專利名稱：：環(huán)烯烴樹脂膜及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種環(huán)烯烴樹脂膜及其制備方法，尤其是涉及一種用于液晶顯示裝置的環(huán)烯烴樹脂膜及其制備方法。
背景技術(shù)：
：纖維素基樹脂膜比如乙酰纖維素膜是通過使用擠出機(jī)將纖維素基樹脂熔融并且將熔體擠出到模頭中，將熔融的樹脂從模頭中排出形成片材形式，并且將該排出的片材固化以形成膜。將所形成的纖維素-基樹脂膜在縱向(長度)方向和橫向(寬度)方向上拉伸，以出現(xiàn)在面內(nèi)的延遲(Re)和在厚度方向上的延遲(Rth)，并且被用作液晶顯示元件的相位差膜。由此實(shí)現(xiàn)視角的拓寬(參見例如專利文獻(xiàn)1)。由于環(huán)烯烴樹脂膜可以改善纖維素_基樹脂膜的吸濕性和水蒸汽滲透性，因此近年來環(huán)烯烴樹脂膜作為具有對環(huán)境溫度和濕度的變化較不敏感的光學(xué)性質(zhì)的膜而得到了關(guān)注。人們已經(jīng)在研究使用通過熔體擠出膜形成法和溶液流延膜形成法所形成的環(huán)烯烴樹脂膜作為用于偏振片和液晶顯示器的膜(參見，例如專利文獻(xiàn)2和3)。專利文獻(xiàn)1國際專利申請的日本國家公布6-501040專利文獻(xiàn)2日本專利申請公開2005-43740專利文獻(xiàn)3日本專利申請公開2002-11482
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明要解決的問題在制備環(huán)烯烴樹脂膜的工藝中通常進(jìn)行的是通過制備未拉伸的中間基體膜并且在縱向方向和/或橫向方向上拉伸中間基體膜(basefilm)以在中間基體膜中出現(xiàn)延遲，從而形成光學(xué)膜。然而，包含環(huán)烯烴樹脂膜作為主要組分的中間基體膜存在的問題是，當(dāng)中間基體膜在縱向方向和/或橫向方向拉伸以出現(xiàn)延遲時(shí)，中間基體膜由于脆性而破裂。本發(fā)明是關(guān)于這種情形而設(shè)計(jì)的，并且旨在改善未拉伸中間基體膜的脆性、穩(wěn)定地制備環(huán)烯烴樹脂膜并且提高生產(chǎn)效率。用于解決問題的手段為了實(shí)現(xiàn)上述目的，提供了一種制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，該方法包括如下步驟將環(huán)烯烴樹脂在230至260°C的擠出溫度和500至3，OOOPa-s的熔體粘度從模頭熔體擠出形成膜的形式；流延熔體擠出的膜；卷繞流延膜；以及將卷繞膜退卷并且在縱向方向和/或橫向方向上拉伸膜以在其內(nèi)出現(xiàn)延遲，其中所述方法包括在卷繞膜的步驟之前的分子取向處理步驟。環(huán)烯烴樹脂膜是無定形的，但是通過進(jìn)行取向處理，分子沿著膜的縱向方向排列。分子已經(jīng)取向的膜獲得增強(qiáng)的脆性。獲得增強(qiáng)的脆性的中間基體膜可以運(yùn)輸而不會(huì)破裂，并且可以使用卷繞機(jī)卷繞。而且，在中間基體膜在縱向方向和/或橫向方向上拉伸以在其內(nèi)出現(xiàn)延遲的情況下，中間基體膜即使通過拉幅機(jī)或類似裝置固定或在縱向方向上采用不同圓周速度的輥進(jìn)行拉伸也幾乎不破裂。結(jié)果，提高了環(huán)烯烴樹脂膜的生產(chǎn)效率。根據(jù)本發(fā)明的第二方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于，在第一方面中，分子取向處理步驟是以1.05至2.5倍的拉伸比在縱向方向上拉伸熔體擠出的膜的步馬聚o通過以1.05至2.5倍的拉伸比在縱向方向(加工方向MD)上拉伸熔體擠出的膜膜，對該膜進(jìn)行分子取向處理。結(jié)果，改善了該膜的脆性?？v向拉伸的比率優(yōu)選為1.05至2.5倍。該比率更優(yōu)選為1.07至2.0倍，并且特別優(yōu)選為1.08至1.5倍。根據(jù)本發(fā)明的第三方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于在第二方面中，在縱向方向上拉伸膜是在流延步驟進(jìn)行的。所述方法不需要提供單獨(dú)的拉伸步驟，因?yàn)槟ぴ诳v向方向的拉伸是使用在流延步驟中使用的冷卻輥進(jìn)行的，以使分子取向。因此，現(xiàn)有的生產(chǎn)設(shè)備可以得到有效率地使用。根據(jù)本發(fā)明第四方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于膜在縱向方向上的拉伸包括使用其溫度在Tg+10至Tg+200°C的范圍內(nèi)的加熱輥加熱熔體擠出的膜。當(dāng)膜在縱向方向拉伸以取向分子時(shí)，使用已經(jīng)被加熱至Tg+10至Tg+200°C的溫度范圍的加熱輥加熱膜的操作可以抑制延遲出現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明第五方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于第四方面中，加熱輥在寬度方向上的溫度分布在士2°C之內(nèi)。加熱輥可以在寬度方向上均勻地加熱膜，因此可以更有效地抑制延遲出現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明第六方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于在根據(jù)第一至第五方面中任一方面中的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法包括使用遠(yuǎn)紅外加熱器進(jìn)一步加熱熔體擠出的膜。由于使用紅外加熱器加熱熔體擠出的膜，因此在鼓上顯現(xiàn)了拉平效應(yīng)，這使得表面幾乎均勻。結(jié)果，所得膜的膜厚度分布減小，并且降低了其模頭條紋(diestreak)。根據(jù)本發(fā)明第七方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于根據(jù)第一至第六方面中任一方面中的方法包括進(jìn)一步賦予已經(jīng)進(jìn)行了分子取向處理的膜的壓花圖案的壓花步驟，該壓花圖案的高度在膜厚度的5至20%的范圍內(nèi)。