一種超聲波清洗裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種超聲波清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]一般小的電子元件都是用沖床加工而成，由于沖模產(chǎn)生的切削而生成許多的顆粒，加工產(chǎn)生油污，顆粒黏在電子元件的表面無法清除。電子元件在電鍍前必須進行清洗，以去除上述的顆粒及油污，從而保證電鍍的質(zhì)量。目前常用的做法是汽油進行清洗，然而汽油清洗一般都需要清洗3-4次，清洗后的汽油是不可回收的，對環(huán)境造成很大的污染；并且汽油易揮發(fā)，而且易燃易爆，而清洗設備都需要工人在現(xiàn)場造作，汽油揮發(fā)后空氣中有許多的汽油顆粒，對工人的健康和安全產(chǎn)生一定的影響。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種超聲波清洗裝置的技術(shù)方案。
[0004]所述的一種超聲波清洗裝置，包括龍門架，能在所述龍門架上直線移動的行車，以及至少一個裝有清洗液的清洗槽，所述清洗槽內(nèi)設有超聲波發(fā)生器，其特征在于所述行車下方可伸縮地連接有由電機通過傳動機構(gòu)帶動轉(zhuǎn)動的清洗罐，所述清洗罐能置于所述清洗槽內(nèi)，所述超聲波清洗裝置還包括控制所述行車、所述超聲波發(fā)生器和所述電機動作的控制系統(tǒng)；所述清洗槽兩側(cè)壁開設有導向槽，所述清洗罐兩側(cè)設有能沿著所述導向槽移動的清洗罐支架；所述傳動機構(gòu)包括所述清洗槽兩側(cè)壁上位于所述導向槽下方的與所述電機連接的主動齒輪和設在所述清洗罐支架的從動齒輪。
[0005]所述的一種超聲波清洗裝置，其特征在于所述的清洗槽內(nèi)設置有清洗液循環(huán)利用裝置，所述清洗液循環(huán)利用裝置包括循環(huán)泵和過濾裝置。
[0006]所述的一種超聲波清洗裝置，其特征在于所述的清洗罐上開設有用于放入待清洗的電子元件的門，所述清洗罐的側(cè)壁為多孔結(jié)構(gòu)。
[0007]本發(fā)明通過設置控制系統(tǒng)，從而降低了工作強度，工人只需在清洗前填裝清洗液，其他工序則在控制室中完成，也保證了操作的安全性；清洗液可以循環(huán)利用，減少了清洗液的浪費，大大降低了成本，并且過濾裝置的設置使得原本粘附在電子元件表面的顆?？梢栽谇逑催^程中粘附在過濾裝置上，較易清除而不影響清洗效果。
【附圖說明】
[0008]圖1為本發(fā)明的超聲波清洗裝置示意圖；
圖2為本發(fā)明的清洗槽的示意圖；
圖3為本發(fā)明的清洗罐的示意圖。
【具體實施方式】
[0009]下面結(jié)合說明書附圖對本發(fā)明做進一步說明:
一種超聲波清洗裝置，包括龍門架1，可在龍門架I上直線移動的行車2，行車2下方可伸縮地連接有清洗罐3，清洗罐3置于清洗槽4中進行清洗。清洗裝置包括至少一個清洗槽4，清洗槽4的兩側(cè)壁開設有導向槽41，參見圖2，用
于引導清洗罐3放入清洗槽4中。清洗槽4兩側(cè)壁上，位于導向槽41下方對應位置處，設有主動齒輪42，由電機(圖上未示出)驅(qū)動。清洗槽4內(nèi)設置有超聲波發(fā)生器，以及清洗液循環(huán)利用裝置43，清洗液循環(huán)利用裝置43包括循環(huán)泵和過濾裝置，從而可以循環(huán)利用清洗槽4內(nèi)的清洗液，節(jié)約了成本。清洗罐3兩側(cè)設有清洗罐支架31，清洗罐支架31上設有從動齒輪32。清洗罐3上，如中間部位，開設有門33，由此可通過門33將多個待清洗的電子元件5放入到清洗罐3中。清洗罐3側(cè)壁為多孔結(jié)構(gòu)，由此可以使得清洗液進入到清洗罐3中以進行清洗。當清洗罐3放入清洗槽4中時，清洗罐支架31沿著導向槽41下移，直至到達導向槽41最下端，此時主動齒輪42正好和從動齒輪32嚙合，由此，當電機驅(qū)動主動齒輪42轉(zhuǎn)動時，可以帶動從動齒輪32轉(zhuǎn)動，從而帶動清洗罐3轉(zhuǎn)動。
