專利名稱：廢液過濾系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種廢液過濾系統(tǒng)，尤其涉及一種應(yīng)用于半導體制程工藝中的廢液過濾系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
晶圓減薄(即背面研磨)是半導體制程中的一個重要工藝，一般的晶圓要根據(jù)封裝產(chǎn)品的規(guī)格要求來進行適當?shù)臏p薄，具體來說，就是通過把多余材料從沒有磨光或者沒有處理過的晶圓表面除掉而完成的，在生產(chǎn)時，圓片通常要制造的比所需厚度大一些，以便讓使用者可以根據(jù)自己需要進行處理；也可以讓廠家更容易掌握公差，通過圓片減薄工藝，使用者可以考慮改變其電、光或者是機械性能來滿足最終應(yīng)用。通常情況下，所有的圓片應(yīng)該同時拋光，但是這種方法只對個別芯片或者一個圓片上的個別部分通用，例如，用于光纖 裝置上的預先切割的芯片要進行額外的減薄和磨光處理才能使其附著在光纖上。通常，進行減薄工藝時，晶圓片放置在工作盤(Chuck Table)上后傳送至減薄機內(nèi)的磨片平臺上，且晶圓要放在平臺吸盤的中央，打開真空吸盤開關(guān)將晶圓吸牢，設(shè)置減薄厚度的參數(shù)，然后啟動砂輪對晶圓片的背面進行打磨減薄，減薄的同時有冷卻水和沖洗水對晶圓片和砂輪進行清洗，清洗過程將砂輪磨損的渣滓和水一起形成廢液經(jīng)過廢液過濾系統(tǒng)。然而，現(xiàn)有的廢液過濾系統(tǒng)存在過濾不充分的問題，其內(nèi)設(shè)的過濾槽結(jié)構(gòu)過于簡單，只能過濾60%左右的廢液，過濾效果不佳。鑒于上述問題，有必要提供一種新的廢液過濾系統(tǒng)來解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所解決的技術(shù)問題在于提供一種廢液過濾系統(tǒng)，其可大大改善過濾效果。為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案一種廢液過濾系統(tǒng),其包括一過濾槽，該過濾槽設(shè)有一槽體及蓋于所述槽體上的蓋板，所述槽體設(shè)有一底蓋及一對相對設(shè)置的側(cè)壁，所述底蓋與所述側(cè)壁構(gòu)成一容納廢液的容納腔，所述底蓋設(shè)有若干延伸入所述容納腔內(nèi)的第一隔板，所述蓋板設(shè)有若干延伸入所述容納腔內(nèi)的第二隔板，所述第一隔板與第二隔板交替排列。作為本技術(shù)方案的進一步改進，所述第一隔板與第二隔板彼此平行設(shè)置，且所述第一隔板自下而上延伸入所述容納腔內(nèi)，而所述第二隔板自上而下延伸入所述容納腔內(nèi)。作為本技術(shù)方案的進一步改進，相鄰兩個第一隔板之間形成一隔槽，所述第二隔板延伸入所述隔槽內(nèi)且延伸深度超過所述隔槽深度的二分之一。作為本技術(shù)方案的進一步改進，所述第一隔板、第二隔板沿同一方向等間距排列。作為本技術(shù)方案的進一步改進，所述第一隔板的高度相同。作為本技術(shù)方案的進一步改進，所述兩個側(cè)壁中的一個側(cè)壁設(shè)有一進口，另一側(cè)壁設(shè)有一出口，且所述進口高于所述出口。作為本技術(shù)方案的進一步改進，所述第二隔板在豎直方向上的長度大于所述第一隔板在豎直方向上的長度。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所述的廢液過濾系統(tǒng)通過第二隔板的設(shè)置大大改善了廢液過濾效果及廢液過濾不充分的問題。


圖I為本發(fā)明所述廢液過濾系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式請參圖I所示,本發(fā)明提供一種廢液過濾系統(tǒng),其包括一過濾槽100，該過濾槽100的一端設(shè)有一進口，另一端設(shè)有一出口，分別用于引入廢液和排出廢液。所述過濾槽100呈一箱體形狀，其包括一盛放廢液的槽體10及蓋于所述槽體上方的蓋板20。 所述槽體10設(shè)有一底蓋11及相對設(shè)置的一對側(cè)壁12，所述側(cè)壁12位于所述底蓋11的兩端并與所述底蓋11垂直設(shè)置，由此與所述底蓋11共同形成一容納廢液的容納腔13，其中，所述底蓋11設(shè)有若干垂直延伸入所述容納腔13內(nèi)的第一隔板14，所述第一隔板14沿所述廢液的流經(jīng)方向等間距均勻排列設(shè)置，相鄰兩個第一隔板14之間形成一隔槽15，在過濾過程中，所述第一隔板14起到擋板的作用，可以很好地將所述過濾液中的雜物阻擋于所述隔槽15內(nèi)，起到改善過濾效果的作用，且每個第一隔板15的高度相同，也使得廢液能流通順暢、受阻小，同時，也方便制造和安裝。