本發(fā)明關(guān)于一種模內(nèi)貼模技術(shù)，特別是指一種先于薄膜表面制作抗眩光結(jié)構(gòu)，再將該薄膜進(jìn)行模內(nèi)貼模制程射出工件主體的帶有抗眩光薄膜的三維工件制作方法。

背景技術(shù)：

模內(nèi)貼模(In-Mold Film,IMF)為于塑膠表面噴涂制作鍍膜的技術(shù)，是為了在塑膠表面制作防霧、抗眩光、防指紋或抗反射鍍膜的技術(shù)。

車用顯示熒幕蓋板由于有表面硬度(需大于3H)、光學(xué)特性(如透光率、防霧、抗眩光、防指紋或抗反射)等安全性考量，一般抗眩光蓋板為全面鍍膜，顯示熒幕可視區(qū)可有效抗眩光，但周圍邊框區(qū)會造成視覺上的白霧感，反而影響到行車安全。對于平面蓋板而言，可以透過紫外光壓印制作表面鍍膜來達(dá)到抗眩光的功效。然而對于帶有三維結(jié)構(gòu)例如曲面的蓋板，由于安全性以及表面硬度要求較高等考量，目前業(yè)界多是選擇以模內(nèi)貼模搭配壓縮注塑技術(shù)制作抗眩光蓋板，如圖1所示，在注塑機(jī)1上設(shè)置抗眩光結(jié)構(gòu)2，并在壓縮注塑時將抗眩光結(jié)構(gòu)2轉(zhuǎn)印至薄膜3上。上述方式可以達(dá)到僅于可視區(qū)制作抗眩光鍍膜，然而，其抗眩光結(jié)構(gòu)2轉(zhuǎn)印良率偏低，且還有環(huán)測后抗眩光結(jié)構(gòu)易破壞或消失及薄膜選擇性較少等缺點(diǎn)，因此仍有改良空間。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種帶有抗眩光薄膜的三維工件制作方法，可改善習(xí)知抗眩光蓋板制程抗眩光結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印良率偏低、環(huán)測后抗眩光結(jié)構(gòu)易破壞或消失及薄膜選擇性較少等缺點(diǎn)。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明系采取以下之技術(shù)手段予以達(dá)成，其中，本發(fā)明提供一種帶有抗眩光薄膜的三維工件制作方法，包括以下步驟：a提供一薄膜、一熱壓模具以及一注塑機(jī)，該薄膜包括一可視區(qū)以及一邊框區(qū)，該邊框區(qū)位于該可視區(qū)外緣周圍，該熱壓模具具有一三維結(jié)構(gòu)，該注塑機(jī)具有一模具成型腔，該模具成型腔用以容置該薄膜，且該模具成型腔具有一第一抗眩光結(jié)構(gòu)，該第一抗眩光結(jié)構(gòu)位置與該可視區(qū)位置相對應(yīng)。b提供一第二抗眩光結(jié)構(gòu)，該第二抗眩光結(jié)構(gòu)位于該薄膜一表面上。c將該薄膜位于該熱壓模具上進(jìn)行一熱壓成型。d分離該薄膜與該熱壓模具，使得該薄膜形成該三維結(jié)構(gòu)形狀。e將該薄膜放置于該模具成型腔中進(jìn)行一壓合成型，使該第二抗眩光結(jié)構(gòu)形成有一平滑面以及一混合部，該平滑面位于該邊框區(qū)上，該混合部位于該可視區(qū)上，且該混合部的該第二抗眩光結(jié)構(gòu)與該第一抗眩光結(jié)構(gòu)相混合。f提供一工件主體位于該薄膜的另一表面上。g分離該薄膜與該注塑機(jī)。

附圖說明

圖1為習(xí)知技術(shù)壓縮注塑技術(shù)制作抗眩光蓋板示意圖；

圖2為本發(fā)明制作方法的方法流程圖；

圖3至圖7為本發(fā)明制作方法的制程示意圖；

圖8為顆粒狀結(jié)構(gòu)混合錐狀結(jié)構(gòu)的抗眩光結(jié)構(gòu)示意圖；

圖9為顆粒狀結(jié)構(gòu)混合錐狀結(jié)構(gòu)的抗眩光結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)號說明：

注塑機(jī) 1

抗眩光結(jié)構(gòu) 2

薄膜 3

薄膜 4

可視區(qū) 41

邊框區(qū) 42

第二抗眩光結(jié)構(gòu) 43

表面 44,45

熱壓模具 5

三維結(jié)構(gòu) 51

注塑機(jī) 6

模具成型腔 61

第一抗眩光結(jié)構(gòu) 62

通道 63

平滑面 71

混合部 72

工件主體 8

步驟 91～97

本發(fā)明目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說明。

具體實(shí)施方式

為達(dá)成上述目的及功效，本發(fā)明所采用之技術(shù)手段及構(gòu)造，茲繪圖就本發(fā)明較佳實(shí)施例詳加說明其特征與功能如下，俾利完全了解，但須注意的是，該等內(nèi)容不構(gòu)成本發(fā)明的限定。