[0010]清洗時，由本裝置的控制系統(tǒng)，包括可編程邏輯控制器(PLC)和接觸開關(guān)等，通過預設程序，來控制行車2在龍門架I上移動。當行車2移動到第一個清洗槽4上方時，控制清洗罐3下放，清洗罐支架31沿著導向槽41下移，直至到達導向槽41最下端，使得主動齒輪42和從動齒輪32嚙合；此時，控制系統(tǒng)還控制超聲波發(fā)生器啟動，電機轉(zhuǎn)動，由此清洗罐3在清洗槽4內(nèi)轉(zhuǎn)動，使得電子元件5與清洗液充分接觸，以便提升清洗的效果。
[0011]電子元件5清洗時掉下的顆粒將粘附在清洗液循環(huán)利用裝置43的過濾裝置上，過濾裝置隔段時間清洗即可，可以很容易地將顆粒從清洗槽4中清除，而不會影響清洗效果，而清洗液可通過清洗液循環(huán)利用裝置43中的循環(huán)泵重復進入清洗槽4中，當清洗槽4中清洗液的濃度不夠清洗效果不好時可以將一定量的調(diào)和劑，能實現(xiàn)長期的循環(huán)利用，大大降低了成本。
[0012]龍門架I下方置有至少一個清洗槽4，清洗槽4內(nèi)的清洗液濃度可根據(jù)需要逐漸降低。由此，控制系統(tǒng)可以預編程序，從而控制行車2連接的清洗罐3依次通過各個清洗槽4，并保證一定的清洗時間，得到較好的清洗效果。
【主權(quán)項】
1.一種超聲波清洗裝置，包括龍門架，能在所述龍門架上直線移動的行車，以及至少一個裝有清洗液的清洗槽，所述清洗槽內(nèi)設有超聲波發(fā)生器，其特征在于所述行車下方可伸縮地連接有由電機通過傳動機構(gòu)帶動轉(zhuǎn)動的清洗罐，所述清洗罐能置于所述清洗槽內(nèi)，所述超聲波清洗裝置還包括控制所述行車、所述超聲波發(fā)生器和所述電機動作的控制系統(tǒng)；所述清洗槽兩側(cè)壁開設有導向槽，所述清洗罐兩側(cè)設有能沿著所述導向槽移動的清洗罐支架；所述傳動機構(gòu)包括所述清洗槽兩側(cè)壁上位于所述導向槽下方的與所述電機連接的主動齒輪和設在所述清洗罐支架的從動齒輪。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超聲波清洗裝置，其特征在于所述的清洗槽內(nèi)設置有清洗液循環(huán)利用裝置，所述清洗液循環(huán)利用裝置包括循環(huán)泵和過濾裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種超聲波清洗裝置，其特征在于所述的清洗罐上開設有用于放入待清洗的電子元件的門，所述清洗罐的側(cè)壁為多孔結(jié)構(gòu)。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種超聲波清洗裝置。其特征在于所述行車下方可伸縮地連接有由電機通過傳動機構(gòu)帶動轉(zhuǎn)動的清洗罐，所述清洗罐能置于所述清洗槽內(nèi)，所述超聲波清洗裝置還包括控制所述行車、所述超聲波發(fā)生器和所述電機動作的控制系統(tǒng)；所述清洗槽兩側(cè)壁開設有導向槽，所述清洗罐兩側(cè)設有能沿著所述導向槽移動的清洗罐支架。本發(fā)明通過設置控制系統(tǒng)，從而降低了工作強度，工人只需在清洗前填裝清洗液，其他工序則在控制室中完成，也保證了操作的安全性；清洗液可以循環(huán)利用，減少了清洗液的浪費，大大降低了成本，并且過濾裝置的設置使得原本粘附在電子元件表面的顆?？梢栽谇逑催^程中粘附在過濾裝置上，較易清除而不影響清洗效果。
【IPC分類】B08B3-12
【公開號】CN104874568
【申請?zhí)枴緾N201510329024
【發(fā)明人】俞玉華
【申請人】新昌縣華雄機械有限公司
【公開日】2015年9月2日
【申請日】2015年6月15日