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涂覆過濾基質(zhì)的方法與流程

文檔序號:11885172閱讀:501來源:國知局
本發(fā)明涉及涂覆過濾基質(zhì)的方法。本發(fā)明還提供涂覆過濾基質(zhì)的設(shè)備。
背景技術(shù)
:每年制造大量的排放控制裝置,其包括涂覆的過濾基質(zhì)。這樣的裝置的一個原理上的用途是用于過濾由內(nèi)燃機尤其是車輛的內(nèi)燃機產(chǎn)生的顆粒物(PM),例如煙灰。包含涂覆的過濾基質(zhì)的排放控制裝置通常用來去除由壓燃式發(fā)動機例如柴油發(fā)動機產(chǎn)生的PM。然而,隨著環(huán)境法規(guī)變得越來越嚴格,關(guān)注也已經(jīng)集中于去除汽油發(fā)動機產(chǎn)生的納米級顆粒。制造涂覆的過濾基質(zhì)的一個難題涉及在過濾基質(zhì)的通道的壁上施加均勻的涂層。這是因為,過濾基質(zhì)的每個通道通常僅僅具有一個開口端部(另一個端部是封閉的,通常通過堵塞而封閉),這對于載體涂料(washcoat)的施加而言是存在問題的??赡茈y以將載體涂料施加到過濾基質(zhì)的通道以獲得期望的涂覆深度、在所有通道上的均勻的涂覆深度以及每個通道內(nèi)的均勻的載體涂料分布。WO2011/080525中描述了一種方法,其示出了對于將載體涂料均勻地施加到過濾基質(zhì)的壁上而言良好的結(jié)果。WO2011/080525描述了用包含催化劑成分的液體涂覆包括多個通道的蜂窩狀整塊基質(zhì)的方法,該方法包括以下步驟:(i)大致沿豎向保持蜂窩狀整塊基質(zhì);(ii)在基質(zhì)的下端部處經(jīng)由通道的開口端部將預定量的液體引入到基質(zhì)中;(iii)將引入的液體密封地保持在基質(zhì)內(nèi);(iv)將包含保持的液體的基質(zhì)倒置;以及(v)在基質(zhì)的倒置的下端部處向基質(zhì)的通道的開口端部施加真空,以便沿著基質(zhì)的通道吸取液體。然而,WO2011/080525中所述的方法對于某些應(yīng)用而言可能是不方便的。該方法可能不能夠容易地控制基質(zhì)壁上的載體涂料涂層(例如壁上或壁中的涂層)的位置,并且可能必須使用具有在特定范圍內(nèi)的粘度的載體涂料。WO99/47260描述了用于涂覆單一支撐件的一般方法。WO99/47260中示出了涂覆流過型蜂窩狀基質(zhì)的方法。該方法通常用來施加具有較高粘度的載體涂料。技術(shù)實現(xiàn)要素:發(fā)明人已經(jīng)提出用于自動地且均勻地涂覆過濾基質(zhì)的方法和設(shè)備。具體地,該方法能夠控制過濾基質(zhì)的通道壁上的載體涂料涂層的位置,并且具有短的循環(huán)時間。該方法還能夠精確地控制涂覆到過濾基質(zhì)上的(例如載體涂料中的)活性材料的量。這是重要的,原因在于活性材料通常包括昂貴的貴金屬。還能夠?qū)⒈景l(fā)明的方法和設(shè)備用于直接施加到過濾基質(zhì)的載體涂料配方,而不用改變其粘度。本發(fā)明總體上涉及一種涂覆過濾基質(zhì)的方法,該過濾基質(zhì)包括多個通道,該方法包括以下步驟:(a)將預定量的液體引入到過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中;以及(b)利用來自容納裝置的液體(優(yōu)選預定量的液體)涂覆在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道。容納裝置定位在過濾基質(zhì)的上端部處意味著,通過重力作用輔助用液體涂覆通道。步驟(b)可以包括:通過在重力作用下允許液體進入和/或填充通道,利用來自容納裝置的液體涂覆在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道。本發(fā)明還提供一種利用液體涂覆過濾基質(zhì)的設(shè)備,該設(shè)備包括:(i)容納裝置,該容納裝置用于接納預定量的液體;以及(ii)液體計量頭,該液體計量頭被布置成用以在過濾基質(zhì)的上端部上將預定量的液體分配到容納裝置中;其中容納裝置能夠定位在過濾基質(zhì)的上端部處,液體計量頭包括用于將液體分配到過濾基質(zhì)的上端部上的多個孔口。過濾基質(zhì)的通道的壁包括多孔材料,其提供對顆粒物質(zhì)(PM)的阻擋,但是允許氣體流過??梢詫⑤d體涂料主要施加到通道的壁的表面(即大致或全部“壁上”涂層),并且形成薄膜類型的涂層。作為另外一種選擇,大多數(shù)或全部載體涂料可以被吸入或迫入到通道壁的多孔材料中(即大致或全部“壁中”涂層))。當利用壁上涂層制備過濾基質(zhì)時,應(yīng)當理解,在許多情形下,即使大部分載體涂料(例如>全部催化劑成分的總質(zhì)量的50%)可以形成壁上涂層,某些載體涂料也將進入過濾基質(zhì)的壁并形成壁中涂層。相似地,當利用壁中涂層制備過濾基質(zhì)時,某些載體涂料可能保留為壁上涂層,即使大部分載體涂料形成壁中涂層(例如全部催化劑成分的總質(zhì)量的≥50%)。有利的是能夠控制載體涂料在通道壁上的位置,原因在于載體涂料的位置可能影響在使用中產(chǎn)生的過濾基質(zhì)的背壓。與載體涂料接觸的廢氣的成分以及通過載體涂料的活性組分執(zhí)行的化學反應(yīng),也可能受到其在過濾基質(zhì)上的位置的影響。本發(fā)明能夠?qū)⑦^濾基質(zhì)精確地涂覆到期望的涂覆深度(例如沿著通道的長度的期望的涂覆深度)。本發(fā)明還可以用于涂覆通道的整個長度或者僅僅較短的長度(例如基質(zhì)的表面涂覆)。當從基質(zhì)的兩個端部向通道的部分長度施加涂層時,一個通道(例如入口通道)中的一段涂層可能與相鄰通道(例如出口通道)中的一段涂層重疊,涂層由基質(zhì)的壁分隔開。本發(fā)明能夠良好地控制涂覆的端部之間的重疊量。本發(fā)明的方法涉及利用具有較低粘度的載體涂料涂覆過濾基質(zhì)。本領(lǐng)域中類似的方法通常要求使用具有較高粘度的載體涂料,以獲得均勻的涂覆深度。這是因為,具有較高粘度的載體涂料在通過真空被拉入到基質(zhì)的小通道開口中之前能夠均勻地分布在基質(zhì)的上端部上。在這些方法中使用高粘度載體涂料的缺陷在于,對于具有大直徑的基質(zhì)而言,難以獲得均勻的涂覆深度。令人驚訝地發(fā)現(xiàn),當基質(zhì)是過濾基質(zhì)時,尤其是當基質(zhì)具有較大直徑時,使用低粘度載體涂料能夠獲得均勻的涂覆深度。