)預(yù)處理裝置能夠有效去除廢氣中的易溶解氣體和大顆粒的灰塵，使得廢氣中的有機(jī)氣體濃度降低；通過(guò)在等離子反應(yīng)裝置的進(jìn)氣口與出氣口之間依次設(shè)置有除霧器、除塵板和冷凝器，能夠再次對(duì)廢氣進(jìn)行處理；通過(guò)在等離子反應(yīng)裝置中設(shè)置形狀大小相同且角度傾斜的預(yù)電離等離子裝置和低溫等離子裝置，使得經(jīng)預(yù)電離等離子裝置發(fā)生碰撞后再次經(jīng)低溫等離子裝置進(jìn)行碰撞，增加等離子碰撞的次數(shù)，進(jìn)而提高等離子體的廢氣處理效率，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、效率高和能耗低的特點(diǎn)。

以上內(nèi)容僅僅是對(duì)本發(fā)明的構(gòu)思所作的舉例和說(shuō)明，所屬本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代，只要不偏離發(fā)明的構(gòu)思或者超越本權(quán)利要求書(shū)所定義的范圍，均應(yīng)屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。