膜可以容易地被壓花，因?yàn)槟さ膹?qiáng)度由于分子取向處理而增加。此外，膜可以被穩(wěn)定地卷繞，因?yàn)閷ζ滟x予了壓花圖案。根據(jù)本發(fā)明第八方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于第七方面中的壓花步驟是通過加熱壓花輥至Tg+10至Tg+200°C的溫度而賦予膜壓花圖案的步驟。在壓花步驟中對膜施加的負(fù)荷可以通過將壓花輥的溫度設(shè)置為Tg+10至Tg+200°C的范圍以及加熱膜而得到降低。根據(jù)本發(fā)明的第九方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于在第八方面中的壓花輥通過加熱器加熱。根據(jù)本發(fā)明的第十方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于在第九方面中的加熱器是紅外加熱器或電介質(zhì)加熱器。第十方面規(guī)定了加熱壓花輥的優(yōu)選方法。根據(jù)本發(fā)明的第十一方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于，在第一至第十方面中任一方面中的方法包括用于支撐膜的傳遞輥，該傳遞輥的表面粗糙度(Ra)為1μm以下。通過將用于支撐膜的傳遞輥的表面粗糙度(Ra)設(shè)定在1μm以下，可以輸送膜而不損傷膜的表面。根據(jù)本發(fā)明的第十二方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于在第一至第十一方面中任一方面中的流延熔體擠出的膜的步驟是接觸輥系統(tǒng)、通風(fēng)室系統(tǒng)(airchambersystem)、真空噴嘴系統(tǒng)、靜電涂敷系統(tǒng)和氣刀系統(tǒng)中的任一種。上述的流延系統(tǒng)可以優(yōu)選用于本發(fā)明。根據(jù)本發(fā)明的第十三方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法的特征在于在根據(jù)第一至第十二方面中任一方面的方法中，流延熔體擠出的膜的步驟包括使用表面粗糙度(Ra)為30μm以下的流延鼓流延所述膜。通過使用表面粗糙度(Ra)為30μm以下的流延鼓可以穩(wěn)定地流延所述膜。根據(jù)本發(fā)明的第十四方面的環(huán)烯烴樹脂膜的特征在于所述膜通過根據(jù)第一至第十三方面中任一方面的方法制備。根據(jù)第十四方面的環(huán)烯烴樹脂膜可以優(yōu)選被應(yīng)用于所述應(yīng)用，因?yàn)榫哂斜桓纳频拇嘈浴０l(fā)明的益處根據(jù)本發(fā)明的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，由于進(jìn)行了分子取向處理步驟，因此當(dāng)膜處于未拉伸中間基體膜的狀態(tài)時(shí)，可以降低膜破裂的發(fā)生。因此，可以穩(wěn)定地生產(chǎn)環(huán)烯烴樹脂膜，并且可以提高生產(chǎn)效率。附圖簡述圖IA是應(yīng)用于本發(fā)明的一種膜生產(chǎn)設(shè)備的示意流程圖；圖IB是應(yīng)用于本發(fā)明的另一種膜生產(chǎn)設(shè)備的示意流程圖；圖2是說明擠出機(jī)的結(jié)構(gòu)的示意圖；以及圖3是說明用于拉伸模的輥(壓花輥)的結(jié)構(gòu)的示意圖。符號說明10—生產(chǎn)設(shè)備12A-乙烯_降冰片烯共聚樹脂膜12B—中間基體膜12C—光學(xué)膜14—擠出機(jī)16—模頭18—第一冷卻輥20—第二冷卻輥22—第三冷卻輥24—?jiǎng)冸x輥26—卷繞器30—生產(chǎn)設(shè)備32—進(jìn)料器34—縱向拉伸部36和38—夾持輥40—橫向拉伸部42—卷繞器實(shí)施本發(fā)明的最佳方式下面，將詳細(xì)描述本發(fā)明的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法。下面，本發(fā)明將參考優(yōu)選實(shí)施方案進(jìn)行描述，但是本發(fā)明可以通過任何沒有過度超過本發(fā)明范圍的技術(shù)進(jìn)行改性，并且可以使用除現(xiàn)有實(shí)施方案之外的其它實(shí)施方案。因此，本發(fā)明的范圍內(nèi)的所有變化都包括在權(quán)利要求書中。在下文中通過使用“至”表示的數(shù)值范圍是指包括在“至”之前和之后描述的數(shù)值范圍的范圍。順便提及，在本實(shí)施方案中，將描述制備乙烯-降冰片烯共聚樹脂膜(T0PASMD6013，由PolyplasticsCo.,Ltd.制備)的一個(gè)實(shí)例，但是本發(fā)明并不限于本實(shí)施方案，并且可以應(yīng)用于通過使用不同于乙烯_降冰片烯共聚樹脂的環(huán)烯烴樹脂而制備膜的方法。如圖IA所示，生產(chǎn)設(shè)備10主要由如下各項(xiàng)構(gòu)成擠出機(jī)14，用于熔融乙烯-降冰片烯共聚樹脂12；模頭16，用于將熔融的乙烯-降冰片烯共聚樹脂12熔體擠出形成膜的形式；多個(gè)冷卻輥18、20和22，它們以多級冷卻從模頭16排出的熱的乙烯-降冰片烯共聚樹脂膜12A(下文稱作膜12A)；剝離輥24，用于剝離來自最后冷卻輥22的膜12A；以及卷繞機(jī)26，用于卷繞冷卻的膜12A。在圖IA的步驟中，冷卻膜12A通過卷繞機(jī)26卷繞，并且中間基體膜12B被制備用作光學(xué)膜用的材料。已經(jīng)通過擠出機(jī)14熔融的乙烯-降冰片烯共聚樹脂12經(jīng)由管道44送往模頭16，并且從模頭16的排出口排出形成膜的形式。用于從模頭16排出乙烯-降冰片烯共聚樹脂12的壓力優(yōu)選被控制在10%的波動(dòng)范圍內(nèi)。接著，使用以多級排列的三個(gè)冷卻輥18、20和22多級冷卻從模頭16排出的熱膜12A。在此，以三級排列的冷卻輥18、20和22從膜的輸送方向的上游順序被稱作第一冷卻輥18、第二冷卻輥20和第三冷卻輥22。