專利名稱：有機(jī)性排水的處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種將對有機(jī)性排水進(jìn)行過厭氧處理接著進(jìn)行過好氧處理后的處理液通過膜進(jìn)行固液分離的生物處理裝置，尤其是涉及一種適于有機(jī)性排水為從液晶顯示器或半導(dǎo)體制造工廠排出的且全部有機(jī)物中碳原子數(shù)4以下的有機(jī)物的比例為70%以上的情形的有機(jī)性排水的處理裝置。
背景技術(shù)：
在液晶顯示器或半導(dǎo)體制造工廠等電子產(chǎn)業(yè)工廠中，會(huì)排出含有單乙醇胺、四甲基氫氧化銨、二甘醇單N-丁基醚、異丙醇等的在加工工序中作為洗凈劑、剝離劑等使用的特定的低分子有機(jī)物的排水。以往，在適用厭氧處理的食品、飲料工廠等的含有淀粉、糖、蛋 白質(zhì)等的高分子有機(jī)物的排水中，多數(shù)情況下，在分解過程中生成的各種慢分解性成分的一部分會(huì)殘存在處理水中，但是，在電子產(chǎn)業(yè)工廠排水中所含的低分子有機(jī)物不生成慢分解性的中間體，而迅速分解成醋酸、甲烷。因此，在電子產(chǎn)業(yè)工廠排水的厭氧處理中，即使對于BOD 300 500mg/L左右的排水也能夠以95%以上的高除去率進(jìn)行處理，在處理液中有機(jī)物濃度顯著變低(BOD 20mg/L以下)。作為對如此的來自半導(dǎo)體工廠等的有機(jī)性排水進(jìn)行生物處理的裝置，已知有對有機(jī)性排水進(jìn)行厭氧處理后，進(jìn)行好氧處理，接下來進(jìn)行固液分離的裝置(專利文獻(xiàn)1，2)。在專利文獻(xiàn)2中，將膜配置在硝化槽內(nèi)。厭氧處理中，成為膜污染的原因的代謝產(chǎn)物的生成比好氧處理少，因此，如上所述地，進(jìn)行厭氧一好氧一膜分離的加工處理，與對原水直接進(jìn)行好氧處理然后進(jìn)行膜分離的情況相比，膜污染減小，能夠減少膜的藥品洗凈頻率。此外，由于進(jìn)行厭氧處理，因此還有污泥產(chǎn)生量減小、曝氣空氣量減小的效果。對生物處理液進(jìn)行膜分離處理的分離膜模件中，有使膜模件浸潰于曝氣槽內(nèi)并吸取過濾水的浸潰型、和將槽內(nèi)污泥循環(huán)至設(shè)于曝氣槽外的膜模件并吸取處理水的槽外設(shè)置型，其中，槽外設(shè)置型使污泥以高流速循環(huán)到膜模件內(nèi)，因此，與浸潰型相比，一般會(huì)增多動(dòng)力成本，因此，如專利文獻(xiàn)2所示浸潰型得到廣泛普及?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開2007-175582號公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2006-305555號公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
如上所述，電子產(chǎn)業(yè)工廠排水的厭氧處理中，即使對BOD 300 500mg/L左右的排水也能夠以95%以上的高除去率進(jìn)行處理，在處理液中有機(jī)物濃度顯著變低(BOD 20mg/L以下)。因此，當(dāng)作為電子產(chǎn)業(yè)排水的厭氧處理的后級的膜分離模件采用浸潰型時(shí)，為了確保使膜模件浸潰的空間，曝氣槽容量變大，好氧處理槽以極低的BOD負(fù)荷及槽內(nèi)污泥濃度運(yùn)轉(zhuǎn)。具有浸潰型膜模件的好氧處理槽內(nèi)的污泥濃度低至2，000mg/L以下時(shí)，不會(huì)在膜表面形成過濾濾餅層，相反變得容易堵塞，除此之外，在減少污泥的取出量將SRT過度地變長的情況下，污泥分散化而易堵塞。如此地，在電子產(chǎn)業(yè)排水的厭氧處理的后級設(shè)計(jì)的具有浸潰型膜模件的好氧處理槽中，存在膜污染劇烈、洗凈頻率增加的問題。