低粘度載體涂料是有利的,原因在于它們更易于處理、比高粘度載體涂料所需的制備時間短、降低了載體涂料特性的批次波動、并且去除了或降低了載體涂料老化特性的變化。本發(fā)明具有若干個方面。本發(fā)明的第一個方面包括第一個方法方面和第一個設(shè)備方面。本發(fā)明的第一個方法方面涉及一種涂覆過濾基質(zhì)的方法,該過濾基質(zhì)包括多個通道,該方法包括以下步驟:(a)將預定量的液體引入到過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中;以及(b)向過濾基質(zhì)的下端部施加真空。在本發(fā)明的第一個方法方面中,利用來自容納裝置的液體涂覆在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道的總體步驟(b)包括向過濾基質(zhì)的下端部施加真空,或者是通過向過濾基質(zhì)的下端部施加真空來執(zhí)行。通常,在第一個方法方面中,步驟(b)大致是施加步驟(b):向過濾基質(zhì)的下端部施加真空,以沿著在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道吸取來自容納裝置的液體(由此涂覆該通道)。本發(fā)明的第一個設(shè)備方面涉及一種利用液體涂覆過濾基質(zhì)的設(shè)備,該設(shè)備包括:(i)容納裝置,該容納裝置用于接納預定量的液體;(ii)液體計量頭,該液體計量頭被布置成用以在過濾基質(zhì)的上端部上將預定量的液體分配到容納裝置中;以及(iii)用于向過濾基質(zhì)的下端部施加真空的裝置;其中容納裝置能夠定位在過濾基質(zhì)的上端部處,液體計量頭包括用于將液體分配到過濾基質(zhì)的上端部上的多個孔口。本發(fā)明的第一個方面可以用于利用液體進行的過濾基質(zhì)的通道的壁中涂層。向過濾基質(zhì)的下端部施加真空的步驟將液體吸入到由多孔材料制成的基質(zhì)的通道壁中。本發(fā)明還具有第二個方面,其包括第二個方法方面。本發(fā)明的第二個方面提供一種涂覆過濾基質(zhì)的方法,該過濾基質(zhì)包括多個通道,該方法包括以下步驟:(a)將預定量的液體引入到過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中;以及(b)將來自容納裝置的液體排放到過濾基質(zhì)中。在本發(fā)明的第二個方法方面中,利用來自容納裝置的液體涂覆在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道的總體步驟(b)包括將來自容納裝置的液體排放到過濾基質(zhì)中,或者是通過將來自容納裝置的液體排放到過濾基質(zhì)中來執(zhí)行。在第二個方法方面鐘,步驟(b)大致為步驟(b):將來自容納裝置的液體排放到在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道中(由此涂覆該通道)。本發(fā)明的第二個方面可以用于利用液體進行的過濾基質(zhì)的通道的壁上涂層。將來自容納裝置的液體排放到過濾基質(zhì)中的步驟允許液體在基質(zhì)的通道壁的表面上形成涂層(例如薄膜類型的涂層)。附圖說明圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的橫截面。具體實施方式圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的橫截面。該設(shè)備可以用來執(zhí)行本發(fā)明的方法。該設(shè)備包括噴頭(1),該噴頭用來將載體涂料(5)沉積到過濾基質(zhì)(4)上,進入由壁(2)限定的空間并沉積到過濾基質(zhì)(4)的上端面??梢岳谜婵斟F體(3)將真空施加到過濾基質(zhì)的下端部。本發(fā)明具體涉及利用液體涂覆過濾基質(zhì)。過濾基質(zhì)具有與流過型基質(zhì)不同的結(jié)構(gòu)。流過型基質(zhì)整體上包括通常貫穿延伸的多個通道,其中每個通道在兩個端部都是開口的(即,入口處的開口端部和出口處的開口端部)。這些通道形成在多個壁之間。壁大體上包括無孔材料。相比之下,過濾基質(zhì)包括多個通道,其中每個通道具有開口端部和封閉端部(例如封端的或堵塞的端部)。每個通道通常通過壁與相鄰的或鄰近的通道分隔開。壁包括多孔材料或者主要由多孔材料構(gòu)成。這樣的多孔材料是本領(lǐng)域中眾所周知的??傮w上,過濾基質(zhì)包括多個入口通道和多個出口通道。每個入口通道具有在基質(zhì)的第一端部處的開口端部和在基質(zhì)的第二端部(即,第二端部是與第一端部相對的端部)處的封閉(例如封端或堵塞的)端部,每個出口通道具有在基質(zhì)的第一端部處的封閉(例如封端或堵塞的)端部和在基質(zhì)的第二端部處的開口端部。在過濾基質(zhì)中,具有在基質(zhì)的第一端部處的開口端部和在基質(zhì)的第二(即相對)端部處的封閉端部的每個通道通常與具有在基質(zhì)的第一端部處的封閉端部和在基質(zhì)的第二(即相對)端部處的開口端部的通道相鄰。通道之間經(jīng)由基質(zhì)的壁(例如通過多孔材料)流體連通。壁的厚度通常為0.002至0.1英寸(0.05至2.54mm),例如0.005至0.050英寸(0.12至1.27mm),尤其是0.010至0.025英寸(0.25至0.64mm)。通常,過濾基質(zhì)的通道具有交替布置的封閉(例如封端或堵塞的)和開口端部。因此,每個入口通道可以與出口通道相鄰,每個出口通道可以與入口通道相鄰。當從過濾基質(zhì)的任一端看時,通道可以具有棋盤狀的外觀。然而,過濾基質(zhì)可以具有入口通道(即“第一”入口通道),該入口通道與另一個入口通道(即“第二”入口通道)相鄰,并且可選地與出口通道相鄰,例如“第一”出口通道和/或“第二”出口通道。過濾基質(zhì)可以具有出口通道(即“第一”出口通道),該出口通道與另一個出口通道(即“第二”出口通道)相鄰,并且可選地與入口通道相鄰,例如“第一”入口通道和/或“第二”入口通道。過濾基質(zhì)可以具有每平方英寸100至700單元(或“通道”)(“cpsi”),尤其是250至400cpsi。液體可以是溶液或懸浮液。懸浮液可以是膠態(tài)懸浮液(例如溶膠)或非膠態(tài)懸浮液。當液體是溶液或懸浮液時,其可以是水溶液或含水懸浮液。通常,液體是懸浮液,尤其是含水懸浮液。