本發(fā)明中，在這種多級冷卻系統(tǒng)中，從模頭16排出的熱膜12A著陸到其上的第一冷卻輥18的溫度條件按如下方式設(shè)定。第一冷卻輥18的表面溫度被設(shè)置在乙烯_降冰片烯共聚樹脂的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg+10至Tg+200°C的范圍內(nèi)。(請寫出用于取向膜中的分子的任何優(yōu)選條件)通過將第一冷卻輥18的溫度設(shè)定在乙烯_降冰片烯共聚樹脂的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg+10至Tg+200°C的范圍內(nèi)，可以抑制從模頭16排出的膜12A在著陸在第一冷卻輥18上時(shí)被快速冷卻，因此當(dāng)膜12A著陸在第一冷卻輥上時(shí)可以有效地抑制膜12A中皺紋的產(chǎn)生。膜12A在輸送的同時(shí)被第一冷卻輥18、第二冷卻輥20和第三冷卻輥22冷卻和固化。此時(shí)，第一冷卻輥18、第二冷卻輥20和第三冷卻輥22的圓周速度被設(shè)定為朝下游側(cè)增力口。結(jié)果，膜12A根據(jù)冷卻輥18、20和22各自之間速度差而在縱向方向(長度方向)上被拉伸，并且以優(yōu)選1.05至2.5倍的拉伸比拉伸。拉伸比更優(yōu)選為1.07至2.0倍，并且特別優(yōu)選為1.08至1.5倍。通過使用冷卻輥18、20和22在縱向方向拉伸膜12A的操作，對膜12A進(jìn)行分子取向處理。通過使用多級冷卻輥流延膜12A以冷卻和固化膜12A以及同時(shí)對膜12A進(jìn)行分子取向處理的操作，改善了所產(chǎn)生的中間基體膜12B的斷裂強(qiáng)度。在本實(shí)施方案中，使用其表面溫度已經(jīng)被設(shè)定在玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg+10至Tg+200°C的第一冷卻輥18加熱膜12A。這能夠防止膜12A在其內(nèi)形成皺紋，并且抑制膜12A通過第一冷卻輥18、第二冷卻輥20和第三冷卻輥22之間的圓周速度差進(jìn)行縱向方向的拉伸時(shí)在其內(nèi)的延遲出現(xiàn)。當(dāng)膜12A在沒有加熱的情況下在縱向方向拉伸時(shí)，將變?yōu)橹虚g基體膜的膜12A中出現(xiàn)了延遲。當(dāng)一旦在中間基體膜中出現(xiàn)了延遲，即使當(dāng)膜在縱向方向和/或橫向方向上被拉伸以獲得實(shí)際的光學(xué)性質(zhì)時(shí)，也不可能獲得理想的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)拉伸膜12A以取向其中的分子時(shí)，重要的是抑制延遲的出現(xiàn)。第一冷卻輥18的表面溫度Tl以及當(dāng)膜與第一冷卻輥18接觸時(shí)的膜溫度T2可以預(yù)先經(jīng)由初步測試的測量而獲得，或可以通過在生產(chǎn)設(shè)備上安置非接觸型溫度測量裝置比如紅外發(fā)射溫度計(jì)并且基于測量結(jié)果自動(dòng)控制用于冷卻輥的介質(zhì)的溫度而加以控制。在剝離輥24和卷繞機(jī)26之間安置壓花輥60(參見圖3)，以對膜12A施加壓花處理。在壓花輥60的圓周表面上形成規(guī)則的精細(xì)的凹-凸圖案。該規(guī)則的精細(xì)的凹-凸圖案被轉(zhuǎn)印到膜12A上。壓花輥60需要具有凹-凸圖案的精度、機(jī)械強(qiáng)度、圓形度等。這樣的壓花輥60優(yōu)選是由金屬制備的輥。適用于在壓花輥60的圓周表面上形成規(guī)則的精細(xì)的凹-凸圖案的方法包括使用金剛石車刀(單點(diǎn))切割壓花輥60的表面的方法；以及使用光蝕刻技術(shù)、電子束光刻術(shù)、激光加工技術(shù)等在壓花輥60的表面上直接形成凹-凸的方法。壓花輥60的表面優(yōu)選進(jìn)行脫模處理。因而精細(xì)凹-凸圖案的形狀可以適當(dāng)?shù)赝ㄟ^對壓花輥60的表面應(yīng)用脫模處理而被保持。脫模處理可以采用熟知的各種方法，例如采用氟樹脂涂布壓花輥60的處理。夾持輥62設(shè)置在壓花輥60的相對的位置上。膜12A通過壓花輥60和夾持輥62加壓，并且壓花輥60的凹-凸形狀被轉(zhuǎn)印到膜12A上。此外，優(yōu)選在壓花輥60和夾持輥62中的任何一個(gè)上安置壓力裝置，以在壓花輥60和夾持輥62之間賦予預(yù)定的壓制力。在夾持輥62的相反側(cè)上，將剝離輥64設(shè)置成與壓花輥60相對。剝離輥64具有與壓花輥60協(xié)作從壓花輥60上剝離膜12A的功能。壓花輥60賦予已經(jīng)進(jìn)行了分子取向處理的膜12A壓花圖案，該壓花圖案的高度為膜12A的厚度的5至20%。膜12A即使進(jìn)行壓花處理也不會(huì)斷裂，因?yàn)槠湟呀?jīng)進(jìn)行了分子取向處理而獲得了被改善的脆性。膜12A可以被穩(wěn)定地卷繞，因?yàn)樵谄渖腺x予了壓花圖案。通過加熱器(圖中未顯示)將壓花輥60加熱在Tg+10至Tg+200°C的范圍內(nèi)。在壓花步驟中對膜12A施加的負(fù)荷可以通過將壓花輥60的溫度設(shè)定在Tg+10至Tg+200°C的范圍并且加熱該膜而得到降低。紅外加熱器或電介質(zhì)加熱的加熱器可以優(yōu)選被用作加熱壓花輥60的加熱器。接著，使用生產(chǎn)設(shè)備30在縱向方向和橫向方向上拉伸由生產(chǎn)設(shè)備10生產(chǎn)的中間基體膜12B，以出現(xiàn)面內(nèi)延遲(Re)和厚度方向的延遲(Rth)，因而具有光學(xué)膜所需的性質(zhì)。如圖IB所示，生產(chǎn)設(shè)備30包括進(jìn)料器32，用于進(jìn)料中間基體膜12B；縱向拉伸部34，用于在縱向方向拉伸中間基體膜12B;橫向拉伸部40，以在橫向方向上拉伸已經(jīng)進(jìn)行了縱向拉伸的中間基體膜12B；以及卷繞器42，用于卷繞已經(jīng)進(jìn)行了橫向拉伸的中間基體膜12B。在圖IB的步驟中，通過卷繞器42卷繞中間基體膜12B，并且制備出光學(xué)膜12C。