本發(fā)明的目的在于提供一種排水處理裝置，其通過厭氧處理槽對有機(jī)性排水進(jìn)行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進(jìn)行好氧處理，并用膜分離模件進(jìn)行固液分離而獲得處理水，其能夠抑制膜分離模件的膜污染，減少洗凈頻率。第I發(fā)明(技術(shù)方案I)的有機(jī)性排水的處理裝置，其通過厭氧處理槽對有機(jī)性排水進(jìn)行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進(jìn)行好氧處理，并用膜分離模件進(jìn)行固液分離而獲得處理水，其特征在于，膜分離模件是槽外設(shè)置型膜分離模件。在第I發(fā)明中，優(yōu)選所述有機(jī)性排水中的全部有機(jī)物中碳原子數(shù)4以下的有機(jī)物 的比例是70%以上。在第I發(fā)明中，優(yōu)選所述有機(jī)性排水是從液晶顯示器或半導(dǎo)體制造工廠排出的有機(jī)性排水。第I發(fā)明中，有機(jī)性排水的處理裝置通過厭氧處理槽對有機(jī)性排水進(jìn)行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進(jìn)行好氧處理，并用膜分離模件進(jìn)行固液分離而獲得處理水，其中，該膜分離模件是槽外設(shè)置型膜分離模件。由此，好氧處理槽容積不會(huì)受到膜的設(shè)置空間的影響，能夠在膜污染少的適當(dāng)條件下運(yùn)轉(zhuǎn)好氧處理槽的BOD負(fù)荷、污泥濃度、SRT，膜洗凈頻率變少。第2發(fā)明(技術(shù)方案4)的有機(jī)性排水的處理裝置，其通過厭氧處理槽對有機(jī)性排水進(jìn)行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進(jìn)行好氧處理，并用膜分離模件進(jìn)行固液分離而獲得處理水，其特征在于，在該好氧處理槽中具有添加厭氧處理液以外的有機(jī)物的設(shè)備。在第2發(fā)明中，優(yōu)選所述有機(jī)性排水中的全部有機(jī)物中碳原子數(shù)4以下的有機(jī)物的比例是70%以上。在第2發(fā)明中，優(yōu)選作為所述有機(jī)物，在好氧處理槽中添加所述有機(jī)性排水的一部分。在第2發(fā)明中，優(yōu)選所述有機(jī)性排水是從液晶顯示器或半導(dǎo)體制造工廠排出的有機(jī)性排水。第2發(fā)明中，有機(jī)性排水的處理裝置通過厭氧處理槽對有機(jī)性排水進(jìn)行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進(jìn)行好氧處理，并用膜分離模件進(jìn)行固液分離而獲得處理水，其中，在好氧處理槽中添加厭氧性處理液以外的有機(jī)物源，使好氧污泥成長。由此，通過厭氧處理生成的微細(xì)的SS成分進(jìn)入污泥絮狀物，改善膜過濾性，減少膜洗凈頻率。


圖I是實(shí)施方式的有機(jī)性排水的處理裝置的流程圖。圖2是表示實(shí)驗(yàn)結(jié)果的圖表。
圖3是表示實(shí)驗(yàn)結(jié)果的圖表。圖4是表示實(shí)驗(yàn)結(jié)果的圖表。其中，附圖標(biāo)記說明如下I厭氧處理槽2好氧處理槽4膜分離模件
具體實(shí)施例方式圖I是表示第I及第2發(fā)明的有機(jī)性排水的處理裝置的流程的圖，有機(jī)性排水在、用厭氧處理槽I厭氧處理后，導(dǎo)入好氧處理槽2，通過從散氣管2a散入的空氣曝氣而進(jìn)行好氧處理。好氧處理液通過泵3供給至槽外的膜模件4，滲透水作為處理水取出。濃縮水返送至好氧處理槽2。本發(fā)明作為處理對象的有機(jī)性排水是從液晶顯示器或半導(dǎo)體制造工廠排出的有機(jī)性排水，全部有機(jī)物中碳原子數(shù)4以下的有機(jī)物的比例(重量比例)是70%以上的排水是適宜的。