在此所用的術(shù)語“液體”與術(shù)語“載體涂料”同義。通常,液體包括催化劑成分。表達“催化劑成分”涵蓋了可能包含在載體涂料配方中的任何成分,其有助于所得到的排放控制裝置的活性,例如鉑系金屬(PGM)、載體材料(例如耐高溫氧化物)或沸石。應(yīng)當理解,術(shù)語“催化劑成分”不要求該成本自身具有術(shù)語“催化劑”的嚴格意義上的催化活性(例如增加反應(yīng)速率)。例如,催化劑成分可以指的是能夠存儲或吸收NOx或烴類的材料。包含催化劑成分的液體是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的。包含在液體中的催化劑成分將取決于待制造的產(chǎn)品。通過本發(fā)明的方法或者利用本發(fā)明的設(shè)備獲得的涂覆的過濾基質(zhì)或產(chǎn)品可以例如是過濾基質(zhì),包括:氧化催化劑(例如催化煙灰過濾器[CSF])、選擇性催化還原(SCR)催化劑(例如該產(chǎn)品可以被稱為選擇性催化還原過濾[SCRFTM]催化劑)、NOx吸收劑組合物(例如該產(chǎn)品可以被稱為稀薄NOx捕集過濾器[LNTF])、三元催化劑組合物(例如該產(chǎn)品可以被稱為汽油顆粒過濾器[GPF])、氨泄露催化劑[ASC]、或者以上兩種或更多種的組合(例如過濾基質(zhì)包含選擇性催化還原(SCR)催化劑和氨泄露催化劑[ASC])。除了“催化劑成分”之外,液體還可以包括輔助制劑。術(shù)語“輔助制劑”指的是這樣一種成分,其包含在液體中,以改變液體的化學或物理特性,以用于涂覆到過濾基質(zhì)上。輔助制劑可以例如有助于催化劑成分分散在液體中,或者可以有助于改變液體的粘度。輔助制劑可以不存在于最終涂覆的過濾基質(zhì)產(chǎn)品中(例如其在煅燒期間可以分解或降解)。輔助制劑可以例如是酸、堿、增稠劑(例如有機化合物增稠劑)或粘結(jié)劑。應(yīng)當理解,所獲得的涂層(例如壁上或壁中)的類型將取決于多個因素,例如液體的粘度、過濾基質(zhì)的孔隙度(即形成過濾基質(zhì)的壁的多孔材料的孔隙度)以及分散在液體中的固體的粒度分布。處理條件也影響所獲得的涂層的類型。然而,總體上,本發(fā)明的第一個方面能夠提供過濾基質(zhì)的大致壁中涂層,本發(fā)明的第二個方面能夠提供過濾基質(zhì)的大致壁上涂層。采用本發(fā)明,能夠成功地利用具有較低粘度的液體(例如載體涂料)涂覆過濾基質(zhì)。通常,該液體的粘度可以為≤600cP(利用主軸速度為50rpm的SC4-27主軸,在BrookfieldRVDVII+ExtraPro粘度計上,在20℃下測量得到)??傮w上,該液體的粘度為5cP至600cP,例如10cP至600cP(利用主軸速度為50rpm的SC4-27主軸,在BrookfieldRVDVII+ExtraPro粘度計上,在20℃下測量得到)。因此,液體的粘度可以為10至500cP,例如15至250cP(例如50至200cP),優(yōu)選地20至50cP。例如,液體的粘度可以為≤500cP(在20s-1的剪切速率下[利用SC4-27主軸,在BrookfieldLVDVII+Pro粘度計上,在20℃下測量得到])。液體的粘度可以為10至500cP,優(yōu)選地為25至400cP,并且更優(yōu)選地為50至200cP。液體的粘度可以為≤80cP(在66s-1的剪切速率下[利用SC4-27主軸,在BrookfieldLVDVII+Pro粘度計上,在20℃下測量得到])。尤其是在本發(fā)明的第二個方面中,可能優(yōu)選的是,液體的粘度為5至100cP,例如10至100cP,尤其是20至90cP,優(yōu)選地25至80cP,甚至更優(yōu)選地35至65cP(利用主軸速度為50rpm的SC4-27主軸,在BrookfieldRVDVII+ExtraPro粘度計上,在20℃下測量得到)。本發(fā)明的第一個方面中所用的液體的粘度可以比本發(fā)明的第二個方面中所用的液體的粘度高。第二個方面中的液體所具有的粘度允許液體在重力作用下逐步地排放到過濾基質(zhì)中。總體上,尤其是在本發(fā)明的第二個方面中,液體可以不包括增稠劑。在許多情形下,不必改變液體的粘度而用于本發(fā)明的第二個方面??傮w上,本發(fā)明涉及將預定量的液體引入到處于過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中。過濾基質(zhì)的上端部優(yōu)選地為過濾基質(zhì)的上端面。預定量可以是預定體積和/或預定質(zhì)量的液體。優(yōu)選的是,預定量是預定體積。通常,該預定量是液體的單個劑量。總體上,本發(fā)明的方法的步驟(a)是引入步驟(a):利用液體計量頭將預定量的液體引入到處于過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中。通常,液體計量頭被布置成用以將預定量的液體分配到容納裝置中,分配到處于過濾基質(zhì)的上端部上。優(yōu)選的是,步驟(a)是沉積步驟(a):更優(yōu)選地利用液體計量頭將預定量的液體沉積到處于過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中。總體上,液體計量頭包括多個孔口,這些孔口用于將液體分配(優(yōu)選地沉積)到過濾基質(zhì)的上端部上。所述多個孔口優(yōu)選地被布置成用以將液體分配或沉積到過濾基質(zhì)的上端面上。更優(yōu)選地,所述多個孔口被布置成用以將液體均勻地沉積到過濾基質(zhì)的上端面上。液體計量頭可以是噴頭。尤其是對于本發(fā)明的第二個方面,噴頭應(yīng)當能夠?qū)⒁后w均勻地分布到過濾基質(zhì)的上端面上,而沒有滴落(例如當液體具有低粘度時)或堵塞(例如當液體具有高粘度時)。當液體計量頭或噴頭包括被布置成用以將液體均勻地沉積到過濾基質(zhì)的上端面上的多個孔口時,優(yōu)選地多個孔口是多個圓形孔口,更優(yōu)選地多個圓形孔口具有相同的直徑(例如所有的圓形孔口都具有相同的直徑)。不必使用具有若干不同直徑(可以用于高粘度載體涂料)的孔口的液體計量頭來獲得均勻的涂覆深度??傮w上,用以將液體均勻地沉積到過濾基質(zhì)的上端面上的多個孔口可以僅僅是液體計量頭或噴頭中的用于將液體沉積到過濾器的上端面上的孔口。通常,液體計量頭聯(lián)接到液體分配器。液體分配器可以利用大致已知的原理進行設(shè)計。例如,存在可商購獲得的機器,其能夠高精度地計量液體的體積或重量,例如用于填充食物或涂料工業(yè)。