對中間基體膜12B進(jìn)行拉伸操作，以取向中間基體膜12B中的分子并且出現(xiàn)面內(nèi)延遲(Re)以及在厚度方向上的延遲(Rth)。本文中，延遲Re和Rth由以下等式確定Re(nm)=η(MD)-η(TD)|XT(nm)；禾口Rth(nm)=|{(η(MD)+η(TD))/2}—η(ΤΗ)|XT(nm)，其中n(MD加工方向)、n(TD橫向方向)和η(ΤΗ)表示在縱向方向、寬度方向和厚度方向上的折射率；并且T表示以nm(納米)單位表示的厚度。如圖IB所示，在縱向拉伸部34中，中間基體膜12B首先在縱向方向上拉伸。在縱向拉伸部34中，預(yù)熱中間基體膜12B。然后，處于已經(jīng)被加熱的狀態(tài)的中間基體膜12B被拖拉通過兩個(gè)夾持輥36和38。在下游側(cè)的夾持輥38以比上游側(cè)的夾持輥36的圓周速度更快的圓周速度輸送中間基體膜12B。通過在兩個(gè)夾持輥36和38之間的圓周速度差，在縱向方向上拉伸中間基體膜12B。已經(jīng)在縱向方向被拉伸的中間基體膜12B被送往橫向拉伸部40，并且在中間基體膜12B的寬度方向上橫向拉伸。例如，拉幅機(jī)可以優(yōu)選被用于橫向拉伸部40。通過使用拉幅機(jī)的夾具固定中間基體膜12B的寬度方向上的兩端并且在橫向方向拉伸該膜，可以進(jìn)一步提高延遲Rth。在已經(jīng)進(jìn)行拉伸之后的中間基體膜12B通過圖IB的卷繞機(jī)42中卷繞成卷的形式，并且制備出光學(xué)膜12C。在本發(fā)明中，當(dāng)制備中間基體膜時(shí)，通過在縱向方向上拉伸中間基體膜而對中間基體膜應(yīng)用分子取向，由此改善中間基體膜的脆性。當(dāng)制備中間基體膜時(shí)在縱向方向的拉伸操作可以用通過控制拉伸條件而出現(xiàn)延遲的縱向拉伸操作代替。換言之，能夠使在制備中間基體膜時(shí)在縱向方向的拉伸操作具有在下一步驟中所需要的改善脆性和出現(xiàn)延遲用的縱向拉伸的兩種功能。在縱向方向上的拉伸步驟可以省略，這本來是出現(xiàn)延遲所必需的。圖2說明了擠出機(jī)14的結(jié)構(gòu)。如在該圖中所示，在擠出機(jī)14的機(jī)筒44中設(shè)置有單軸螺桿50，該單軸螺桿50具有附著在螺桿軸46上的螺紋刮板48(flightscraper)。單軸螺桿50被構(gòu)造成通過電動(dòng)機(jī)(圖中未顯示)旋轉(zhuǎn)。加料斗(圖中未顯示)被安裝在機(jī)筒44的供給口52上。乙烯-降冰片烯共聚樹脂從這個(gè)加料斗通過供給口52供給至機(jī)筒44。機(jī)筒44的內(nèi)部從供給口52開始順序包括供給部(A所示的區(qū)域)，用于定量輸送從供給口52供給的乙烯-降冰片烯共聚樹脂；壓縮部(由B所示的區(qū)域)，用于捏合和壓縮乙烯_降冰片烯共聚樹脂；以及計(jì)量部(由C所示的區(qū)域)，用于稱量捏合和壓縮乙烯-降冰片烯共聚樹脂。在擠出機(jī)14中熔融的乙烯-降冰片烯共聚樹脂從排出口54被連續(xù)地輸送至模頭。擠出機(jī)14的螺桿壓縮比優(yōu)選設(shè)置在2.5至4.5，并且L/D被優(yōu)選設(shè)置在20至70。本文中，螺桿壓縮比表示為供給部A與計(jì)量部C的容積比，換言之，表示為每單位長度的供給部A的容積除以每單位長度的計(jì)量部C的容積，并且通過使用表示在供給部A的螺桿軸46的外徑dl、表示計(jì)量部C的螺桿軸46的外徑d2以及表示供給部A的凹槽部分的直徑al和表示計(jì)量部C的凹槽部分的直徑a2進(jìn)行計(jì)算。此外，L/D比率是圖2中機(jī)筒的長度(L)相對于機(jī)筒的內(nèi)徑⑶的比率。擠出溫度被設(shè)定在230至260°C。從模頭16排出的膜12A的熔體粘度被設(shè)定在500至3，OOOPa*s。特別是，本發(fā)明包括穩(wěn)定地進(jìn)行拉伸步驟，以改善具有上述擠出溫度和熔體粘度的性質(zhì)的環(huán)烯烴樹脂的脆性，并且出現(xiàn)其內(nèi)的延遲。(環(huán)烯烴樹脂)在本發(fā)明中，環(huán)烯烴樹脂也稱作環(huán)狀聚烯烴。環(huán)烯烴樹脂是指具有環(huán)狀烯烴結(jié)構(gòu)的聚合物樹脂。具有環(huán)狀烯烴結(jié)構(gòu)的聚合物樹脂的實(shí)例包括(1)降冰片烯基聚合物、(2)單環(huán)狀烯烴的聚合物、(3)環(huán)狀共軛二烯的聚合物、(4)乙烯基脂環(huán)族烴的聚合物和(1)至(4)的氫化物。對于本發(fā)明的優(yōu)選聚合物是包含有下列通式(II)表示的重復(fù)單元中的至少一種的環(huán)狀聚烯烴的加成(共)聚合物；和必要時(shí)，進(jìn)一步包含由通式(I)表示的重復(fù)單元中的至少一種有環(huán)狀聚烯烴的加成(共)聚合物。還可以優(yōu)選使用包含由通式(III)表示的環(huán)狀重復(fù)單元中的至少一種的開環(huán)(共)聚合物。通式(I)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>通式(II)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>通式(III)<formula>formulaseeoriginaldocumentpage9</formula>在通式(I)、(II)和(III)中，m表示0至4的整數(shù)。R1至R6各自獨(dú)立地表示氫原子或碳數(shù)為1至10的烴基。X1至X3和Y1至Y3各自獨(dú)立地表示氫原子；碳數(shù)為1至10的烴基；鹵素原子；其中鹵素原子取代氫原子的碳數(shù)為1至10的烴基；-(CH2)nCOOR11；-(CH2)n0C0R12；-(CH2)nNCO；-(CH2)n-NO2；-(CH2)nCN-(CH2)nCONR13R14-(CH2)nNR13R14；-(CH2)n0Z(CH2)nW;或(_C0)20或(-CO2)NR15，其由X1和Y1J2和Y2或X3和Y3構(gòu)成。此外，R"、R12、R13、R14和R15各自獨(dú)立地表示氫原子或碳數(shù)為1至20的烴基；Z表示烴基或其中鹵素原子代替氫原子的烴基；W表示SiR16pD3_p(R16表示碳數(shù)為1至10的烴基；D表示鹵素原子、-OCOR16或-OR16；和ρ表示0至3的整數(shù))；以及η表示0至10的整數(shù)。