一種cob封裝清洗方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及一種COB封裝清洗方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前COB封裝清洗方法制得的COB封裝，較易發(fā)生O?貼片與鏡座脫離的情況，大大影響了COB封裝的良率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的，就是為了解決上述問(wèn)題而提供了一種COB封裝清洗方法，有效提升了COB封裝的良率。
[0004]本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0005 ]本發(fā)明的一種COB封裝清洗方法，包括以下步驟:
[0006](I)對(duì)鏡座進(jìn)料檢驗(yàn)并領(lǐng)料；
[0007](2)對(duì)鏡座進(jìn)行超聲波清洗；
[0008](3)將鏡座放入等離子清洗機(jī)中進(jìn)行等離子清洗，其中等離子清洗機(jī)的儲(chǔ)液罐體積壓為250ml，通道數(shù)量為I路，濕度控制范圍為室溫至180 V，流量計(jì)調(diào)節(jié)范圍為浮子流量計(jì)0.1-1.0L/min；
[0009](4)對(duì)清洗后的鏡座進(jìn)行點(diǎn)膠，并將COB貼片貼合于鏡座上；
[0010](5)將點(diǎn)膠落片后的鏡座送入烤箱烘烤，進(jìn)行高溫固化；
[0011](6)烘烤完后的鏡座再次放入等離子清洗機(jī)中進(jìn)行等離子清洗；
[0012](7)等離子清洗完后放入二流體離子甩干機(jī)中進(jìn)行清洗甩干；
[0013](8)檢測(cè)環(huán)節(jié)；
[0014]通過(guò)上述的過(guò)程制成COB封裝；
[0015]步驟(2)中的超聲波清洗包括以下步驟:
[0016]對(duì)一號(hào)清洗槽加入超精密清洗劑，控制藥液溫度35°C_55°C，對(duì)三號(hào)清洗槽加入超精密清洗劑，控制藥液溫度40 °C ± 5 °C，對(duì)七號(hào)槽加入防靜電液，控制藥液溫度為常溫；
[0017]二號(hào)、四號(hào)至六號(hào)清洗槽用常溫純水漂洗；
[0018]八號(hào)清洗槽為脫水瀝干槽，九號(hào)清洗槽為熱風(fēng)烘干槽，溫度為45°C±5°C ;
[0019]將鏡座放入一號(hào)清洗槽開(kāi)始清洗，按照一號(hào)至九號(hào)清洗槽的順序依次清洗，一號(hào)至七號(hào)清洗槽的清洗時(shí)間為每6分鐘一個(gè)槽，八號(hào)清洗槽清洗時(shí)間為3分鐘，九號(hào)清洗槽清洗時(shí)間為120分鐘；
[0020]超聲波的功率為900W，頻率值的設(shè)定為28KHZ?40KHZ。
[0021]本發(fā)明方法在現(xiàn)有工藝的基礎(chǔ)上增加了等離子清洗步驟，由于有機(jī)物主要是由C和O元素構(gòu)成的化合物，等離子采用電極放電清潔有機(jī)物，主要針對(duì)一些活性不強(qiáng)、較惰性的材料，此類型材料不容易用酸、堿做活化，可以利用電漿內(nèi)的離子或活性自由基對(duì)材料進(jìn)行活化，然后電離后物質(zhì)蒸發(fā);對(duì)塑料類的物質(zhì)通過(guò)等離子可以提高產(chǎn)品表面的活性，所以根據(jù)這個(gè)特性，對(duì)鏡座進(jìn)行等離子清洗后可提高膠水與鏡座的結(jié)合程度，從而大幅提高產(chǎn)品的穩(wěn)定性和良率。
【具體實(shí)施方式】
[0022]下面將結(jié)合實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明。
[0023 ]本發(fā)明COB封裝清洗方法，包括以下步驟:
[0024](I)對(duì)鏡座進(jìn)料檢驗(yàn)并領(lǐng)料；
[0025](2)對(duì)鏡座進(jìn)行超聲波清洗；
[0026](3)將鏡座放入等離子清洗機(jī)中進(jìn)行等離子清洗，其中等離子清洗機(jī)的儲(chǔ)液罐體積壓為250ml，通道數(shù)量為I路，濕度控制范圍為室溫至180 V，流量計(jì)調(diào)節(jié)范圍為浮子流量計(jì)0.1-1.0L/min；
[0027](4)對(duì)清洗后的鏡座進(jìn)行點(diǎn)膠，并將COB貼片貼合于鏡座上；
[0028](5)將點(diǎn)膠落片后的鏡座送入烤箱烘烤，進(jìn)行高溫固化；
[0029](6)烘烤完后的鏡座再次放入等離子清洗機(jī)中進(jìn)行等離子清洗；
[0030](7)等離子清洗完后放入二流體離子甩干機(jī)中進(jìn)行清洗甩干；
[0031](8)檢測(cè)環(huán)節(jié)；