這些機器能夠處理許多不同粘度和流變的流體。液體分配器能夠優(yōu)選地從容器(例如用于容納大量或大體積液體的容器)分配預定量的流體。容器可以是攪拌的,并且時常進行補充。因為該設(shè)備提供精確地測量的量,并且液體不會進行循環(huán)利用,所以液體的質(zhì)量和組合物保持不變,并且減少了損失。本發(fā)明的特征涉及將預定量的液體引入到處于過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中。容納裝置大致可以定位在過濾基質(zhì)(即待涂覆的過濾基質(zhì))的上端部處,優(yōu)選地定位在過濾基質(zhì)的上端面處。容納裝置用來將液體容納和/或定位在過濾基質(zhì)的上端部上,優(yōu)選地容納和/或定位在過濾基質(zhì)的上端面上。容納裝置用來將液體容納和/或定位在整個過濾基質(zhì)的上端面上或過濾基質(zhì)的上端面的一部分上。通常,容納裝置用來將液體容納和/或定位在大致全部或整個過濾基質(zhì)的上端面上。表達“大致全部”在本文中指的是過濾基質(zhì)的上端面的表面積的至少95%,優(yōu)選地過濾基質(zhì)的上端面的表面積的至少99%。當容納裝置用來將液體容納和/或定位在過濾基質(zhì)的上端面的一部分上時,容納裝置可以包括用于覆蓋過濾基質(zhì)的上端面的一個或多個區(qū)域的模板。該模板用于防止液體流到過濾基質(zhì)的上端面的一個或多個區(qū)域上,由此防止液體進入在該一個或多個區(qū)域中具有開口端部的任何通道。該模板的形狀形成為用以覆蓋或掩蓋過濾基質(zhì)的上端面的一個或多個區(qū)域。這允許制造過濾基質(zhì),其中例如通道的周邊部分不涂覆液體,或者過濾基質(zhì)具有涂覆有不同組合和/或不同濃度的成分的載體涂料的部分。該模板可以定位在過濾基質(zhì)的上端面上。該模板優(yōu)選地可以與過濾基質(zhì)的上端面接觸。容納裝置通常包括用于接納過濾基質(zhì)的上端部的殼體。不是所有的過濾基質(zhì)都具有常規(guī)的圓形橫截面,某些過濾基質(zhì)可以具有橢圓形或“跑道形”、斜橢圓形或其它非對稱橫截面。無論過濾基質(zhì)具有何種橫截面,都能夠利用常規(guī)的方法或技術(shù)采用適當?shù)爻尚蔚挠糜诮蛹{過濾基質(zhì)的殼體。通常,容納裝置或其殼體包括一個壁或多個壁。所述一個或多個壁能夠接觸或者被布置成接觸過濾基質(zhì)的上端部,優(yōu)選地過濾基質(zhì)的上端面,更優(yōu)選地過濾基質(zhì)的上端面的周圍邊緣。所述一個或多個壁提供阻擋物,該阻擋物防止液體從過濾基質(zhì)的上端面流到過濾基質(zhì)的外側(cè)表面上。所述一個或多個壁可以大致對應(yīng)于(例如貼合或者能夠順從)過濾基質(zhì)在軸向平面(即從過濾基質(zhì)的端面看的橫向平面)中的橫截面形狀。壁可以由常規(guī)材料制成。例如,壁可以包括塑料(例如聚丙烯或PTFE)、金屬(例如不銹鋼或涂覆有PTFE的不銹鋼)、或陶瓷。可以使用不同材料的組合。優(yōu)選的是,容納裝置包括密封裝置。密封裝置用于例如在施加真空時防止液體從過濾基質(zhì)的上端面流到過濾基質(zhì)的外側(cè)表面上。容納裝置的殼體或者所述一個或多個壁可以包括該密封裝置。密封裝置可以包括可變形的、可滲透的基部或至少一個可充氣卡圈,或者由可變形的、可滲透的基部或至少一個可充氣卡圈構(gòu)成。優(yōu)選的是,密封裝置包括至少一個可充氣卡圈。所述或每個可充氣卡圈通常能夠接觸(即被布置成用以接觸)和/或接合(即被布置成用以接合)基質(zhì)的外表面,優(yōu)選地基質(zhì)的上端部處的外表面。所述或每個可充氣卡圈可以被布置成用以在水平平面(即軸向平面)中接觸和/或接合過濾基質(zhì)的外表面。一個或多個可充氣卡圈可以被布置成用以在水平平面(例如基質(zhì)一側(cè)的外表面)中接觸和/或接合過濾基質(zhì)的外表面的一部分或者完全圍繞過濾基質(zhì)的外表面。例如,當過濾基質(zhì)具有圓形橫截面(例如在軸向平面中)時,一個或多個可充氣卡圈可以被布置成用以在水平平面中接觸和/或接合過濾基質(zhì)的外表面的弧形部分或整個周邊。優(yōu)選的是,一個或多個可充氣卡圈被布置成用以接觸和/或接合過濾基質(zhì)的外表面的整個周邊長度。通常,所述或每個可充氣卡圈能夠貼合基質(zhì)的外表面。所述或每個可充氣卡圈可以圍繞過濾基質(zhì)形成不透液體或空氣的密封件??沙錃饪ㄈυ试S該設(shè)備適應(yīng)過濾基質(zhì)的直徑或周長的變化。如果要涂覆在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的所有通道,可能不能夠與過濾基質(zhì)的上端面進行密封。因此,可以針對過濾基質(zhì)的上端部處的外側(cè)設(shè)置合適的密封件,以允許液體分配到過濾基質(zhì)的整個上端面上。優(yōu)選的是,密封裝置包括僅僅一個可充氣卡圈或至少兩個可充氣卡圈(更優(yōu)選地僅僅兩個可充氣卡圈),其中每個可充氣卡圈用于接觸和/或接合基質(zhì)的外表面,更優(yōu)選地基質(zhì)的上端部處的外表面。所述或每個可充氣卡圈可以由殼體支撐(例如由殼體的內(nèi)壁支撐),并且優(yōu)選地延伸到殼體的內(nèi)部空間中。容納裝置可以包括可滲透基部,以形成用于液體的容器或接收器??蓾B透基部可以鄰接容納裝置的一個或多個壁??蓾B透基部允許液體傳遞到過濾基質(zhì)的上端面上??蓾B透基部或其一部分可以以剪床、虹膜或閘板的方式運動??蓾B透基部可以是穿孔金屬板、多孔金屬板、燒結(jié)金屬海綿、織造織物、非織造織物或合成開孔泡沫??傮w上,本發(fā)明的方法的步驟(a)可以包括:定位步驟(a1),將容納裝置定位在過濾基質(zhì)的上端部處;和引入步驟(a2),將預定量的液體引入到容納裝置中(即在過濾基質(zhì)的上端部處)。該方法的步驟(a)優(yōu)選地包括:保持步驟(a0),沿豎向保持過濾基質(zhì),更優(yōu)選地將過濾基質(zhì)沿豎向保持在過濾基質(zhì)的下端部處;定位步驟(a1),將容納裝置定位在過濾基質(zhì)的上端部處;和引入步驟(a2),將預定量的液體引入到容納裝置中(即在過濾基質(zhì)的上端部處)。本發(fā)明的設(shè)備還可以包括用于保持基質(zhì)的裝置或者基質(zhì)保持器。本發(fā)明的優(yōu)點在于,基本上所有的液體都被保持在過濾基質(zhì)中。