浮或膠體態(tài)的微小顆粒及有機高分子，可進一步降低廢水的色度，同時去除部分有機污染物質(zhì)使廢水得到凈化。陰極反應(yīng)產(chǎn)生大量新生態(tài)的[H]和[O]，在偏酸性的條件下，這些活性成分均能與廢水中的許多組分發(fā)生氧化還原反應(yīng)，使有機大分子發(fā)生斷鏈降解，從而消除了有機廢水的色度，提高了廢水的可生化性，且陰極反應(yīng)消耗了大量的H+生成了大量的0H-，這使得廢水的pH值也有所提高。當(dāng)廢水與鐵碳接觸后發(fā)生如下電化學(xué)反應(yīng):陽極:Fe-2e一.- Fe2+E (Fe/Fe) =0.4V ;陰極:2H+2e—.- H2，E (H+/H2) =OV 當(dāng)有氧存在時，陰極反應(yīng)如下:02+4H++4e—.- 2H20，E (02) =1.23V ；02+2H20+4e一.- 40H-E (02/0H-) =0.41V。
[0024]鐵碳處理之后進入等離子處理階段，等離子處理機構(gòu)由一導(dǎo)氣管和位于導(dǎo)氣管內(nèi)的等離子噴嘴組成，等離子噴嘴上繞著為其供電的導(dǎo)線，等離子噴嘴包括兩片互相靠近的銅片，等離子噴嘴前方設(shè)置有線圈，線圈所產(chǎn)生的磁感應(yīng)強度方向與等離子噴出方向相反。導(dǎo)氣管連接有高壓氣瓶、或者空壓機。在導(dǎo)氣管內(nèi)流動的是Imp左右的高壓空氣，成分中20%的氧氣。等離子噴嘴是嘴部變小的管狀結(jié)構(gòu)，等離子噴嘴套裝在導(dǎo)氣管內(nèi)，兩片互相靠近的銅片位于等離子噴嘴的嘴部，銅片為紫銅片，兩片紫銅片之間距離非常近，約為1_。在等離子噴嘴前方設(shè)置有線圈，線圈的中心線與等離子噴嘴的中心線重合。當(dāng)?shù)入x子噴出來的時候，線圈產(chǎn)生的反向磁場能夠令離子的徑向運動轉(zhuǎn)化為圓周運動，提高了其與其它分子接觸的幾率，提高了其反應(yīng)活性。離子噴嘴的內(nèi)壁涂有具有納米級的Pt，能夠使得空氣中的氧氣成為三線態(tài)的氧分子。提高活性。導(dǎo)氣管內(nèi)設(shè)置有降低進入所述等離子噴嘴氣體靜壓的節(jié)流機構(gòu)?？梢姽獗O(jiān)控機構(gòu)為電荷耦合元件。在等離子噴嘴的正對方向設(shè)置有L形的導(dǎo)水機構(gòu)。等離子處理機構(gòu)調(diào)節(jié)等離子強度以及磁感應(yīng)強度。在導(dǎo)氣管內(nèi)設(shè)置有能阻止二氧化碳進入等離子噴嘴的半透膜。COD測量與監(jiān)控機構(gòu)實時測量進水口和出水口的C0D，并自動對進水流量與進氣流量進行調(diào)節(jié)。水位控制機構(gòu)為超聲水位計。本實施例中等離子調(diào)節(jié)機構(gòu)為能調(diào)節(jié)兩銅片之間電壓的變壓器?？梢姽獗O(jiān)控機構(gòu)能夠通過等離子在水中的發(fā)光程度初步判斷是否已經(jīng)除盡了水中的C0D。本實施例能夠在出水口的COD測量與監(jiān)控機構(gòu)響應(yīng)之前進行預(yù)測，具有前饋作用。
[0025]本實施例中的高溫等離子水處理設(shè)備使用的時候，首先水從反應(yīng)容器的進水口進入反應(yīng)容器內(nèi)，然后進行鐵碳處理，在鐵碳處理之后，和空氣接觸的等離子體噴射入水中，進行等離子體除COD操作。設(shè)備控制裝置是一臺專用計算機，設(shè)備控制裝置控制著等離子的發(fā)射電流，方向磁場的磁感應(yīng)強度，進水速度以及液位高低等等，實現(xiàn)自動化運行。