請同時參閱圖2至圖7所示，本發(fā)明提供一種帶有抗眩光薄膜的三維工件制作方法，包括以下步驟：

步驟91：提供一薄膜4、一熱壓模具5以及一注塑機(jī)6。該薄膜4表面硬度不小于3H，其可為高分子薄膜、金屬氧化物薄膜或奈米溶膠薄膜，但不限于此。該薄膜4包括一可視區(qū)41以及一邊框區(qū)42，該邊框區(qū)42位于該可視區(qū)41外緣周圍。該熱壓模具5具有一三維結(jié)構(gòu)51，該熱壓模具5用以將該薄膜4透過熱壓成型方式塑造成所需的形狀，于本實(shí)施例中，該三維結(jié)構(gòu)51為一曲面結(jié)構(gòu)。該注塑機(jī)6具有一模具成型腔61，該模具成型腔61用以容置該薄膜4，且該模具成型腔61具有一第一抗眩光結(jié)構(gòu)62，當(dāng)該薄膜4放置于該模具成型腔61內(nèi)時，該第一抗眩光結(jié)構(gòu)62位置與該可視區(qū)41位置相對應(yīng)。

步驟92：提供一第二抗眩光結(jié)構(gòu)43，該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43位于該薄膜4一表面44上。該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43為涂布包含有光固化預(yù)聚物、稀釋劑、光引發(fā)劑和無機(jī)奈米金屬成份的一溶液(圖中未示)于該薄膜4的該表面44上，再利用紫外光照射固化該溶液所形成。

步驟93：將該薄膜4位于該熱壓模具5上進(jìn)行一熱壓成型。將該薄膜4不具有該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43的另一表面45貼合該熱壓模具5表面，進(jìn)行該熱壓成型，使該薄膜4形成帶有曲面的結(jié)構(gòu)。

步驟94：分離該薄膜4與該熱壓模具5，使得該薄膜4形成該三維結(jié)構(gòu)51形狀。

步驟95：將該薄膜4放置于該模具成型腔61中進(jìn)行一壓合成型，使該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43形成有一平滑面71以及一混合部72。該平滑面71位于該邊框區(qū)42上，該混合部72位于該可視區(qū)41上，且該混合部72的該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43與該第一抗眩光結(jié)構(gòu)62相混合。壓合成型時，該模具成型腔61將位于該邊框區(qū)42的該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43壓平形成該平滑面71，且該第一抗眩光結(jié)構(gòu)62轉(zhuǎn)印至位于該可視區(qū)41的該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43形成該混合部72。

請更加參閱圖8所示，在本發(fā)明一實(shí)施例中，該第一抗眩光結(jié)構(gòu)62為錐狀結(jié)構(gòu)，該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43為顆粒狀結(jié)構(gòu)。位于該邊框區(qū)42的該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43顆粒被壓入模層內(nèi)，故該薄膜4邊框區(qū)42表面平滑。該可視區(qū)41除了有顆粒狀結(jié)構(gòu)，還有該模具成型腔61轉(zhuǎn)印的錐狀結(jié)構(gòu)。

請更加參閱圖9所示，在本發(fā)明一實(shí)施例中，該第一抗眩光結(jié)構(gòu)62、該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43為錐狀結(jié)構(gòu)。位于該邊框區(qū)42的該第二抗眩光結(jié)構(gòu)43被壓平，故該薄膜4邊框區(qū)42表面平滑。該薄膜4可視區(qū)41除了原有的錐狀結(jié)構(gòu)，還有該模具成型腔61轉(zhuǎn)印的錐狀結(jié)構(gòu)形成混合式結(jié)構(gòu)。

步驟96：提供一工件主體8位于該薄膜4的另一表面45上。該注塑機(jī)6包括一通道63，用以注入一塑體(圖中未示)進(jìn)入該模具成型腔61，該塑體于該薄膜4的另一表面45上固化形成該工件主體8。

步驟97：分離該薄膜4與該注塑機(jī)6。

透過上述方式，本發(fā)明揭示了一種帶有抗眩光薄膜的三維工件制作方法，其利用模內(nèi)貼模(In-Mold Film,IMF)技術(shù)，透過紫外線或涂布方式于薄膜表面制作抗眩光結(jié)構(gòu)，再將該薄膜進(jìn)行模內(nèi)貼模制程射出工件主體。其改善了先前技術(shù)直接于模內(nèi)貼模制程轉(zhuǎn)印抗眩光結(jié)構(gòu)至薄膜上容易發(fā)生轉(zhuǎn)印率低、環(huán)測后抗眩光結(jié)構(gòu)易破壞或消失及薄膜選擇性較少等缺點(diǎn)。

經(jīng)過上述的詳細(xì)說明，已充分顯示本發(fā)明具有實(shí)施的進(jìn)步性，且為前所未見的新發(fā)明，完全符合發(fā)明專利要件，爰依法提出申請。惟以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，當(dāng)不能用以限定本發(fā)明實(shí)施的范圍，亦即依本發(fā)明專利范圍所作的均等變化與修飾，皆應(yīng)屬于本發(fā)明專利涵蓋的范圍內(nèi)。