這可以確保不會有顯著過量的液體需要進行再循環(huán),并且可以確保以期望的涂覆布置或樣式獲得均勻的分布。本發(fā)明的特定優(yōu)點在于,能夠非常好地控制載體涂料中昂貴成分(例如貴重金屬)的使用,并且不必從頭至尾指定這些成分的荷量來應(yīng)對過程的變化。通常,該方法的步驟(b)包括:利用來自容納裝置的液體涂覆在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道,并且將大致全部的液體保持在過濾基質(zhì)中。優(yōu)選的是,步驟(b)包括:利用來自容納裝置的液體涂覆在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道,并且將大致全部的液體保持在過濾基質(zhì)中而不需要使液體再循環(huán)利用。表達“大致全部”在本文中指的是預定量液體的至少99%,優(yōu)選地預定量液體的至少99.5%,更優(yōu)選地全部的(即100%)的預定量液體??傮w上,本發(fā)明的方法可以包括干燥步驟(c):干燥過濾基質(zhì),優(yōu)選地干燥到過濾基質(zhì)上的液體,更優(yōu)選地在不將過濾基質(zhì)倒置的情況干燥過濾基質(zhì)。步驟(c)可以包括:干燥步驟(c1),干燥過濾基質(zhì),優(yōu)選地干燥到過濾基質(zhì)上的液體,更優(yōu)選地不倒置過濾基質(zhì);和煅燒步驟(c2),煅燒過濾基質(zhì),優(yōu)選地不倒置過濾基質(zhì)。步驟(c)或者步驟(c1)和(c2)在步驟(b)之后。過濾基質(zhì)可以在100至200℃下干燥(例如5至60分鐘,尤其是10至30分鐘)。可以執(zhí)行干燥步驟,以將液體固定到基質(zhì)上。本發(fā)明第一個方面的方法包括施加步驟(b),向過濾基質(zhì)的下端部施加真空。本發(fā)明第一個方面的設(shè)備包括用于向過濾基質(zhì)的下端部施加真空的裝置。在第一個方面的方法中,步驟(b)可以包括施加步驟(b),利用用于施加真空的裝置向過濾基質(zhì)的下端部施加真空??傮w上,第一個方面的步驟(b)包括施加步驟(b),向過濾基質(zhì)的下端部處的通道的開口端部施加真空。因此,步驟(b)包括施加步驟(b),向過濾基質(zhì)的下端部處的通道的開口端部施加真空,以便利用來自容納裝置的液體涂覆在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道。步驟(b)可以包括連續(xù)施加步驟(b),向過濾基質(zhì)的下端部連續(xù)地施加真空,優(yōu)選地直到容納裝置是大致空的。表達“大致空的”在本文中指的是容納裝置容納小于1%的預定量液體,優(yōu)選小于0.5%的預定量液體。真空用于將大致全部的液體吸入到過濾基質(zhì)中。表達“大致全部”在本文中指的是預定量液體的至少99%,優(yōu)選地預定量液體的至少99.5%,更優(yōu)選地全部的(即100%)的預定量液體。除了將大致全部的液體吸入到過濾基質(zhì)中之外,真空通常還確保該液體。總體上,真空為-0.5至-50kPa(低于大氣壓),尤其是-1至-30kPa,優(yōu)選-5至-20kPa(例如施加到過濾基質(zhì)的真空)。真空可以連續(xù)地施加0.25至15秒,例如0.5至10秒,優(yōu)選1至7.5秒(例如2至5秒)??傮w上,高真空強度和/或較長的真空持續(xù)時間導致較大比例的壁中涂層。第一個方面的方法可以包括:形成步驟(b1),在過濾基質(zhì)的下端部和用于施加真空的裝置之間形成密封接合;和施加步驟(b2),利用用于施加真空的裝置向過濾基質(zhì)的下端部施加真空。用于施加真空的裝置通常包括漏斗,例如流錐。漏斗或流錐總體上具有用于接納過濾基質(zhì)的下端部的端部。用于施加真空的裝置還可以包括用于與基質(zhì)的下端部形成密封接合的密封件。該密封件可以定位在漏斗或流錐的端部(例如較寬的端部)處。通常,用于施加真空的裝置包括真空發(fā)生器,例如真空泵。真空發(fā)生器可以通過管道連接到漏斗或流錐。在第一個方面的方法中,步驟(a)可以包括保持步驟(a3),將液體保持在容納裝置中,尤其是將預定量的液體保持在容納裝置中一段休止時間段。該休止時間段是當預定量的液體已經(jīng)被引入(即完全引入)到容納裝置中時開始并且當真空施加到過濾基質(zhì)的下端部時結(jié)束的時間段。休止時間段可以為至少0.25秒,優(yōu)選地至少0.5秒,例如至少1秒??傮w上,休止時間段不大于5秒,例如不大于3.5秒,優(yōu)選地不大于2秒。較長的液體調(diào)平時間段增加了涂覆過濾基質(zhì)花費的總時間(即循環(huán)時間),這對于這樣的產(chǎn)品的工業(yè)規(guī)模化制造而言是不期望的??傮w上,步驟(a3)在方法的步驟(b)或步驟(b2)之前。當方法包括步驟(a0)、(a1)或(a2)時,步驟(a3)在步驟(a2)之后。當方法包括步驟(b1)時,步驟(a3)可以在步驟(b1)之前進行、之后進行或者與步驟(b1)同時進行。優(yōu)選的是,步驟(a3)在步驟(b1)之后。本發(fā)明第二個方面的方法包括排放步驟(b),將來自容納裝置的液體排放到過濾基質(zhì)中??傮w上,步驟(b)包括排放步驟(b),在重力作用下(即僅僅在重力作用下)將液體從容納裝置排放到過濾基質(zhì)中。優(yōu)選的是,步驟(b)包括排放步驟(b):在不(例如向過濾基質(zhì)的下端部,例如在過濾基質(zhì)的下端部處的通道的開口端部)施加真空的情況下,將液體從容納裝置排放到過濾基質(zhì)中。更優(yōu)選地,步驟(b)包括排放步驟(b):在不施加真空并且不向過濾基質(zhì)的上端部施加壓力的情況下,將液體從容納裝置排放到過濾基質(zhì)中。壓力可以例如通過吹送氣體(例如空氣)而施加到容納裝置中的液體上,或者通過機械的方式向容納裝置中的液體施加壓力。有利地,本發(fā)明的第一個方面可以用來制備具有壁中涂層的涂覆的過濾基質(zhì),而本發(fā)明的第二個方面可以用來制備具有壁上涂層的涂覆的過濾基質(zhì)。應(yīng)當理解,對壁中涂層的參考指的是,大部分涂層存在于壁中而不是壁的表面上。相似地,應(yīng)當理解,對壁上涂層的參考指的是,大部分涂層位于壁的表面上(例如作為薄膜),而不是位于壁自身內(nèi),例如處于壁的孔中。在本發(fā)明的第二個方面中,液體的涂覆深度由使用的預定量的液體確定。液體應(yīng)當被排放到過濾基質(zhì)中足夠的時間,以便能夠進行完全的擴散,從而獲得期望的涂覆深度。