在X1至X3和Y1至Y3中的全部或部分取代基中被引入具有大的極化性的官能團(tuán)。由此，光學(xué)膜可以增加厚度方向的延遲(Rth)，并且可以增加面內(nèi)延遲(Re)的出現(xiàn)途徑(developingway)0具有大的Re的出現(xiàn)途徑的膜可以通過在膜形成步驟中的拉伸而得到大的Re值。降冰片烯基加成(共)聚合物在日本專利申請公開10-7732、國際專利申請的日本國家公布2002-504184、US2004229157A1、WO2004/070463A1等中有公開。降冰片烯基加成(共)聚合物可以通過將降冰片烯基多環(huán)狀不飽和化合物彼此加成-聚合而獲得。此夕卜，必要時(shí)，降冰片烯基加成(共)聚合物可以通過降冰片烯基多環(huán)狀不飽和化合物與下面各項(xiàng)化合物加成-聚合而獲得乙烯、丙烯或丁烯；共軛二烯，比如丁二烯和異戊二烯；非共軛二烯，比如亞乙烯基降冰片烯；或直鏈二烯化合物比如丙烯腈、丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸酐、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、馬來酰亞胺、乙酸乙烯酯和氯乙烯。例如，這種降冰片烯基加成(共)聚合物由MitsuiChemicals,Inc以商品名APEL(商標(biāo))在市場上出售，其一些級別具有不同的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)，比如APL8008T(70°C的Tg)、APL6013T(125°C的Tg)和APL6015T(145°C的Tg)。PolyplasticsCo.,Ltd在市場上出售粒料，比如T0PAS8007、T0PAS6013*T0PAS6015。jy^hFerraniaTechnologiesS.p.A在市場上出售Appear3000。降冰片烯基聚合物的氫化物通過將多環(huán)不飽和化合物加成-聚合或易位開環(huán)聚合并且向其中加氫而制備，如在日本專利申請公開1-240517、日本專利申請公開7-196736、日本專利申請公開60-26024、日本專利申請公開62-19801、日本專利申請公開2003-1159767、日本專利申請公開2004-309979等中公開。在用于本發(fā)明的降冰片烯基聚合物中，R5至R6各自優(yōu)選氫原子或-CH3；X3和Y3各自優(yōu)選氫原子、Cl或-COOCH3；而其它基團(tuán)是適當(dāng)選取的?？梢员皇褂玫倪@種降冰片烯基樹脂由JSRCorporation以商品名ArtonG或ArtonF在市場上出售，并且由ZE0NC0RP0RATI0N以商品名ZeonorZF14、ZF16、Zeonex250或Zeonex280在市場上出售。(添加劑)在根據(jù)本發(fā)明的制備方法中，可以在各種制備步驟中，根據(jù)應(yīng)用，高環(huán)狀聚烯烴溶液中添加各種添加劑(例如，抗降解劑、紫外-射線抑制劑、延遲(光學(xué)各向異性)改性劑、微粒、剝離促進(jìn)劑和紅外吸收劑)。添加劑可以是固體或油狀物質(zhì)。換言之，熔點(diǎn)和沸點(diǎn)沒有特別限制。例如，將20°C以下和20°C以上的紫外吸收材料混合，并且將抗降解劑以類似方式混合。而且，紅外吸收染料描述于例如日本專利申請公開2001-194522中。此外，在制備環(huán)狀聚烯烴溶液(濃液(dope))過程的任何步驟中可以添加添加劑，并且可以增加在濃液制備步驟的最后制備步驟添加添加劑并制備濃液的步驟。此外，被添加的每一種材料的量沒有特別限制，只要顯示所述功能即可。當(dāng)環(huán)狀聚烯烴膜由多層形成時(shí)，每一層中的添加劑的種類和量可以彼此不同。(抗降解劑)在本發(fā)明的制備方法中，可以例如向環(huán)狀聚烯烴溶液添加熟知的降解(氧化)抑制劑，例如，酚基或?qū)Ρ蕉踊寡趸瘎?，比?，6-二叔丁基苯酚、4-甲基苯酚、4，4'-硫代雙-(6-叔丁基-3-甲基苯酚)、1，1'-雙(4-羥基苯基)環(huán)己烷、2，2'-亞甲基雙(4-乙基-6-叔丁基苯酚)、2，5-二叔丁基對苯二酚、季戊四醇基-四[3-(3，5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯。而且，優(yōu)選向環(huán)狀聚烯烴溶液中添加磷基抗氧化劑，比如三(4-甲氧基_3，5-二苯基)亞磷酸酯、三(壬基苯基)亞磷酸酯、三(2，4-二丁基苯基)亞磷酸酯、二(2，6_二叔丁基-4-甲基苯基)季戊四醇二亞磷酸酯和二(2，4_二叔丁基苯基)季戊四醇亞亞磷酸酯。相對于100質(zhì)量份的環(huán)狀聚烯烴，被添加的抗氧化劑的量優(yōu)選在0.05至5.0質(zhì)量份的范圍內(nèi)。(UV吸收劑)在本發(fā)明的制備方法中，從防止偏振片、液晶等降解的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選將UV吸收劑用于環(huán)狀聚烯烴溶液。從顯示吸收波長為370nm以下的紫外線的優(yōu)良能力以及顯示良好的液晶顯示性能考慮，優(yōu)選使用的UV吸收劑輕微吸收波長為400nm以上的紫外光。優(yōu)選用于本發(fā)明的UV吸收劑的具體實(shí)例包括例如受阻酚_基化合物、羥基二苯甲酮基化合物、苯并三唑基化合物、水楊酸酯基化合物、二苯甲酮基化合物、氰基丙烯酸酯基化合物和鎳配鹽基化合物。受阻酚基化合物的實(shí)例包括2，6_二叔丁基-對甲酚、季戊四醇基-四[3-(3，5_二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]、N，N'-六亞甲基雙(3，5-二叔丁基-4-羥基-氫化肉桂酰胺)、1，3，5-三甲基-2，4，6-三(3，5-二叔丁基-4-羥基芐基)苯和三-(3，5-二叔丁基-4-羥基芐基)-異氰脲酸酯。