[0032]通過(guò)上述的過(guò)程制成COB封裝；
[0033 ]步驟(2)中的超聲波清洗包括以下步驟:
[0034]對(duì)一號(hào)清洗槽加入超精密清洗劑，控制藥液溫度35°C_55°C，對(duì)三號(hào)清洗槽加入超精密清洗劑，控制藥液溫度40 °C ± 5 °C，對(duì)七號(hào)槽加入防靜電液，控制藥液溫度為常溫；
[0035]二號(hào)、四號(hào)至六號(hào)清洗槽用常溫純水漂洗；
[0036]八號(hào)清洗槽為脫水瀝干槽，九號(hào)清洗槽為熱風(fēng)烘干槽，溫度為45°C±5°C ;
[0037]將鏡座放入一號(hào)清洗槽開(kāi)始清洗，按照一號(hào)至九號(hào)清洗槽的順序依次清洗，一號(hào)至七號(hào)清洗槽的清洗時(shí)間為每6分鐘一個(gè)槽，八號(hào)清洗槽清洗時(shí)間為3分鐘，九號(hào)清洗槽清洗時(shí)間為120分鐘；
[0038]超聲波的功率為900W，頻率值的設(shè)定為28KHZ?40KHZ。
[0039]由于鏡座通過(guò)了等離子清洗處理，提高了鏡座表面的粗糙度，進(jìn)而提高了膠水與鏡座的結(jié)合程度，使得產(chǎn)品的良率大大提高。
[0040]以上實(shí)施例僅供說(shuō)明本發(fā)明之用，而非對(duì)本發(fā)明的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以作出各種變換或變型，因此所有等同的技術(shù)方案也應(yīng)該屬于本發(fā)明的范疇，應(yīng)由各權(quán)利要求所限定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種COB封裝清洗方法，其特征在于，包括以下步驟: (1)對(duì)鏡座進(jìn)料檢驗(yàn)并領(lǐng)料； (2)對(duì)鏡座進(jìn)行超聲波清洗； (3)將鏡座放入等離子清洗機(jī)中進(jìn)行等離子清洗，其中等離子清洗機(jī)的儲(chǔ)液罐體積壓為250ml，通道數(shù)量為I路，濕度控制范圍為室溫至180 °C，流量計(jì)調(diào)節(jié)范圍為浮子流量計(jì).0.1-1.0L/min； (4)對(duì)清洗后的鏡座進(jìn)行點(diǎn)膠，并將COB貼片貼合于鏡座上； (5)將點(diǎn)膠落片后的鏡座送入烤箱烘烤，進(jìn)行高溫固化； (6)烘烤完后的鏡座再次放入等離子清洗機(jī)中進(jìn)行等離子清洗； (7)等離子清洗完后放入二流體離子甩干機(jī)中進(jìn)行清洗甩干； (8)檢測(cè)環(huán)節(jié); 通過(guò)上述的過(guò)程制成COB封裝； 步驟(2)中的超聲波清洗包括以下步驟: 對(duì)一號(hào)清洗槽加入超精密清洗劑，控制藥液溫度35 °C-55 °C，對(duì)三號(hào)清洗槽加入超精密清洗劑，控制藥液溫度40 °C ± 5 °C，對(duì)七號(hào)槽加入防靜電液，控制藥液溫度為常溫； 二號(hào)、四號(hào)至六號(hào)清洗槽用常溫純水漂洗； 八號(hào)清洗槽為脫水瀝干槽，九號(hào)清洗槽為熱風(fēng)烘干槽，溫度為45 °C ± 5 °C ; 將鏡座放入一號(hào)清洗槽開(kāi)始清洗，按照一號(hào)至九號(hào)清洗槽的順序依次清洗，一號(hào)至七號(hào)清洗槽的清洗時(shí)間為每6分鐘一個(gè)槽，八號(hào)清洗槽清洗時(shí)間為3分鐘，九號(hào)清洗槽清洗時(shí)間為120分鐘； 超聲波的功率為900W，頻率值的設(shè)定為28KHZ?40KHZ。
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種COB封裝清洗方法，包括以下步驟：(1)對(duì)鏡座進(jìn)料檢驗(yàn)并領(lǐng)料；(2)對(duì)鏡座進(jìn)行超聲波清洗；(3)等離子清洗：(4)點(diǎn)膠落片；(5)烘烤，高溫固化；(6)再次等離子清洗；(7)清洗甩干；(8)檢測(cè)環(huán)節(jié)。本發(fā)明方法在現(xiàn)有工藝的基礎(chǔ)上增加了等離子清洗步驟，由于鏡座通過(guò)了等離子清洗處理，提高了鏡座表面的粗糙度，進(jìn)而提高了膠水與鏡座的結(jié)合程度，使得產(chǎn)品的良率大大提高。
【IPC分類】B08B3/12, B08B3/08
【公開(kāi)號(hào)】CN105598088
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610136179
【發(fā)明人】孫懷張
【申請(qǐng)人】上海巨煌光電科技有限公司
【公開(kāi)日】2016年5月25日
【申請(qǐng)日】2016年3月10日