在本發(fā)明的第一個或第二個方面中,過濾基質(zhì)的孔隙度可以為40至75%,例如45至70%(例如45至65%)或50至60%??梢愿鶕?jù)常規(guī)方法,利用壓汞法來確定平均孔尺寸。高孔隙度的基質(zhì)在涂覆過程期間可能易于破裂。與現(xiàn)有技術(shù)的方法相比,本發(fā)明的方法使得基質(zhì)破損最小化,原因在于在該方法中對基質(zhì)的操縱最少。在本發(fā)明的第一個或第二個方面中,尤其是在本發(fā)明的第一個方面中,過濾基質(zhì)或者過濾基質(zhì)的壁具有的平均孔尺寸為10至25μm,例如12至20μm。過濾基質(zhì)的孔尺寸分布可以為0.35至0.60,例如0.40至0.55[例如,其中孔尺寸分布由(d50-d10)/d50表示]。當過濾基質(zhì)具有窄的孔尺寸分布時,難以獲得:(i)載體涂料沿著基質(zhì)的通道的長度的均勻分布;和(ii)基質(zhì)的整個橫截面上的均勻涂層輪廓。這被認為是由于將載體涂料吸入到通道壁中的強毛細作用力在載體涂料之前可能沿著通道的長度穿過。本發(fā)明的有點在于,當采用具有窄孔尺寸分布的基質(zhì)時,可以制造具有(i)和(ii)兩者的涂覆的基質(zhì)。可能優(yōu)選的是(在本發(fā)明的第一個或第二個方面中),過濾基質(zhì)的直徑(例如當具有圓形橫截面時)大于或等于8英寸。如果過濾基質(zhì)具有橢圓形橫截面,那么優(yōu)選地過濾基質(zhì)的橢圓形橫截面積大于或等于50.27平方英寸。用于本發(fā)明的第一個或第二個方面中的液體優(yōu)選地為催化載體涂料。催化載體涂料優(yōu)選地為烴類捕集組合物、三元催化劑(TWC)組合物、NOx吸收劑組合物、氧化催化劑組合物、選擇性催化還原(SCR)催化劑組合物、稀薄NOx催化劑組合物或氨泄漏催化劑(ASC)組合物。這樣的催化載體涂料組合物是本領(lǐng)域中眾所周知的。在本發(fā)明的第一個或第二個方面中,液體可以包括顆粒(例如載體材料顆粒),其中至少90%的顆粒的粒度(即原生粒度)大于0.4μm。優(yōu)選地,至少90%的顆粒的粒度大于0.5μm,更優(yōu)選地大于1μm,甚至更優(yōu)選地大于2μm。在本發(fā)明的第一個或第二個方面中,液體可以包括顆粒(例如載體材料顆粒),其中至少90%的顆粒的粒度(即原生粒度)小于25μm。優(yōu)選地,至少90%的顆粒的粒度小于20μm,更優(yōu)選地小于15μm,甚至更優(yōu)選地小于10μm。在本發(fā)明的第一個方面中,液體優(yōu)選地是三元催化劑(TWC)組合物。在本發(fā)明的第二個方面中,液體優(yōu)選地是氧化催化劑組合物或SCR催化劑組合物,更優(yōu)選地,液體是SCR催化劑組合物??傮w上,液體可以包括增稠劑??梢跃哂性龀韯?,以使得液體具有粘度,從而允許液體逐步地排放到過濾基質(zhì)中,或者坐置在過濾基質(zhì)的頂部上直到施加真空以將液體吸入到基質(zhì)中。本發(fā)明可以用來涂覆過濾基質(zhì)的上端面。當涂覆過濾基質(zhì)的上端面時,步驟(b)總體上包括:利用來自容納裝置的液體涂覆在過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道,涂覆深度為過濾基質(zhì)的軸向長度的10%或更小,優(yōu)選地5%或更小(例如2.5%或更小)。本發(fā)明(例如本發(fā)明的第一或第二個方面)中所用的過濾基質(zhì)可以預先涂覆有第一液體,例如從過濾基質(zhì)的上端部或下端部(優(yōu)選下端部)涂覆。在本文中,下端部指的是根據(jù)本發(fā)明待涂覆的(即上端部)的相對端部。因此,該方法可以涉及涂覆預涂覆的過濾基質(zhì)的方法,該過濾基質(zhì)包括多個通道,其中預涂覆的過濾基質(zhì)已經(jīng)從過濾基質(zhì)的上端部或下端部(優(yōu)選下端部)用第一液體進行涂覆,所述方法包括以下步驟:(a)將預定量的第二液體引入到預涂覆的過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中;以及(b)利用來自容納裝置的第二液體涂覆在預涂覆的過濾基質(zhì)的上端部處具有開口端部的通道。預涂覆的過濾基質(zhì)可以具有多個通道,每個通道具有壁上涂層和/或壁中涂層。在原理上,任何方法都可以用于制備預涂覆的過濾基質(zhì)。優(yōu)選的是,本發(fā)明的方法或本發(fā)明的設(shè)備用于制備預涂覆的過濾基質(zhì)。當根據(jù)本發(fā)明已經(jīng)涂覆過濾基質(zhì)時,可以從相對端部進行涂覆,例如通過采用本發(fā)明的方法進行涂覆。因此,本發(fā)明涉及從每一個端部(即第一端部和第二端部)涂覆過濾基質(zhì)的方法。因此,在方法(針對第一和第二個方法方面)的步驟(c)之后,可以向基質(zhì)的相對端部施加第二涂層。用來施加第二涂層的方法可以與用來施加第一涂層的方法相同或不同。本發(fā)明的第一個方面還提供一種涂覆過濾基質(zhì)的方法,該過濾基質(zhì)包括多個通道,該方法包括以下步驟:(a)將預定量的第一液體引入到過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中;(b)向過濾基質(zhì)的下端部施加真空;(c)干燥過濾基質(zhì);(d)將過濾基質(zhì)(例如包含第一液體)倒置;(e)將預定量的第二液體引入到倒置的過濾基質(zhì)的下端部處的容納裝置中;(f)向倒置的過濾基質(zhì)的上端部施加真空。對倒置的基質(zhì)的下端部的參考指的是在基質(zhì)已經(jīng)被倒置之后的基質(zhì)的上端部。相似地,對倒置的基質(zhì)的上端部的參考指的是在基質(zhì)已經(jīng)被倒置之后的基質(zhì)的下端部。步驟(e)對應(yīng)于本發(fā)明第一個方面的步驟(a),或者大致如上所限定的。步驟(f)對應(yīng)于本發(fā)明第一個方面的步驟(b),或者大致如上所限定的。本發(fā)明的第一個方面還提供一種涂覆過濾基質(zhì)的方法,該過濾基質(zhì)包括多個通道,該方法包括以下步驟:(a)將預定量的第一液體引入到過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中;(b)向過濾基質(zhì)的下端部施加真空;(c)干燥過濾基質(zhì);(d)將過濾基質(zhì)(例如包含第一液體)倒置;(e)將預定量的第二液體引入到倒置的過濾基質(zhì)的下端部處的容納裝置中;(f)將來自容納裝置的第二液體排放到過濾基質(zhì)中。