苯并三唑基化合物的實(shí)例包括2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并三唑、2，2_亞甲基雙(4-(1，1，3，3_四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)苯酚)、2，4_雙-(正辛硫基)-6-(4_羥基-3，5-二叔丁基苯胺基)-1，3，5-三嗪、三甘醇-雙[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯]、N，N'-六亞甲基雙(3，5-二叔丁基-4-羥基-氫化肉桂酰胺)、1，3，5-三甲基-2，4，6-三(3，5-二叔丁基-4-羥基芐基)苯、2(2'-羥基-3'，5'-二叔丁基苯基)-5-氯苯并三唑、(2(2'-羥基_3'，5'-二叔戊基苯基)-5-氯苯并三唑、2，6-二叔丁基-對甲酚和季戊四醇基_四[3-(3，5-二叔丁基-4-羥基苯基)丙酸酯]。相對于環(huán)狀聚烯烴，被添加的這些紫外抑制劑的量按質(zhì)量比計(jì)優(yōu)選在Ippm至1.0%的范圍內(nèi)，并且更優(yōu)選為10至l，000ppm。(消光劑的微粒)接著，下面將描述用于本發(fā)明的消光劑。為了改善膜面的差的滑動(dòng)性質(zhì)，有效的是賦予膜表面凹_凸(convexo-convex)，并且已知的方法是向膜中添加有機(jī)和/或無機(jī)物質(zhì)的微粒，由此增加膜表面的粗糙度，所謂的，使表面不光滑以降低膜的粘合性。在本發(fā)明中，向待制備的膜中添加消光劑，并且由此可以改善光學(xué)性質(zhì)的分散(dispersion)，這通過膜中的張力的面內(nèi)分散而形成，所述的張力起源于膜的低的彈性模量等并且發(fā)生在輸送步驟中。為了抑制表面過度粗糙以防止霧度(haze)增加并且保持透明性，優(yōu)選的是將消光劑的平均粒度和含量控制在下面將描述的范圍。在本發(fā)明中描述的消光劑的平均粒度是指在膜中或膜上存在的消光劑的平均大小，并且可以從100個(gè)粒子的粒度的平均值確定，所述粒度由膜的表面和截面的SEM照片和TEM照片獲得，而不管消光劑是聚集體還是非聚集體。用于本發(fā)明的消光劑優(yōu)選是平均粒度為0.Ιμπι至3.0μπι，更優(yōu)選為0.15μm至2.0μm并且最優(yōu)選為0.2μm至1.0μm的無機(jī)化合物粒子或聚合物微粒。本發(fā)明中描述的消光劑的平均粒度是指當(dāng)消光劑是聚集微粒時(shí)聚集體的平均粒度(平均二次粒子粒度)。當(dāng)消光劑使用溶液流延膜形成法制備時(shí)，平均粒度可以作為分散液中的粒度而使用將在下面描述的分散法控制。當(dāng)消光劑是非聚集微粒時(shí)，平均粒度是指為每一個(gè)粒子測量出的尺寸的平均值。當(dāng)消光劑是聚集的微粒時(shí)，用于本發(fā)明中的消光劑優(yōu)選是平均一次粒子粒度為0.05μm至0.5μm、更優(yōu)選為0.08μm至0.3μm并且最優(yōu)先為0.1μm至0.25μm的微粒。聚合物微?？梢酝ㄟ^選擇聚合物類型而提供所需的折射率。此外，聚合物微粒與環(huán)烯烴樹脂的相容性高，并且當(dāng)使用聚合物微粒形成膜時(shí)可以抑制霧度、折射和散射至低值。因此，當(dāng)聚合物微粒被用作消光劑時(shí)，可以通過選擇比采用無機(jī)微粒作為消光劑的情況下的粒度等級大的粒度等級來提高消光作用。此外，含量優(yōu)選為0.03至1.0質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.05至0.6質(zhì)量％并且最優(yōu)選為0.08至0.4質(zhì)量％，而與消光劑是否具有球形或未確定的形狀以及是否是例如無機(jī)微?；蚓酆衔餆o關(guān)。本發(fā)明中含有消光劑的環(huán)烯烴樹脂膜的霧度優(yōu)選在4.0%以下，更優(yōu)選在2.0%以下，并且最優(yōu)選在1.0%以下的范圍內(nèi)。霧度值通過使用霧度計(jì)(HGM-2DP，SugaTestInstruments)在25°C和60%RH的情況下，根據(jù)JIS(日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn))K-6714測量40mmX80nm的樣品而獲得。已經(jīng)添加消光劑到其中的環(huán)烯烴樹脂膜的靜態(tài)摩擦系數(shù)優(yōu)選為0.8以下，并且特別優(yōu)選為0.5以下。待使用的消光劑的組成沒有特別限制，并且這些消光劑還可以以它們中兩種以上的混合形式使用。在本發(fā)明中用于消光劑的無機(jī)化合物包括例如無機(jī)物質(zhì)的細(xì)粉末，所述無機(jī)物質(zhì)比如硫酸鋇、錳膠體、二氧化鈦、硫酸鋇鍶和二氧化硅，進(jìn)一步例如，作為通過濕法或硅酸的凝膠化獲得的合成二氧化硅的二氧化硅，以及由鈦料(titaniumslug)和硫酸制備的二氧化鈦(金紅石類型和銳鈦礦類型)。消光劑的無機(jī)化合物還可以通過將具有較大粒度比如20μm以上的無機(jī)物質(zhì)粉碎并且將所得粒子分級(振動(dòng)過濾、空氣分級等)而獲得。在本發(fā)明中用于消光劑的無機(jī)化合物包括其表面已經(jīng)用甲基或羥基改性的無機(jī)化合物。聚合物化合物(聚合物微粒)包括聚四氟乙烯、乙酸纖維素、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸丙酯、聚丙烯酸甲酯、聚碳酸亞乙酯、淀粉和它們的粉碎并且分級的物質(zhì)?？梢詡溥x地使用采用懸浮聚合法合成的聚合物化合物，或可以備選使用采用噴霧干燥法、分散法等形成球形的聚合物化合物或無機(jī)化合物。此外，聚合物化合物還可以是由下面描述的一種以上類型的單體化合物的聚合物制備并且已經(jīng)通過各種裝置形成粒子的聚合物化合物。用于所述聚合物化合物的單體化合物的具體實(shí)例包括丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、衣康酸二酯、巴豆酸酯、馬來酸二酯和鄰苯二甲酸二酯。酯殘基(esterresidue)包括如下基團(tuán)甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、己基、2-乙基己基、2-氯乙基、氰基乙基、2-乙酰氧基乙基、二甲基氨基乙基、芐基、環(huán)己基、糠基、苯基、2-羥基乙基、2-乙氧基乙基、縮水甘油基和ω-甲氧基聚乙二醇(加成數(shù)為9摩爾)。