作為這樣的碳原子數(shù)4以下的有機(jī)物，例示了異丙醇(IPA)、乙醇、單乙醇胺(MEA)、四甲基氫氧化銨(TMAH)、二甲基亞砜(DMSO)等。厭氧處理槽的處理方式并不限定，但從能夠進(jìn)行C0D。,負(fù)荷5kg/m3 d以上的高負(fù)荷處理方面來看，優(yōu)選UASB、EGSB這樣的采用顆粒的處理方式、或者流動(dòng)床、固定床這樣的存在載體的處理方式。另外，可在厭氧處理槽的前級設(shè)置酸生成槽。作為用于對厭氧性生物處理水進(jìn)行好氧性生物處理的好氧處理槽，只要有機(jī)物的分解效率優(yōu)異即可，能夠使用已知的好氧性生物處理方式的生物反應(yīng)槽。例如，能夠采用將活性污泥以浮游狀態(tài)保持在槽內(nèi)的浮游方式、使活性污泥附著于載體而保持的生物膜方式等。此外，就生物膜方式而言，可以是固定床式、流動(dòng)床式、展開床式等任意的微生物床方式，此外，活性炭、各種塑料載體、海綿載體等都可使用作為載體。[第I發(fā)明]第I發(fā)明中，好氧處理槽中，優(yōu)選CODra負(fù)荷0. 5 2kg/m3-d,尤其是0. 7 I. 5kg/m3 d(B0D負(fù)荷0. 3 I. 5kg/m3 d，尤其是0. 5 lkg/m3 d)。從膜過濾性方面來看,好氧處理槽中，優(yōu)選在SRT為5 100d、尤其是10 60d的范圍進(jìn)行剩余污泥的取出，MLSS濃度維持在2，000 15，000mg/L、尤其是3，000 6，000mg/L。也可以是，將好氧處理槽設(shè)為多級，將前級作為脫氮槽，將后級作為硝化槽，使污泥從硝化槽循環(huán)至脫氮槽。該實(shí)施方式中，將膜模件4設(shè)為槽外設(shè)置型，因此，好氧處理槽容積不受膜的設(shè)置空間的影響，能夠在膜污染少的適當(dāng)條件下運(yùn)轉(zhuǎn)好氧處理槽的BOD負(fù)荷、污泥濃度、SRT，膜洗凈頻率變少。膜分離模件的膜優(yōu)選MF、UF。通過提高污泥以及對空氣等氣體進(jìn)行散氣的氣體在膜表面的吹掃流速(掃流速)，能夠提高過濾性。從過濾性的提高和消耗動(dòng)力的觀點(diǎn)來看，膜表面的污泥、氣體的吹掃流速優(yōu)選為0. 3 3m/sec,尤其優(yōu)選為0. 5 lm/sec。以下，對第I發(fā)明的實(shí)施例及比較例進(jìn)行說明。實(shí)施例I按照圖I所示的流程，按下述條件處理下述原水。
〈原水〉電子零件制造工廠的排水(有機(jī)成分MEA、TMAH、IPA)水質(zhì)B0D 350mg/L, T-N 20mg/L, T-P lmg/L (與其他的無機(jī)鹽一起作為營養(yǎng)劑添加)水量4. lm3/d<厭氧處理槽>槽容量300L(<t 6OO X Hl IOOmm 的圓筒狀)溫度25 °C將啤酒工廠的排水處理設(shè)施的顆粒作為種污泥投入60L，將聚丙烯制圓筒狀載體 (cj5 3mmX5mm)投入120L，并向上流地通水。馴養(yǎng)2個(gè)月后，將處理水導(dǎo)入好氧槽。<好氧處理槽>槽容量150L溫度25°C將電子零件制造工廠排水處理設(shè)備的活性污泥作為種污泥開始進(jìn)行處理，用20%NaOH進(jìn)行調(diào)整使pH為6. 8。取出污泥使SRT為50d。<膜模件>槽外設(shè)置型管狀UF膜(Norit制，孔徑0. 03 u m,膜面積5. Im2/根X 2根)從好氧槽以4. 2m3/hr/根循環(huán)污泥(好氧處理液)，并從模件下部以4. 2Nm3/hr/根導(dǎo)入空氣。按5分鐘吸取/10秒鐘逆洗的循環(huán)進(jìn)行過濾及逆洗。處理水吸取時(shí)流量為0. 26m3/hr/根，逆洗流量為I. 5m3/hr/根。吸取結(jié)束時(shí)的跨膜壓差超過40kPa的時(shí)刻停止膜過濾，進(jìn)行藥品洗凈(將NaOCl溶液(有效氯0. 3%、用NaOH調(diào)整pH為12)導(dǎo)入模件，滯留2hr)。比較例I在實(shí)施例I中，采用將浸潰型中空絲MF膜單元(三菱> ^ 3 >制，孔徑0.4i!m，膜面積6m2/片X 3片)浸潰配置在槽內(nèi)的下述的好氧MBR代替好氧處理槽及膜模件。