步驟(e)對應(yīng)于本發(fā)明第二個方面的步驟(a),或者大致如上所限定的。步驟(f)對應(yīng)于本發(fā)明第二個方面的步驟(b),或者大致如上所限定的。本發(fā)明的第二個方面還涉及一種涂覆過濾基質(zhì)的方法,該過濾基質(zhì)包括多個通道,該方法包括以下步驟:(a)將預定量的第一液體引入到過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中;以及(b)將來自容納裝置的第一液體排放到過濾基質(zhì)中;(c)干燥過濾基質(zhì);(d)將過濾基質(zhì)(例如包含第一液體)倒置;(e)將預定量的第二液體引入到倒置的過濾基質(zhì)的下端部處的容納裝置中;以及(b)將來自容納裝置的第二液體排放到過濾基質(zhì)中。步驟(e)對應(yīng)于本發(fā)明第二個方面的步驟(a),或者大致如上所限定的。步驟(f)對應(yīng)于本發(fā)明第二個方面的步驟(b),或者大致如上所限定的。本發(fā)明的第二個方面還提供一種涂覆過濾基質(zhì)的方法,該過濾基質(zhì)包括多個通道,該方法包括以下步驟:(a)將預定量的第一液體引入到過濾基質(zhì)的上端部處的容納裝置中;以及(b)將來自容納裝置的第一液體排放到過濾基質(zhì)中;(c)干燥過濾基質(zhì);(d)將過濾基質(zhì)(例如包含第一液體)倒置;(e)將預定量的第二液體引入到倒置的過濾基質(zhì)的下端部處的容納裝置中;(f)向倒置的過濾基質(zhì)的上端部施加真空。步驟(e)對應(yīng)于本發(fā)明第一個方面的步驟(a),或者大致如上所限定的。步驟(f)對應(yīng)于本發(fā)明第一個方面的步驟(b),或者大致如上所限定的??傮w上,將過濾基質(zhì)倒置的步驟是使基質(zhì)旋轉(zhuǎn)180°的步驟。在將基質(zhì)倒置之后,起初處于基質(zhì)的下端部處的通道的開口端部將處于基質(zhì)的上端部處。第二液體將被引入到通道的開口端部中,該開口端部在倒置之前處于基質(zhì)的下端部處。第一液體和第二液體可以是相同的(即具有相同的組合物)或者可以是不同的(即具有不同的組合物)。在以上本發(fā)明的方法中,步驟(c)可以包括:干燥過濾基質(zhì),以形成預涂覆的過濾基質(zhì)。優(yōu)選的是,步驟(c)包括:干燥過濾基質(zhì),以干燥到過濾基質(zhì)上的液體,并且形成預涂覆的過濾基質(zhì)。步驟(c)可以包括:干燥步驟(c1),干燥過濾基質(zhì),優(yōu)選地干燥到過濾基質(zhì)上的液體;和煅燒步驟(c2),煅燒過濾基質(zhì),以形成預涂覆的過濾基質(zhì)。本發(fā)明的設(shè)備可以包括或者可以不包括用于將基質(zhì)倒置的裝置(例如用于將包含第一液體的過濾基質(zhì)倒置的裝置)。定義在此所用的術(shù)語“預定量”指的是用于引入到基質(zhì)中的液體的總量,其足以獲得特定的產(chǎn)品特性,例如期望的涂層規(guī)格。就該量是“預先測量的”而言,該量是“預定的”??梢噪x線進行例行試驗,以找出獲得期望產(chǎn)品特性所需的液體的總量。這樣的預定量可以容易地確定,并且已知可以利用本領(lǐng)域中涂覆基質(zhì)的其它方法或設(shè)備(例如參見WO99/47260和WO2011/080525)。在此所用的術(shù)語“單個劑量”指的是用于涂覆單個基質(zhì)的液體的量,通常用來滿足期望的產(chǎn)品規(guī)格。在此所用的對“真空”的任何參考指的是低于大氣壓的壓力。術(shù)語“真空”并不解釋為完全沒有物質(zhì)的空間這樣字面上的意義。施加到基質(zhì)的真空的強度將取決于所使用的液體的組合物和基質(zhì)的類型。真空應(yīng)當足夠強,以清空基質(zhì)的單元,從而不存在堵塞。這樣的真空強度或減小的壓力是本領(lǐng)域中眾所周知的。在此所用的對“基質(zhì)”的任何參考,無論“過濾基質(zhì)”還是“流過型基質(zhì)”,都包含基質(zhì)整體材料(例如過濾基質(zhì)整體材料或流過型基質(zhì)整體材料)。在此所用的對“大致壁上”的任何參考指的是過濾基質(zhì),其中包含催化劑成分的液體已經(jīng)涂覆到(即過濾基質(zhì)的)壁的表面上,使得>50%的催化劑成分,尤其是>60%的催化劑成分,優(yōu)選地>70%的催化劑成分(例如>80%的催化劑成分),更優(yōu)選地>90%的催化劑成分,設(shè)置在壁的表面上。當液體包括多個催化劑成分時,通常>全部催化劑成分的50%,尤其是>全部催化劑成分的60%,優(yōu)選地>全部催化劑成分的70%(例如>全部催化劑成分的80%),更優(yōu)選地>全部催化劑成分的90%,設(shè)置在壁的表面上。在此所用的對“大致壁中”的任何參考指的是過濾基質(zhì),其中包含催化劑成分的液體停留在壁(例如過濾基質(zhì)的壁的多孔材料/結(jié)構(gòu))中,使得>50%的催化劑成分,尤其是>60%的催化劑成分,優(yōu)選地>70%的催化劑成分(例如>80%的催化劑成分),更優(yōu)選地>90%的催化劑成分,停留在壁中。當液體包括多個催化劑成分時,通常>全部催化劑成分的50%,尤其是>全部催化劑成分的60%,優(yōu)選地>全部催化劑成分的70%(例如>全部催化劑成分的80%),更優(yōu)選地>全部催化劑成分的90%,停留在壁中??梢岳脪呙桦娮语@微鏡(SEM)確定壁中和壁上涂層的量。實例現(xiàn)在將參考以下非限制性實例來描述本發(fā)明。實例1制造汽油顆粒過濾器(GPF)制備用于汽油顆粒過濾器的載體涂料。通過加入流變改性劑來改變載體涂料的粘度,以使得載體涂料的粘度到達38cP(利用主軸速度為50rpm的SC4-27主軸,在BrookfieldRVDVII+ExtraPro粘度計上,在20℃下測量得到)。載體涂料被配置成用以使得載體涂料的荷量為0.8gin-3,PGM荷量為25gft-3。以下的表1中示出了分散在液體中的載體材料的粒度分布。表1D(v,0.1)1.44μmD(v,0.5)5.21μmD(v,0.9)16.3μmD(v,0.98)26.52μm利用MalvernMastersizer2000,通過激光衍射顆粒尺寸分析來獲得粒度測量值,該分析是基于體積的技術(shù)(即D(v,0.1),D(v,0.5),D(v,0.9)和D(v,0.98)也可以被分別稱為DV10,DV50,DV90和DV98(或分別為D10,D50,D90和D98),并且應(yīng)用數(shù)學米氏理論模型來確定粒度分布。