本實(shí)用新型涉及一種溫控裝置,尤其涉及一種超薄型電容薄膜電暈處理溫控裝置。
背景技術(shù):
電容器用聚丙烯薄膜是由等規(guī)聚丙烯樹脂經(jīng)雙軸定向拉伸而成的一種性能優(yōu)良的塑料薄膜,可以用管膜法生產(chǎn),也可以使用平膜法雙向拉伸生產(chǎn),具有電容量穩(wěn)定、損耗小、耐電壓特性優(yōu)異、絕緣電阻高、頻率特性好、性能穩(wěn)定、可靠性高等優(yōu)點(diǎn),廣泛用于電子、家電、通訊、電力等領(lǐng)域。在BOPP電容薄膜的生產(chǎn)過程中,電暈處理是非常重要的一個(gè)環(huán)節(jié),它直接關(guān)系到后面的蒸鍍,直接關(guān)系到電容器電容量穩(wěn)定性和使用壽命。
在電暈處理的過程中會(huì)產(chǎn)生熱量,一般生產(chǎn)超薄型電容薄膜廠家,靠薄膜自主散熱,這樣一來,電暈處理時(shí),膜面溫度就不穩(wěn)定(特別是在停產(chǎn)或設(shè)備故障后再?gòu)?fù)機(jī),膜面溫度波動(dòng)更大)。隨著膜面溫度的增高,使駐極分子的穩(wěn)定性變差,表面分子遷移的比例增大。拉力不變的情況下,膜面變形量不穩(wěn)定,因而產(chǎn)生褶皺,如此電暈處理后,薄膜的表面潤(rùn)濕張力不均,不利于后續(xù)蒸鍍,同時(shí)褶皺后的薄膜也不利于收卷,影響電容器制程。但另一方面,根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)中的經(jīng)驗(yàn),膜面的溫度也并非越低越好。過低的溫度會(huì)使膜面的分子在極化和發(fā)生化學(xué)變化時(shí)基本能量不足,也會(huì)造成膜面表面張力潤(rùn)濕不足的問題。所以,調(diào)節(jié)膜面溫度并保證溫度穩(wěn)定是電暈處理的一個(gè)關(guān)鍵問題。如何解決該技術(shù)難題,成為一大難題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的是提供一種可調(diào)節(jié)溫度,同時(shí)溫度比較穩(wěn)定的超薄型電容薄膜電暈處理溫控裝置。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供一種超薄型電容薄膜電暈處理溫控裝置,其包括熱循環(huán)水回路和冷循環(huán)水回路;其中,所述熱循環(huán)水回路由電暈輥、熱循環(huán)水泵、壓力表、加熱器和溫度傳感器依次用管道連通形成,所述電暈輥設(shè)置在一恒溫凈化室內(nèi),以及,所述冷循環(huán)水回路由三通比例閥、冷卻水循環(huán)泵、冷水罐、冷凍機(jī)、冷凍機(jī)泵和熱水冷卻池依次用管道連通形成;所述熱循環(huán)水回路通過一板式交換器與冷循環(huán)水回路接觸,并且,該板式交換器既設(shè)置在熱循環(huán)水回路的管道上的電暈輥、熱循環(huán)水泵之間且同時(shí)設(shè)置在冷循環(huán)水回路的管道上的三通比例閥和熱水冷卻池之間;所述加熱器、溫度傳感器、三通比例閥均與一溫控器連接。
較佳地,所述溫控器是PID溫控器。
較佳地,在所述熱循環(huán)水回路的管道上設(shè)有排氣口和帶補(bǔ)水口單向閥的補(bǔ)水口。
較佳地,所述溫度傳感器設(shè)置在熱循環(huán)水回路的管道上的緊靠電暈輥出口旁邊。
較佳地,在所述熱水冷卻池上部設(shè)有進(jìn)水閥以及在該熱水冷卻池底部設(shè)有排水閥。
較佳地,所述三通比例閥為帶IP定位器的三通比例閥。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的電暈輥處于恒溫凈化室,確保膜面溫度不受外界天氣影響;熱循環(huán)水回路采用溫控器控制加熱器加熱,溫度可以根據(jù)需要自行設(shè)定;循環(huán)水為純凈水,確保管道不生水垢不易堵塞;加熱蒸發(fā)的水氣可從排氣口排出,同時(shí)從補(bǔ)水口補(bǔ)進(jìn)新的純凈水,確保水壓穩(wěn)定;冷循環(huán)水回路采用溫控器控制的三通比例閥,如采用PID溫控器控制的帶IP定位器三通比例閥,其能過精準(zhǔn)控制系統(tǒng)的冷卻量。電暈輥的溫度變化可以控制在0.1℃范圍內(nèi),從而使得膜面溫度可控,電暈處理時(shí)貼輥好,電暈處理均勻,表面潤(rùn)濕張力穩(wěn)定,有利于后續(xù)蒸鍍。故本實(shí)用新型可調(diào)節(jié)溫度,同時(shí)溫度比較穩(wěn)定。