槽容量650L溫度25 °C將電子零件制造工廠排水處理設(shè)備的活性污泥作為種污泥開始進(jìn)行處理。用20% NaOH進(jìn)行調(diào)整使pH為6. 8。在達(dá)到第30天之前，按SRT 50d取出污泥，在此以后減少取出量使SRT為150d。從膜單元下部按0. 25Nm3/分鐘進(jìn)行曝氣。按照7分鐘吸取/I分鐘停止的循環(huán)進(jìn)行處理，處理水吸取時(shí)流量是0. 5ImVhr (平均通量0. 6m/d)。吸取結(jié)束時(shí)的跨膜壓差超過40kPa的時(shí)刻停止膜過濾，提起膜，進(jìn)行藥品洗凈(在NaOCl溶液(有效氯0. 3%、用NaOH調(diào)整pH為12)中浸潰2hr)。[結(jié)果]厭氧處理槽中，在比較例、實(shí)施例中均是在試驗(yàn)期間穩(wěn)定地獲得95%以上的除去率，厭氧處理水的BOD在10mg/L前后穩(wěn)定地變化，此外好氧MBR的處理水BOD在3mg/L以下穩(wěn)定地變化。
好氧處理槽的運(yùn)轉(zhuǎn)開始后，從3周后(運(yùn)轉(zhuǎn)天數(shù)0)開始測定跨膜壓差的變化，并示于圖2中。在實(shí)施例I中，能夠按I次/月左右運(yùn)轉(zhuǎn)藥品洗凈頻率，與此相對，在比較例I中，最初需要I次/2周左右進(jìn)行洗凈。對于好氧槽的污泥濃度，在實(shí)施例I中，在5，500mg/L前后變化，與此相對，在比較例I中，為1，200 1，500mg/L。考慮到由于污泥濃度過低，膜容易堵塞，在從第30天開始將SRT按50 — 150d延長的時(shí)候，污泥濃度上升至4，000 4，500mg/L。但是，膜的交換頻率在剛延長SRT后，察覺有延長至I次/3周左右的傾向，但這之后，再次回到I次/2周左右。對于槽內(nèi)T0C，在實(shí)施例I、至第30天為止的比較例中為80 100mg/L，與此相對，在比較例I中，延長SRT經(jīng)過I個(gè)月后上升到300mg/L左右，這可認(rèn)為是在通過延長SRT后污泥的自我消化產(chǎn)物蓄積的情況對此產(chǎn)生影響。從以上的實(shí)施例I及比較例I可知，在組合了厭氧處理和好氧處理及膜分離的有機(jī)性排水處理中，通過采用槽外設(shè)置膜，能夠在膜污染少的適當(dāng)?shù)臈l件進(jìn)行運(yùn)轉(zhuǎn)，能夠降低 膜的洗凈頻率，或以更高的通量運(yùn)轉(zhuǎn)。[第2發(fā)明]圖I中是作為槽外設(shè)置型膜模件，但在第2發(fā)明中，可將膜模件浸潰配置在好氧處理槽2內(nèi)。第2發(fā)明中，在圖I中，對好氧處理槽2添加厭氧性處理液以外的有機(jī)物源，使好氧污泥成長。由此，通過厭氧處理生成的微細(xì)的SS成分進(jìn)入污泥絮狀物，改善膜過濾性。作為添加的有機(jī)物的例子，可舉出甲醇、醋酸、液糖、魚肉提取物等。該情況的有機(jī)物的添加量作為好氧處理槽2的BOD負(fù)荷，優(yōu)選0. 2 0. 5kg/m3 d左右。此外，本發(fā)明中，作為該有機(jī)物，可分取有機(jī)性排水(原水)的一部分，并使該分取的原水繞行(bypass)厭氧處理槽I而添加至好氧處理槽2。該情況下，優(yōu)選的是，分取原水流量的I 30%左右、尤其是I 10%左右添加至好氧處理槽2。對于好氧處理槽，優(yōu)選為，CODcr負(fù)荷0. 5 2kg/m3 d，尤其是0. 7 I. 5kg/m3 d(B0D負(fù)荷0. 3 I. 5kg/m3 d，尤其是0. 5 lkg/m3 d)。對于好氧處理槽,從膜過濾性方面來看，優(yōu)選在SRT為10 200d，尤其是10 IOOd的范圍進(jìn)行剩余污泥的取出，并維持MLSS濃度2，000 15，000mg/L，尤其是3，000 6，000mg/L。也可以是，將好氧處理槽設(shè)為多級，將前級作為脫氮槽，將后級作為硝化槽，使污泥從硝化槽循環(huán)至脫氮槽。