Wafer自動清洗機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及清洗機(jī)領(lǐng)域技術(shù)，尤其是指一種Wafer自動清洗機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]晶兀(Wafer)，也稱嘉晶、晶圓、監(jiān)寶石襯底、外延片。是生廣集成電路所用的載體，多指單晶硅圓片。多用于顯示照明及LED行業(yè)。單晶硅圓片由普通硅砂拉制提煉，經(jīng)過溶解、提純、蒸餾一系列措施制成單晶硅棒，單晶硅棒經(jīng)過拋光、切片之后，就成為了晶元。
[0003]晶元在完成制作后通常需要進(jìn)行清洗和烘干，現(xiàn)有技術(shù)中，這兩道工序均采用人工完成，人工清洗不但效率低，并且清洗不干凈，對產(chǎn)品的質(zhì)量造成影響。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]有鑒于此，本實用新型針對現(xiàn)有技術(shù)存在之缺失，其主要目的是提供一種Wafer自動清洗機(jī)，其能有效解決現(xiàn)有之人工清洗和烘干方式效率低、質(zhì)量不好的問題。
[0005]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用如下之技術(shù)方案:
[0006]—種Wafer自動清洗機(jī)，包括有機(jī)架、轉(zhuǎn)盤裝置、高壓水槍、烘干燈以及PLC控制系統(tǒng)；該機(jī)架具有一工作腔室，該轉(zhuǎn)盤裝置、高壓水槍和烘干燈均設(shè)置于機(jī)架上并位于工作腔室內(nèi)，且高壓水槍和烘干燈均位于轉(zhuǎn)盤裝置的上方，轉(zhuǎn)盤裝置由第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)帶動而高速旋轉(zhuǎn)，該高壓水槍連接高壓柱塞栗，高壓柱塞栗由電動機(jī)帶動運轉(zhuǎn)；該PLC控制系統(tǒng)設(shè)置于機(jī)架上，前述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)、高壓柱塞栗和烘干燈均連接PLC控制系統(tǒng)。
[0007]優(yōu)選的，所述高壓水槍可擺動地設(shè)置于機(jī)架上，高壓水槍有第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)帶動而來回擺動，第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接PLC控制系統(tǒng)。
[0008]優(yōu)選的，所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)為電機(jī)。
[0009]優(yōu)選的，所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)為電機(jī)，電機(jī)通過皮帶帶動轉(zhuǎn)盤裝置旋轉(zhuǎn)運動。
[0010]優(yōu)選的，所述烘干燈可前后來回活動地設(shè)置于機(jī)架上。
[0011]優(yōu)選的，針對工作腔室設(shè)置有用于蓋住工作腔室開口的亞克力保護(hù)門，亞克力保護(hù)門由氣缸驅(qū)動而打開或關(guān)閉。
[0012]本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果，具體而言，由上述技術(shù)方案可知:
[0013]通過利用電動機(jī)使高壓柱塞栗產(chǎn)生高壓水來沖洗物體表面，能將污垢剝離沖走，達(dá)到清洗物體表面的目的，清洗更加干凈，保證了產(chǎn)品質(zhì)量，本設(shè)備可對Wafer自動完成清洗和烘干工序，工作效率高，功能完善，自動化程度高，不需人工介入，可降低人工成本。
[0014]為更清楚地闡述本實用新型的結(jié)構(gòu)特征和功效，下面結(jié)合附圖與具體實施例來對本實用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。
【附圖說明】
[0015]圖1是本實用新型之較佳實施例的立體示意圖；
[0016]圖2是本實用新型之較佳實施例的主視圖。
[0017]附圖標(biāo)識說明:
[0018]10、機(jī)架11、工作腔室
[0019]20、轉(zhuǎn)盤裝置30、高壓水槍
[0020]40、烘干燈50、PLC控制系統(tǒng)
[0021]60、第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)70、高壓柱塞栗
[0022]80、第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)90、亞克力保護(hù)門。
【具體實施方式】
[0023]請參照圖1和圖2所示，其顯示出了本實用新型之較佳實施例的具體結(jié)構(gòu)，包括有機(jī)架10、轉(zhuǎn)盤裝置20、高壓水槍30、烘干燈40以及PLC控制系統(tǒng)50。
[0024]該機(jī)架10具有一工作腔室11，該轉(zhuǎn)盤裝置20、高壓水槍30和烘干燈40均設(shè)置于機(jī)架10上并位于工作腔室11內(nèi)，且高壓水槍30和烘干燈40均位于轉(zhuǎn)盤裝置20的上方，轉(zhuǎn)盤裝置20由第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)60帶動而高速旋轉(zhuǎn)，在本實施例中，所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)60為電機(jī)，電機(jī)通過皮帶(圖中未示)帶動轉(zhuǎn)盤裝置20旋轉(zhuǎn)運動。該高壓水槍30連接高壓柱塞栗70，高壓柱塞栗70由電動機(jī)帶動運轉(zhuǎn)，在本實施例中，所述高壓水槍30可擺動地設(shè)置于機(jī)架10上，高壓水槍30有第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)80帶動而來回擺動，第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)80連接PLC控制系統(tǒng)50，所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)80為電機(jī)。該烘干燈40可前后來回活動地設(shè)置于機(jī)架10上。