通過以下的描述并結(jié)合附圖,本實(shí)用新型將變得更加清晰,這些附圖用于解釋本實(shí)用新型的實(shí)施例。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型所述的超薄型電容薄膜電暈處理溫控裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中,1為恒溫凈化室,2為電暈輥,3為溫度傳感器,4位補(bǔ)水口單向閥,5為排氣口,6為加熱器,7為熱循環(huán)水泵,8為板式交換器,9為三通比例閥,10為熱水冷卻池,11為冷凍機(jī)泵,12為冷凍機(jī),13為冷水罐,14為冷循環(huán)水泵,15為溫控器,16為壓力表。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在參考附圖描述本實(shí)用新型的實(shí)施例,附圖中類似的元件標(biāo)號(hào)代表類似的元件。
請(qǐng)參考圖1,一種超薄型電容薄膜電暈處理溫控裝置,其包括熱循環(huán)水回路和冷循環(huán)水回路。所述熱循環(huán)水回路由電暈輥2、熱循環(huán)水泵7、壓力表16、加熱器6和溫度傳感器3依次用管道連通形成,所述電暈輥2設(shè)置在一恒溫凈化室1內(nèi)。所述冷循環(huán)水回路由三通比例閥9、冷卻水循環(huán)泵14、冷水罐13、冷凍機(jī)12、冷凍機(jī)泵11和熱水冷卻池10依次用管道連通形成。所述熱循環(huán)水回路通過一板式交換器8與冷循環(huán)水回路接觸,并且,該板式交換器8既設(shè)置在熱循環(huán)水回路的管道上的電暈輥2、熱循環(huán)水泵7之間且同時(shí)設(shè)置在冷循環(huán)水回路的管道上的三通比例閥9和熱水冷卻池10之間;所述加熱器6、溫度傳感器3、三通比例閥9均與一溫控器15連接。
在本實(shí)施方式中,較佳地,所述溫控器15可是PID溫控器。在所述熱循環(huán)水回路的管道上設(shè)有排氣口5和帶補(bǔ)水口單向閥4的補(bǔ)水口。所述溫度傳感器3 設(shè)置在熱循環(huán)水回路的管道上的緊靠電暈輥2出口旁邊。在所述熱水冷卻池10上部設(shè)有進(jìn)水閥以及在該熱水冷卻池10底部設(shè)有排水閥。所述三通比例閥9可為帶IP定位器的三通比例閥。
在本實(shí)施方式中,通過將電暈輥2至于恒溫凈化室1內(nèi),如溫度設(shè)定為25℃,確保膜面溫度不受外界影響。溫度傳感器3可緊挨電暈輥2的出水口,溫度傳感器3的溫度信號(hào)傳遞給溫控器15,確保測(cè)量溫度接近電暈輥2的溫度。加熱器6的加熱量可由溫控器15控制輸出,加熱后產(chǎn)生的水蒸氣從排氣口5排出,確保系統(tǒng)壓力不升高。熱循環(huán)水回路水量減少后,由補(bǔ)水口4補(bǔ)入純水。熱循環(huán)水泵7,提供泵出口壓力,壓力如可為0.53MPa,壓力表16測(cè)量水壓,確?;芈匪畨赫!嵫h(huán)水回路和冷循環(huán)水回路在熱交換板8處接觸,使得循環(huán)水回路能夠降溫。經(jīng)過板式交換器8的熱水量由熱循環(huán)水泵7控制,經(jīng)過板式交換器8的冷水量由冷循環(huán)水泵14和帶IP定位器的三通比例閥控制,當(dāng)冷循環(huán)水泵14功率確定的情況下,冷水量及冷卻量由帶IP定位器的三通比例閥決定。而帶IP定位器的三通比例閥的閥芯開度由溫控器15通過PID算法后控制。冷水通過板式交換器8后,在熱水冷卻池10中冷卻,并由冷凍機(jī)泵11打入冷凍機(jī)12,降溫后儲(chǔ)存在冷水罐13中。廢水可從熱水冷卻池10底部的排水閥排出,純水從熱水冷卻池10上部的進(jìn)水閥補(bǔ)入。由此,通過在溫控器15上設(shè)置電暈輥2的溫度,如90℃,溫控器15通過PID算法后,控制加熱量和冷卻量,使電暈輥2的溫度穩(wěn)定在設(shè)定的溫度,如90℃,精確度可達(dá)0.1℃,經(jīng)過電暈輥2的超薄型薄膜,與電暈輥2的接觸面積大,所以電暈處理時(shí)膜面溫度等于設(shè)定溫度90℃,且變化量在0.1℃以內(nèi)。
以上結(jié)合最佳實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了描述,但本實(shí)用新型并不局限于以上揭示的實(shí)施方式,而應(yīng)當(dāng)涵蓋各種根據(jù)本實(shí)用新型的本質(zhì)進(jìn)行的修改、等效組合。