乙烯酯的實(shí)例包括乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、異丁酸乙烯酯、己酸乙酸酯、氯乙酸乙烯酯、甲氧基乙酸乙烯酯、苯基乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯和水楊酸乙烯酯。烯烴的實(shí)例包括二聚環(huán)戊二烯、乙烯、丙烯、1-丁烯、1-戊烯、氯乙烯、偏二氯乙烯、異戊二烯、氯丁二烯、丁二烯和2，3-二甲基丁二烯。苯乙烯類包括例如苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、異丙基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯乙烯、溴苯乙烯、三氟甲基苯乙烯和乙烯基苯甲酸甲酯。丙烯酰胺類包括丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙基丙烯酰胺、丙基丙烯酰胺、丁基丙烯酰胺、叔丁基丙烯酰胺、苯基丙烯酰胺和二甲基丙烯酰胺；甲基丙烯酰胺類包括例如甲基丙烯酰胺、甲基甲基丙烯酰胺、乙基甲基丙烯酰胺、丙基甲基丙烯酰胺和叔丁基甲基丙烯酰胺；烯丙基化合物包括例如乙酸烯丙酯、己酸烯丙酯、月桂酸烯丙酯和苯甲酸烯丙酯；乙烯醚類包括例如甲基乙烯基醚、丁基乙烯基醚、己基乙烯基醚、甲氧基乙基乙烯基醚和二甲基氨基乙基乙烯基醚；乙烯基酮類包括，例如，甲基乙烯基酮、苯基乙烯基酮和甲氧基乙基乙烯基酮；乙烯基雜環(huán)化合物包括例如乙烯基吡啶、N-乙烯基咪唑、N-乙烯基噁唑烷酮、N-乙烯基三唑和N-乙烯基吡咯烷酮；不飽和腈包括例如丙烯腈和甲基丙烯腈；以及多官能單體包括例如二乙烯基苯、亞甲基雙丙烯酰胺和乙二醇二甲基丙烯酸酯。單體化合物還包括丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、馬來酸和衣康酸單烷基酯(例如，衣康酸單乙基酯)；馬來酸單烷基酯(例如，馬來酸單甲酯)；苯乙烯磺酸、乙烯基芐基磺酸、乙烯基磺酸和丙烯酰氧基烷基磺酸(例如，丙烯酰氧基甲基磺酸)；甲基丙烯酰氧基烷基磺酸(例如，甲基丙烯酰氧基乙基磺酸)；丙烯酰胺烷基磺酸(例如，2-丙烯酰胺-2-甲基乙磺酸)；甲基丙烯酰胺烷基磺酸(例如，2-甲基丙烯酰胺-2-甲基乙磺酸)；以及磷酸丙烯酰氧基烷基酯(例如磷酸丙烯酰氧基乙酯)。這些酸可以是堿金屬(例如，(Na和K)或銨離子的鹽。此外，其它優(yōu)選可用的單體化合物包括描述于美國專利3459790、美國專利3438708、美國專利3554987、美國專利4215195、美國專利4247673、日本專利申請公開57-205735等的說明書中的可交聯(lián)單體。這樣的可交聯(lián)單體的具體實(shí)例包括N-(2-乙酰乙酰氧基乙基)丙烯酰胺和N-(2-(2-乙酰乙酰氧基乙氧基)乙基)丙烯酰胺。這些單體化合物可以以如下形式使用單獨(dú)聚合的聚合物的粒子形式，或與多種聚合物組合聚合的共聚物粒子的形式。在這些單體化合物中，優(yōu)選使用丙烯酸酯類、甲基丙烯酸酯類、乙烯基酯類、苯乙烯類和烯烴類。此外，可以將具有氟原子或硅原子的粒子用于本發(fā)明，其描述于日本專利申請公開62-14647、日本專利申請公開62-17744和日本專利申請公開62-17743。在它們中優(yōu)選使用的粒子的組成包括聚苯乙烯、聚(甲基)丙烯酸甲酯、聚丙烯酸乙酯、聚(甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸=95/5(摩爾比))、聚(苯乙烯/苯乙烯磺酸=95/5(摩爾比))、聚丙烯腈、聚(甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯/甲基丙烯酸=50/40/10)和二氧化硅?？捎糜诒景l(fā)明的消光劑還包括在日本專利申請公開64-77052和歐洲專利307855中描述的具有反應(yīng)性(特別是，明膠)基團(tuán)的粒子。而且，消光劑還可以包含大量的這種溶解進(jìn)入堿性液或酸液性中的基團(tuán)。下面描述本發(fā)明中的消光劑的具體實(shí)例，但并不是限于這些實(shí)例。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage14</formula>ΜΤ-6二氧化硅(球形)ΜΤ-7二氧化硅(不確定的形狀)接著，至于將消光劑結(jié)合到膜中的方法，該方法沒有特別限制，但是包括將含有聚合物和消光劑的溶液流延以形成膜的方法，以及將消光劑的分散液涂敷到形成的膜上的方法。在這些方法中，從成本考慮，優(yōu)選將含有聚合物和消光劑的溶液流延以形成膜的方法。在將含有聚合物和消光劑的溶液流延以形成膜的方法中，可以在制備聚合物溶液時(shí)將消光劑分散在聚合物中，或可以在聚合物溶液正要流延之前將消光劑的分散液添加到聚合物溶液中。當(dāng)消光劑被分散在聚合物溶液中時(shí)，可以向聚合物溶液中添加少量的表面活性劑或聚合物作為分散劑。備選地，作為另一種不同于上述方法的方法，可以在膜形成之后將消光劑的層涂敷到聚合物膜上。在這種情況下，當(dāng)形成消光劑的層時(shí)優(yōu)選使用粘合劑?？梢栽诒景l(fā)明中使用的包含消光劑的層的粘合劑沒有特別限制，并且可以是親油性粘合劑或親水性粘合劑。可使用的親油性粘合劑包括熟知的熱塑性樹脂、熱固性樹脂、輻射固化樹脂和反應(yīng)性樹脂，以及它們的混合物。上述樹脂的Tg優(yōu)選為80°C至400°C，并且更優(yōu)選為120°C至350°C。上述樹脂的平均分子量優(yōu)選為10，000至1，000,000并且更優(yōu)選為10，000至500，000。上述的熱塑性樹脂包括乙烯基共聚物，比如氯乙烯_乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯和乙酸乙烯酯與乙烯醇、馬來酸和/或丙烯酸的共聚物、氯乙烯-偏二氯乙烯共聚物、氯乙烯_丙烯腈共聚物和乙烯_乙酸乙烯酯共聚物；纖維素衍生物，比如硝化纖維素、乙酸丙酸纖維素和乙酸丁酸纖維素樹脂；橡膠基樹脂，比如環(huán)狀聚烯烴樹脂、丙烯酸類樹脂、聚乙烯醇縮乙醛樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚酯聚氨酯樹脂、聚醚聚氨酯、聚碳酸酯聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、聚醚樹脂、聚酰胺樹脂、氨基樹脂、苯乙烯丁二烯樹脂和丁二烯丙烯腈樹脂；硅基樹脂以及氟基樹脂。