所述兩個側(cè)壁12中的一個側(cè)壁設(shè)置一所述進口，另一側(cè)壁上設(shè)置一所述出口，所述進口高于所述出口，以保證廢液能夠順利流進并流出所述過濾槽。所述蓋板20位于所述容納腔13上方，且設(shè)有若干向下垂直延伸入所述容納腔13內(nèi)的第二隔板21，所述第二隔板21沿著與所述第一隔板14相同的排列方向等間距排列，所述第一隔板14、第二隔板21彼此平行設(shè)置，且在排列方向上所述第一、第二隔板交替設(shè)置，其中，所述第二隔板21由上而下延伸入所述第一隔板14之間的隔槽15內(nèi)，且延伸深度超過所述隔槽15深度的二分之一，使得廢液中的雜物不易流出所述隔槽15，有利于廢液的過濾效果。所述第二隔板在豎直方向上的長度大于所述第一隔板在豎直方向上的長度。本發(fā)明所述的廢液過濾系統(tǒng)在所述過濾槽的蓋板20上設(shè)置若干延伸入容納腔13內(nèi)并與所述第一隔板14交替設(shè)置的第二隔板21，其可增加對廢液中雜物的阻擋，使其殘留于第一隔板14之間的隔槽15內(nèi)，所述第一隔板14自下而上延伸，而第二隔板21自上而下延伸，可大大改善了廢液的過濾效果，增加所述第二隔板21后本發(fā)明所述的過濾槽的過濾效果可達到85%以上，相較于傳統(tǒng)過濾槽的60%具有明顯的優(yōu)勢。以上所述，僅是本發(fā)明的最佳實施例而已，并非對本發(fā)明作任何形式上的限制。任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，利用上述揭示的方法內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動和修飾，均屬于權(quán)利要求書保護的范圍。
權(quán)利要求
1.一種廢液過濾系統(tǒng)，其包括一過濾槽，該過濾槽設(shè)有一槽體及蓋于所述槽體上的蓋板，所述槽體設(shè)有一底蓋及一對相對設(shè)置的側(cè)壁，所述底蓋與所述側(cè)壁構(gòu)成一容納廢液的容納腔，所述底蓋設(shè)有若干延伸入所述容納腔內(nèi)的第一隔板，其特征在于所述蓋板設(shè)有若干延伸入所述容納腔內(nèi)的第二隔板，所述第一隔板與第二隔板交替排列。
2.如權(quán)利要求I所述的廢液過濾系統(tǒng)，其特征在于所述第一隔板與第二隔板彼此平行設(shè)置，且所述第一隔板自下而上延伸入所述容納腔內(nèi)，而所述第二隔板自上而下延伸入所述容納腔內(nèi)。
3.如權(quán)利要求2所述的廢液過濾系統(tǒng)，其特征在于相鄰兩個第一隔板之間形成一隔槽，所述第二隔板延伸入所述隔槽內(nèi)且延伸深度超過所述隔槽深度的二分之一。
4.如權(quán)利要求3所述的廢液過濾系統(tǒng)，其特征在于所述第一隔板、第二隔板沿同一方向等間距排列。
5.如權(quán)利要求4所述的廢液過濾系統(tǒng)，其特征在于所述第一隔板的高度相同。
6.如權(quán)利要求I至5項中任意一項所述的廢液過濾系統(tǒng)，其特征在于所述兩個側(cè)壁中的一個側(cè)壁設(shè)有一進口，另一側(cè)壁設(shè)有一出口，且所述進口高于所述出口。
7.如權(quán)利要求6所述的廢液過濾系統(tǒng)，其特征在于所述第二隔板在豎直方向上的長度大于所述第一隔板在豎直方向上的長度。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種廢液過濾系統(tǒng)，其包括一過濾槽，該過濾槽設(shè)有一槽體及蓋于所述槽體上的蓋板，所述槽體設(shè)有一底蓋及一對相對設(shè)置的側(cè)壁，所述底蓋與所述側(cè)壁構(gòu)成一容納廢液的容納腔，所述底蓋設(shè)有若干延伸入所述容納腔內(nèi)的第一隔板，所述蓋板設(shè)有若干延伸入所述容納腔內(nèi)的第二隔板，所述第一隔板與第二隔板交替排列。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所述的廢液過濾系統(tǒng)通過第二隔板的設(shè)置大大改善了廢液過濾效果及廢液過濾不充分的問題。
文檔編號B01D35/00GK102805971SQ201110143570
公開日2012年12月5日 申請日期2011年5月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月31日
發(fā)明者夏斯超 申請人:無錫華潤上華半導體有限公司, 無錫華潤上華科技有限公司