通過在35瓦下對沒有表面活性劑的蒸餾水超聲處理30秒,來制備稀釋的載體涂料樣品。載體涂料用來利用圖1所示的設(shè)備將過濾基質(zhì)(4.66x4.5”C650NGKTM基質(zhì))涂覆到50%的涂覆深度。將50%劑量體積的載體涂料分配到定位在過濾基質(zhì)的上端面上的容納裝置中。在將50%劑量體積引入到容納裝置中之后,將-10kPa的真空施加到過濾基質(zhì)的下端部120秒。在干燥和煅燒涂覆的過濾基質(zhì)之后,通過SEM分析確定出現(xiàn)基質(zhì)的大致壁中涂層。發(fā)現(xiàn)載體涂料的平均(平均)涂覆長度為過濾基質(zhì)的軸向長度的57%。平均值周圍的涂覆長度的分布小于±10%。實例2制造汽油顆粒過濾器(GPF)制備用于汽油顆粒過濾器的載體涂料,其粘度為33cP(利用50rpm的SC4-21主軸,在BrookfieldLV粘度計上,在20℃下測量得到)。載體涂料被配置成用以使得載體涂料的荷量為0.4gin-3。載體涂料用來利用圖1所示的設(shè)備將過濾基質(zhì)(4.66x4.5”C810NGKTM基質(zhì))涂覆到目標的55%涂覆深度。將55%劑量體積的載體涂料分配到定位在過濾基質(zhì)的上端面上的容納裝置中。在將55%劑量體積引入到容納裝置中之后,將-5kPa的真空施加到過濾基質(zhì)的下端部。發(fā)現(xiàn)載體涂料的平均(平均)涂覆長度為過濾基質(zhì)的軸向長度的58%。平均值周圍的涂覆長度的分布小于±10%。實例3制備催化煙灰過濾器(CSF)制備用于催化煙灰過濾器的載體涂料。載體涂料的粘度為49cP(利用主軸速度為50rpm的SC4-27主軸,在BrookfieldRVDVII+ExtraPro粘度計上,在20℃下測量得到)。載體涂料被配置成用以使得載體涂料的荷量為0.35gin-3,PGM荷量為2gft-3。載體涂料用來利用圖1所示的設(shè)備將過濾基質(zhì)涂覆到50%的涂覆深度,而不施加真空。將50%劑量體積的載體涂料分配到定位在過濾基質(zhì)的上端面上的容納裝置中,并且允許該載體涂料排放或滲入到過濾基質(zhì)的通道中。在干燥和煅燒涂覆的過濾基質(zhì)之后,通過SEM分析確定出現(xiàn)基質(zhì)的壁上涂層。實例4和5制備催化煙灰過濾器(CSF)制備用于催化煙灰過濾器的兩種載體涂料,如以下的表2所示。表2實例No.粘度(cP)*載體涂料荷量(g/in3)450.245570..1*在20℃下,在BrookfieldLV粘度計上,利用50rpm下的SC4-21主軸測量得到實例4和5的載體涂料用來利用圖1所示的設(shè)備涂覆過濾基質(zhì)(143.8mmx129.5mmSD091IbidenTM基質(zhì))。對于實例4,目標涂覆深度為66%。將66%劑量體積的載體涂料分配到定位在過濾基質(zhì)的上端面上的容納裝置中。在將66%劑量體積引入到容納裝置中之后,將-5kPa的真空施加到過濾基質(zhì)的下端部。發(fā)現(xiàn)載體涂料的平均(平均)涂覆長度為過濾基質(zhì)的軸向長度的65%。平均值周圍的涂覆長度的分布小于±10%。對于實例5,目標涂覆深度為46%。將46%劑量體積的載體涂料分配到定位在過濾基質(zhì)的上端面上的容納裝置中。在將46%劑量體積引入到容納裝置中之后,將-5kPa的真空施加到過濾基質(zhì)的下端部。發(fā)現(xiàn)載體涂料的平均(平均)涂覆長度為過濾基質(zhì)的軸向長度的48%。平均值周圍的涂覆長度的分布小于±10%。實例6利用溶膠制備催化煙灰過濾器(CSF)利用溶膠類型的材料制備用于催化煙灰過濾器的載體涂料。通過加入流變改性劑來改變載體涂料的粘度,以使得載體涂料的粘度達到2200cP(利用主軸速度為10rpm的#4主軸,在BrookfieldRVDV-E粘度計上,在20℃下測量得到)。利用溶膠制備載體涂料,該溶膠被配置成用以使得載體涂料的荷量為0.18或0.36gin-3,PGM荷量為0.7gft-3。以下的表3中示出了分散在液體中的載體材料的粒度分布。表3D(v,0.1)0.084μmD(v,0.5)0.122μmD(v,0.9)0.175μmD(v,0.98)0.210μm載體涂料用來利用圖1所示的設(shè)備將過濾基質(zhì)(5.66x6”558HGNGKTM基質(zhì))涂覆到50%的涂覆深度。將50%劑量體積的載體涂料分配到定位在過濾基質(zhì)的上端面上的容納裝置中。在干燥和煅燒涂覆的過濾基質(zhì)之后,通過SEM分析確定出現(xiàn)基質(zhì)的大致壁中涂層。發(fā)現(xiàn)載體涂料的平均(平均)涂覆長度為過濾基質(zhì)的軸向長度的55%。實例7利用溶膠制備催化煙灰過濾器(CSF)利用溶膠類型的材料制備載體涂料,其粘度為810cP(利用主軸速度為10rpm的#3主軸,在BrookfieldRVDV-E粘度計上,在20℃下測量得到)。載體涂料被配置成用以使得載體涂料的荷量為0.193gin-3。載體涂料用來利用圖1所示的設(shè)備將過濾基質(zhì)((143.8mmx129.5mmSD091IbidenTM基質(zhì))涂覆到目標的55%涂覆深度。將55%劑量體積的載體涂料分配到定位在過濾基質(zhì)的上端面上的容納裝置中。在將55%劑量體積引入到容納裝置中之后,將-20kPa的真空施加到過濾基質(zhì)的下端部。發(fā)現(xiàn)載體涂料的平均(平均)涂覆長度為過濾基質(zhì)的軸向長度的54%。平均值周圍的涂覆長度的分布小于±10%。實例8至10選擇性催化還原過濾器(SCRFTM)催化劑的制備制備一系列含有釩的SCR載體涂料,如以下的表4所示。表4*在20℃下,在BrookfieldLV粘度計上,利用50rpm的SC4-21主軸測量得到;在20℃下,在BrookfieldLV粘度計上,利用50rpm的SC4-27主軸測量得到實例8和10的載體涂料用來利用圖1所示的設(shè)備涂覆過濾基質(zhì),如以下的表5中所列。在每種情況下,目標涂覆深度為75%。表5示出了施加的真空以及針對每個部分獲得的涂覆深度。表5平均值周圍的涂覆長度的分布小于±10%為免生疑問,本文中引用的任何和所有文獻的全部內(nèi)容都通過參考并入到本申請中。當前第1頁1 2 3 
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