1.一種氣液雙相制備粉體的設(shè)備，其特征在于，包括原材料熱處理裝置、混合裝置以及噴涂裝置；
所述混合裝置包括混合室、第一拉瓦爾噴管以及第二拉瓦爾噴管；所述混合室的頂部貫穿設(shè)置所述第一拉瓦爾噴管，所述混合室的底部連通所述第二拉瓦爾噴管；所述第二拉瓦爾噴管末端通入所述噴涂裝置；
所述原材料熱處理裝置將不同物理狀態(tài)的原材料混合，且通過(guò)導(dǎo)管連接所述混合裝置的混合室。
2.如權(quán)利要求1所述的氣液雙相制備粉體的設(shè)備，其特征在于，所述原材料熱處理裝置包括預(yù)熱箱、主加熱箱以及熱平衡箱；所述預(yù)熱箱將原材料加熱至液態(tài)，所述主加熱箱將原材料加熱至氣態(tài)；
所述預(yù)熱箱底部以及主加熱箱底部分別通過(guò)導(dǎo)管連接所述熱平衡箱，所述熱平衡箱底部通過(guò)導(dǎo)管連接所述混合室。
3.如權(quán)利要求2所述的氣液雙相制備粉體的設(shè)備，其特征在于，所述預(yù)熱箱包括第一箱體、第一加熱夾套以及第一電磁波發(fā)射器；所述主加熱箱包括第二箱體、第二加熱夾套以及第二電磁波發(fā)射器；所述熱平衡箱包括第三箱體、第三加熱夾套以及第三電磁波發(fā)射器；
所述第一箱體外圍設(shè)置所述第一加熱夾套，所述第一箱體底部通過(guò)導(dǎo)管連接所述第三箱體，所述第一箱體的底部異于導(dǎo)管位置設(shè)置所述第一電磁波發(fā)射器；所述第二箱體外圍設(shè)置所述第二加熱夾套，所述第二箱體底部通過(guò)導(dǎo)管連接所述第三箱體，所述第二箱體的底部異于導(dǎo)管位置設(shè)置所述第二電磁波發(fā)射器；所述第三箱體的外圍設(shè)置所述第三加熱夾套，所述第三箱體的底部側(cè)面通過(guò)導(dǎo)管連接所述混合室，所述第三箱體底部設(shè)置所述第三電磁波發(fā)射器。
4.如權(quán)利要求1所述的氣液雙相制備粉體的設(shè)備，其特征在于，所述混合裝置還包括第四加熱夾套，所述第四加熱夾套包覆于所述混合室、第一拉瓦爾噴管以及第二拉瓦爾噴管外圍，且所述第四加熱夾套的頂部和底部對(duì)應(yīng)設(shè)置有固定所述第一拉瓦爾噴管以及第二拉瓦爾噴管的開(kāi)口。
5.如權(quán)利要求1所述的氣液雙相制備粉體的設(shè)備，其特征在于，所述噴涂裝置包括噴涂室，所述噴涂室內(nèi)設(shè)置傳送帶、主噴涂室以及粉體厚度調(diào)節(jié)器；
所述主噴涂室設(shè)置于所述噴涂室中部，所述主噴涂室頂部設(shè)置有供所述第二拉瓦爾噴管末端通入的開(kāi)口，所述主噴涂室內(nèi)第二拉瓦爾噴管末端的下方設(shè)置所述傳送帶；所述傳送帶的一端上方設(shè)置所述粉體厚度調(diào)節(jié)器，所述粉體厚度調(diào)節(jié)器固定于所述主噴涂室側(cè)面底部，且與所述傳送帶之間設(shè)定間隙控制傳送帶上材料層的厚度。
6.如權(quán)利要求5所述的氣液雙相制備粉體的設(shè)備，其特征在于，所述噴涂裝置還包括熱交換器；
所述熱交換器設(shè)置于所述傳送帶內(nèi)部空隙中與其上方傳送帶上的材料進(jìn)行熱交換。
7.如權(quán)利要求5所述的氣液雙相制備粉體的設(shè)備，其特征在于，所述噴涂裝置還包括收料裝置；所述收料裝置包括傳送帶清潔器、粉體收集室以及震動(dòng)篩網(wǎng)；
所述傳送帶傳送末端連接所述粉體收集室，并設(shè)置有所述傳送帶清潔器清潔傳送帶；所述粉體收集室下端設(shè)置有開(kāi)口容置所述震動(dòng)篩網(wǎng)；所述震動(dòng)篩網(wǎng)包括篩網(wǎng)以及震動(dòng)馬達(dá)，所述震動(dòng)馬達(dá)帶動(dòng)所述篩網(wǎng)震動(dòng)。
8.如權(quán)利要求5所述的氣液雙相制備粉體的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括基體材料放料裝置，所述基體材料放料裝置包括預(yù)處理室以及加熱室；所述預(yù)處理室連通所述加熱室，所述加熱室底部設(shè)置一導(dǎo)管通入所述噴涂室內(nèi)，并位于所述傳送帶的起始端上方；
所述加熱室底部導(dǎo)管的末端設(shè)置一噴嘴。
9.如權(quán)利要求5所述的氣液雙相制備粉體的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括保護(hù)氣氛處理裝置，所述保護(hù)氣氛處理裝置包括保護(hù)氣體加熱室以及氣氛源室；
所述氣氛源室連通所述保護(hù)氣體加熱室，所述保護(hù)氣體加熱室下端設(shè)置一導(dǎo)管通入所述主噴涂室內(nèi)。
10.如權(quán)利要求1或4所述的氣液雙相制備粉體的設(shè)備，其特征在于，所述設(shè)備還包括載氣處理系統(tǒng)，所述載氣處理系統(tǒng)包括載氣室、除油器、除水器以及載氣加熱室，所述載氣室、除水器、除油器以及載氣加熱室依次連接，所述載氣加熱室下端設(shè)置開(kāi)口連接所述第一拉瓦爾噴管的頂部。