[0026]本說明書中所描述的以上內(nèi)容僅僅是對本實用新型所作的舉例說明。本實用新型所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，只要不偏離本實用新型說明書的內(nèi)容或者超越本權(quán)利要求書所定義的范圍，均應(yīng)屬于本實用新型的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種高溫等離子水處理設(shè)備，包括反應(yīng)容器； 鐵碳處理機構(gòu)，所述鐵碳處理機構(gòu)位于所述反應(yīng)容器的底部； 等離子處理機構(gòu)，所述等離子處理機構(gòu)與反應(yīng)容器連通； 等離子調(diào)節(jié)機構(gòu)，所述等離子調(diào)節(jié)機構(gòu)固定于所述等離子處理機構(gòu)； 可見光監(jiān)控機構(gòu)，所述可見光監(jiān)控機構(gòu)與所述等離子處理機構(gòu)相對； 水位控制機構(gòu)，所述水位控制機構(gòu)位于所述反應(yīng)容器內(nèi)； COD測量與監(jiān)控機構(gòu)；以及 設(shè)備控制裝置；其特征在于:所述等離子處理機構(gòu)由一導(dǎo)氣管和位于所述導(dǎo)氣管內(nèi)的等離子噴嘴組成，所述等離子噴嘴上繞著為其供電的導(dǎo)線，所述等離子噴嘴包括兩片互相靠近的銅片，所述等離子噴嘴前方設(shè)置有線圈，所述線圈所產(chǎn)生的磁感應(yīng)強度方向與等離子噴出方向相反。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備，其特征在于:所述離子噴嘴的內(nèi)壁涂有具有納米級的Pt。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備，其特征在于:所述導(dǎo)氣管內(nèi)設(shè)置有降低進入所述等離子噴嘴氣體靜壓的節(jié)流機構(gòu)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備，其特征在于:所述可見光監(jiān)控機構(gòu)為電荷親合元件。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備，其特征在于:在所述等離子噴嘴的正對方向設(shè)置有L形的導(dǎo)水機構(gòu)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備，其特征在于:所述等離子處理機構(gòu)調(diào)節(jié)等離子強度以及磁感應(yīng)強度。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備，其特征在于:在所述導(dǎo)氣管內(nèi)設(shè)置有能阻止二氧化碳進入等離子噴嘴的半透膜。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備，其特征在于:所述COD測量與監(jiān)控機構(gòu)實時測量進水口和出水口的C0D，并自動對進水流量與進氣流量進行調(diào)節(jié)。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫等離子水處理設(shè)備，其特征在于:所述水位控制機構(gòu)為超聲水位計。
【專利摘要】本實用新型涉及一種高溫等離子水處理的設(shè)備，它包括反應(yīng)容器；鐵碳處理機構(gòu)，所述鐵碳處理機構(gòu)位于所述反應(yīng)容器的底部；等離子處理機構(gòu)，所述等離子處理機構(gòu)與反應(yīng)容器連通；等離子調(diào)節(jié)機構(gòu)，所述等離子調(diào)節(jié)機構(gòu)固定于所述等離子處理機構(gòu)；可見光監(jiān)控機構(gòu)，所述可見光監(jiān)控機構(gòu)與所述等離子處理機構(gòu)相對；水位控制機構(gòu)，所述水位控制機構(gòu)位于所述反應(yīng)容器內(nèi)；COD測量與監(jiān)控機構(gòu)；以及設(shè)備控制裝置；其特征在于：所述等離子處理機構(gòu)由一導(dǎo)氣管和位于所述導(dǎo)氣管內(nèi)的等離子噴嘴組成，所述等離子噴嘴上繞著為其供電的導(dǎo)線，所述等離子噴嘴包括兩片互相靠近的銅片，所述等離子噴嘴前方設(shè)置有線圈，所述線圈所產(chǎn)生的磁感應(yīng)強度方向與等離子噴出方向相反。
【IPC分類】C02F9/08
【公開號】CN204644032
【申請?zhí)枴緾N201520338529
【發(fā)明人】陳曉兵
【申請人】桐鄉(xiāng)市合誠自動化技術(shù)有限公司
【公開日】2015年9月16日
【申請日】2015年5月25日