[0025]該PLC控制系統(tǒng)50設(shè)置于機(jī)架10上，前述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)60、高壓柱塞栗70和烘干燈40均連接PLC控制系統(tǒng)50。
[0026]以及，針對工作腔室11設(shè)置有用于蓋住工作腔室11開口的亞克力保護(hù)門90，亞克力保護(hù)門90由氣缸(圖中未示)驅(qū)動而打開或關(guān)閉。
[0027]工作時，人工將產(chǎn)品放置在轉(zhuǎn)盤裝置20上定位，按啟動鍵，亞克力防護(hù)門90由氣缸驅(qū)動自動關(guān)閉，第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)60帶動轉(zhuǎn)盤裝置20高速旋轉(zhuǎn)，高壓水槍30自動啟動，旋轉(zhuǎn)擺動式噴水而對產(chǎn)品表面進(jìn)行清潔，當(dāng)設(shè)定的噴水時間到后，烘干燈40啟動，自動烘烤產(chǎn)品，設(shè)定時間到后，轉(zhuǎn)盤裝置20停止旋轉(zhuǎn)，亞克力防護(hù)門90自動打開，清洗結(jié)束，人工替換
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[0028]本實用新型的設(shè)計重點是:通過利用電動機(jī)使高壓柱塞栗產(chǎn)生高壓水來沖洗物體表面，能將污垢剝離沖走，達(dá)到清洗物體表面的目的，清洗更加干凈，保證了產(chǎn)品質(zhì)量，本設(shè)備可對Wafer自動完成清洗和烘干工序，工作效率高，功能完善，自動化程度高，不需人工介入，可降低人工成本。
[0029]以上結(jié)合具體實施例描述了本實用新型的技術(shù)原理。這些描述只是為了解釋本實用新型的原理，而不能以任何方式解釋為對本實用新型保護(hù)范圍的限制?；诖颂幍慕忉?，本領(lǐng)域的技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動即可聯(lián)想到本實用新型的其它【具體實施方式】，這些方式都將落入本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種Wafer自動清洗機(jī)，其特征在于:包括有機(jī)架、轉(zhuǎn)盤裝置、高壓水槍、烘干燈以及PLC控制系統(tǒng)；該機(jī)架具有一工作腔室，該轉(zhuǎn)盤裝置、高壓水槍和烘干燈均設(shè)置于機(jī)架上并位于工作腔室內(nèi)，且高壓水槍和烘干燈均位于轉(zhuǎn)盤裝置的上方，轉(zhuǎn)盤裝置由第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)帶動而高速旋轉(zhuǎn)，該高壓水槍連接高壓柱塞栗，高壓柱塞栗由電動機(jī)帶動運轉(zhuǎn)；該PLC控制系統(tǒng)設(shè)置于機(jī)架上，前述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)、高壓柱塞栗和烘干燈均連接PLC控制系統(tǒng)。2.如權(quán)利要求1所述的Wafer自動清洗機(jī)，其特征在于:所述高壓水槍可擺動地設(shè)置于機(jī)架上，高壓水槍有第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)帶動而來回擺動，第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)連接PLC控制系統(tǒng)。3.如權(quán)利要求2所述的Wafer自動清洗機(jī)，其特征在于:所述第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)為電機(jī)。4.如權(quán)利要求1所述的Wafer自動清洗機(jī)，其特征在于:所述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)為電機(jī)，電機(jī)通過皮帶帶動轉(zhuǎn)盤裝置旋轉(zhuǎn)運動。5.如權(quán)利要求1所述的Wafer自動清洗機(jī)，其特征在于:所述烘干燈可前后來回活動地設(shè)置于機(jī)架上。6.如權(quán)利要求1所述的Wafer自動清洗機(jī)，其特征在于:針對工作腔室設(shè)置有用于蓋住工作腔室開口的亞克力保護(hù)門，亞克力保護(hù)門由氣缸驅(qū)動而打開或關(guān)閉。
【專利摘要】本實用新型公開一種Wafer自動清洗機(jī)，包括有機(jī)架、轉(zhuǎn)盤裝置、高壓水槍、烘干燈以及PLC控制系統(tǒng)；該機(jī)架具有一工作腔室，該轉(zhuǎn)盤裝置、高壓水槍和烘干燈均設(shè)于機(jī)架上并位于工作腔室內(nèi)，高壓水槍和烘干燈均位于轉(zhuǎn)盤裝置的上方，轉(zhuǎn)盤裝置由第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)帶動高速旋轉(zhuǎn)，該高壓水槍連接高壓柱塞泵，高壓柱塞泵由電動機(jī)帶動運轉(zhuǎn)；該PLC控制系統(tǒng)設(shè)置于機(jī)架上，前述第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)、高壓柱塞泵和烘干燈均連接PLC控制系統(tǒng)。通過利用電動機(jī)使高壓柱塞泵產(chǎn)生高壓水來沖洗物體表面，能將污垢剝離沖走，達(dá)到清洗物體表面的目的，清洗更加干凈，保證產(chǎn)品質(zhì)量，本設(shè)備可對Wafer自動完成清洗和烘干工序，工作效率高，功能完善，自動化程度高，不需人工介入，可降低人工成本。
【IPC分類】B08B13/00, F26B23/04, B08B3/02
【公開號】CN204892454
【申請?zhí)枴緾N201520606176
【發(fā)明人】黃均學(xué)
【申請人】東莞市承恩自動化設(shè)備有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年8月13日