該實(shí)施方式中，將膜模件4作為槽外設(shè)置型，因此，好氧處理槽容積不會(huì)受到膜的設(shè)置空間的影響，在膜污染少的適當(dāng)條件下運(yùn)轉(zhuǎn)好氧處理槽的BOD負(fù)荷、污泥濃度、SRT，膜洗凈頻率變少。但是，如前所述，膜模件也可是槽內(nèi)設(shè)置型。膜分離模件的膜優(yōu)選是MF、UF，可為平膜、管狀膜、中空絲膜等中的任何一個(gè)。通過對膜面進(jìn)行空氣等氣體的散氣，可提高膜表面的吹掃流速，并提高過濾性。以下，對第2發(fā)明的實(shí)施例及比較例進(jìn)行說明。實(shí)施例2按照圖I所示的流程，按下述條件處理下述原水。< 原水 >電子零件制造工廠的排水(有機(jī)成分MEA、TMAH、IPA)
水質(zhì)BOD 350mg/L，T-N 20mg/L, T-P lmg/L(與其他無機(jī)鹽一起作為營養(yǎng)劑添加)水量4.lm3/d<厭氧處理槽>槽容量300L(<t 6OO X Hl IOOmm 的圓筒狀)溫度25 °C將啤酒工廠的排水處理設(shè)施的顆粒作為種污泥投入60L，將聚丙烯制圓筒狀載體(MmmX 5mm)投入120L，向上流地通水。馴養(yǎng)2個(gè)月后，將處理水導(dǎo)入好氧槽。 <好氧處理槽>槽容量I5OL溫度25 °C將電子零件制造工廠排水處理設(shè)備的活性污泥作為種污泥開始進(jìn)行處理，用20%NaOH進(jìn)行調(diào)整使pH為6. 8。以使SRT為50d的方式取出污泥。在好氧處理槽中以lL/d的量添加甲醇的IOwt%水溶液。<膜模件>槽外設(shè)置型管狀UF膜(Norit制，孔徑0. 03 U m,膜面積5. Im2/根X I根)從好氧槽以4. 2m3/hr/根循環(huán)污泥(好氧處理液)，并從模件下部以4. 2Nm3/hr/根導(dǎo)入空氣。以5分鐘吸取/10秒鐘逆洗的循環(huán)進(jìn)行過濾及逆洗。處理水吸取時(shí)流量為0. 23m3/hr/根，逆洗流量為I. 5m3/hr/根。在吸取結(jié)束時(shí)的跨膜壓差超過50kPa的時(shí)刻停止膜過濾，并進(jìn)行藥品洗凈(將NaOCl溶液(有效氯0. 3%、用NaOH調(diào)整pH為12)導(dǎo)入模件，滯留2hr)。實(shí)施例3未添加甲醇，將原水的90% (3. ImVd)供給至厭氧處理槽，將剩余的10% (0. 4m3/d)和厭氧處理水導(dǎo)入好氧槽，除此以外，與實(shí)施例2同樣進(jìn)行處理。比較例2未添加甲醇，除此以外，與實(shí)施例2同樣進(jìn)行處理。原水按全量(100%)供給至厭氧處理槽。比較例3將原水的約50% (2. Im3/d)供給至厭氧處理槽,將剩余的約50% (2. Om3/d)和厭氧處理水導(dǎo)入好氧槽，除此以外，與實(shí)施例2同樣進(jìn)行處理。[結(jié)果]厭氧處理槽中，在比較例、實(shí)施例中均是在試驗(yàn)期間穩(wěn)定地獲得95%以上的除去率，厭氧處理水的BOD在10mg/L前后穩(wěn)定地變化，此外好氧MBR的處理水BOD在3mg/L以下穩(wěn)定地變化。好氧處理槽的運(yùn)轉(zhuǎn)開始后，測定跨膜壓差的變化，并示于圖3、4中。在比較例2中，需要約I次/30天的藥品洗凈，與此相對，在實(shí)施例2、3中，能夠?qū)⑺幤废磧纛l率減小到I次/40 50天左右。厭氧處理水中含有15 40mg/L的SS，并一直流入好氧槽。測定厭氧處理水及好氧槽污泥的SS成分的粒徑分布的結(jié)果是，厭氧處理水中粒徑不足IOiim的微細(xì)成分占約40%，在比較例2中，好氧槽污泥中也殘存有約10%的粒徑不足10 y m的微細(xì)成分。與此相對，在實(shí)施例2、3中，粒徑不足10 y m的成分顯著減少為不足I %，可見在好氧槽內(nèi)微細(xì)SS成分發(fā)生分解或進(jìn)入污泥絮狀物，導(dǎo)致膜過濾性提高。另外，在增加了原水的旁路量(bypass)的比較例3中，洗凈頻率大幅增加為I次/15天左右。就槽內(nèi)的溶解性TOC濃度(平均值)而言，相對于比較例2中的35mg/L、實(shí)施例2中的52mg/L、實(shí)施例3中的45mg/L，顯著變高為120mg/L，由此，好氧槽的有機(jī)物負(fù)荷過高，基質(zhì)攝取時(shí)生成的污泥代謝產(chǎn)物的分解不充分而被蓄積。由以上的實(shí)施例2、3及比較例2、3可見，在組合了厭氧處理和好氧處理及膜分離 的有機(jī)性排水處理中，向好氧處理槽添加厭氧處理液以外的有機(jī)物，由此，能夠減小膜模件的膜污染，降低膜的洗凈頻率，或以更高的通量運(yùn)轉(zhuǎn)。
權(quán)利要求
1.一種有機(jī)性排水的處理裝置，其通過厭氧處理槽對有機(jī)性排水進(jìn)行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進(jìn)行好氧處理，并用膜分離模件進(jìn)行固液分離而獲得處理水，其特征在于，膜分離模件是槽外設(shè)置型膜分離模件。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的有機(jī)性排水的處理裝置，其特征在于，所述有機(jī)性排水中的全部有機(jī)物中碳原子數(shù)4以下的有機(jī)物的比例是70%以上。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的有機(jī)性排水的處理裝置，其特征在于，所述有機(jī)性排水是從液晶顯示器或半導(dǎo)體制造工廠排出的有機(jī)性排水。
4.一種有機(jī)性排水的處理裝置，其通過厭氧處理槽對有機(jī)性排水進(jìn)行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進(jìn)行好氧處理，并用膜分離模件進(jìn)行固液分離而獲得處理水，其特征在于，在該好氧處理槽中具有添加厭氧處理液以外的有機(jī)物的設(shè)備。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的有機(jī)性排水的處理裝置，其特征在于，所述有機(jī)性排水中的全部有機(jī)物中碳原子數(shù)4以下的有機(jī)物的比例是70%以上。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的有機(jī)性排水的處理裝置，其特征在于，作為所述有機(jī)物，在好氧處理槽中添加所述有機(jī)性排水的一部分。
7.根據(jù)權(quán)利要求4 6中任意一項(xiàng)所述的有機(jī)性排水的處理裝置，其特征在于，所述有機(jī)性排水是從液晶顯示器或半導(dǎo)體制造工廠排出的有機(jī)性排水。
8.根據(jù)權(quán)利要求4 7中任意一項(xiàng)所述的有機(jī)性排水的處理裝置，其特征在于，所述膜分離模件是槽外設(shè)置型膜分離模件。
全文摘要
本發(fā)明提供一種有機(jī)性排水的處理裝置，其是通過厭氧處理槽對有機(jī)性排水進(jìn)行厭氧處理，并對厭氧處理槽的處理液進(jìn)行好氧處理，并用膜分離模件進(jìn)行固液分離而獲得處理水，其能夠抑制膜分離模件的膜污染，減少洗凈頻率。本發(fā)明的有機(jī)性排水的處理裝置，其是通過厭氧處理槽(1)對有機(jī)性排水進(jìn)行厭氧處理，并通過好氧處理槽(2)對厭氧處理槽(1)的處理液進(jìn)行好氧處理，并用膜分離模件(4)進(jìn)行固液分離而獲得處理水，其中，膜分離模件(4)是槽外設(shè)置型膜分離模件。
文檔編號C02F1/44GK102730902SQ20121009421
公開日2012年10月17日 申請日期2012年3月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月30日
發(fā)明者小松和也 申請人:栗田工業(yè)株式會(huì)社