分散方法沒有特別限制，并且可以使用常規(guī)方法。例如，介質(zhì)分散器包括超微磨碎機(jī)、球磨機(jī)、砂磨機(jī)和精磨機(jī)(dynomill)。無介質(zhì)的分散器包括超聲波型、離心型和高壓型。優(yōu)選將上述的分散裝置用于分散消光劑，但是可以不使用。當(dāng)消光劑通過被涂敷到環(huán)烯烴樹脂膜上而結(jié)合到環(huán)烯烴樹脂膜中時(shí)，可以優(yōu)選使用常規(guī)的熟知涂敷法[例如，模頭涂布機(jī)(擠出涂布機(jī)和狹縫(slide)涂布機(jī))、輥涂布機(jī)(正向輥涂布機(jī)、反向輥涂布機(jī)和照相凹版式涂布機(jī))、棒涂布機(jī)、刮刀涂布機(jī)等]。為了在不使膜變形并且不劣化涂敷液體的這種溫度下將消光劑涂敷到作為涂敷用的載體的膜上，將涂敷液體優(yōu)選在10°C至100°C并且更優(yōu)選處于20°C至80°C的范圍涂敷。此外，盡管涂敷速度根據(jù)涂敷液體的粘度和涂敷溫度進(jìn)行適當(dāng)?shù)卣{(diào)節(jié)并且確定，但是涂敷速度優(yōu)選在IOm/min至100m/min的范圍內(nèi)，并且更優(yōu)選20m/min至80m/min。包含上述消光劑的涂敷層可以通過如下形成將具有溶解在合適有機(jī)溶劑中的消光劑的涂敷液涂敷到載體或在背層上形成有另外層的載體上，并且干燥涂敷液。消光劑還可以以分散物質(zhì)的形式添加到涂敷液中。優(yōu)選使用的溶劑包括水；醇(甲醇、乙醇、異丙醇等)；酮(丙酮、甲基乙基酮、環(huán)己酮等)；酯(乙酸、甲酸、草酸、馬來酸和琥珀酸與甲基、乙基、丙基和丁基的酯，等)；芳族烴(苯、甲苯、二甲苯等)；以及酰胺(二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等)。當(dāng)涂敷消光劑時(shí)，還可以使用具有成膜能力的粘合劑。被用于上述目的的這種聚合物包括熟知的熱塑性樹脂、熱固性樹脂、可輻射固化的樹脂和反應(yīng)性樹脂、它們的混合物，以及親水性粘合劑比如明膠。在上述用于流延包含聚合物和消光劑以形成膜的方法以及將消光劑的涂敷液涂敷到已形成的膜上的方法中，包含在待制備的環(huán)烯烴樹脂膜中的消光劑的微粒的平均粒度可以通過改變常規(guī)熟知的分散條件而控制，所述常規(guī)熟知的分散條件比如在聚集消光劑的情況下的消光劑微粒的平均一次斷章取義子粒度，被添加的消光劑的微粒的量、分散溶劑的種類、被添加的分散溶劑的量、分散方法、分散機(jī)的種類、分散機(jī)的大小、分散時(shí)間周期、分散機(jī)施加給分散液的單位時(shí)間的能量、混合方法、粘合劑種類、被添加的粘合劑的量、添加的順序以及被加入的分散液的量。即使當(dāng)使用非聚集消光劑時(shí)，也優(yōu)選通過控制分散條件以防止意外的聚集。(剝離促進(jìn)劑)表面活性劑中發(fā)現(xiàn)了很多具有降低環(huán)狀聚烯烴膜的耐剝離性的顯著效果的添加齊。優(yōu)選并且有效的剝離劑包括磷酸酯基表面活性劑、羧酸基或羧酸酯基表面活性劑、磺酸基或磺酸酯基表面活性劑以及硫酸酯基表面活性劑。此外，其中連接至上述表面活性劑的烴鏈的氫原子的一部分被氟原子取代的氟基表面活性劑也是有效的。下面顯示的是剝離劑。RZ-IC8Hl7O-P(=0)-(OH)2RZ-2C12H25O-P(=0)-(OK)2RZ-3C12H25OCH2CH2O-P(=0)-(OK)2RZ-4C15H31(OCH2CH2)50_P(=0)-(OK)2RZ-5IC12H25O(CH2CH2O)J2_P(=0)-OHRZ-6IC18H35(OCH2CH2)80}2_P(=0)-ONH4RZ-7(叔-C4H9)3-C6H2-0CH2CH20_P(=0)-(OK)2RZ-8(異-C9H19-C6H4-O-(CH2CH2O)5_P(=0)-(OK)(OH)RZ-9C12H25SO3NaRZ-IOC12H25OSO3NaRZ-IlC17H33COOHRZ-12C17H33COOH·N(CH2CH2OH)3RZ-13異-C8H17-C6H4-O-(CH2CH2O)3_(CH2)2S03NaRZ-14(異-C9H19)^C6H3-O-(CH2CH2O)3_(CH2)4S03NaRZ-15三異丙基萘磺酸鈉RZ-16三叔丁基萘磺酸鈉RZ-17C17H33CON(CH3)CH2CH2SO3NaRZ-18C12H25-C6H4SO3‘NH4被添加的剝離劑相對于環(huán)狀聚烯烴的量優(yōu)選在0.05至5質(zhì)量％的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在0.1至2質(zhì)量％的范圍內(nèi)，并且最優(yōu)選在0.1至0.5質(zhì)量％的范圍內(nèi)。(延遲出現(xiàn)劑)在本發(fā)明中，具有至少兩個(gè)芳族環(huán)的化合物可以被用于延遲出現(xiàn)劑，以使膜出現(xiàn)延遲值。當(dāng)使用延遲出現(xiàn)劑時(shí)，相對于100質(zhì)量份聚合物的含量優(yōu)選在0.05至20質(zhì)量份的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在0.1至10質(zhì)量份的范圍內(nèi)，還優(yōu)選在0.2至5質(zhì)量份的范圍內(nèi)，并且最優(yōu)選在0.5至2質(zhì)量份的范圍內(nèi)。可以伴隨使用兩種以上的延遲出現(xiàn)劑。延遲出現(xiàn)劑顯示優(yōu)選在250至400nm的波長區(qū)域中的最大吸附，并且優(yōu)選基本上不吸附可見區(qū)域的光。在本說明書中，“芳族環(huán)"除包括芳族烴環(huán)之外，還包括芳族雜環(huán)。芳族烴環(huán)特別優(yōu)選為6-元環(huán)(換言之，苯環(huán))。芳族雜環(huán)通常是不飽和雜環(huán)。芳族雜環(huán)優(yōu)選為5元環(huán)，6元環(huán)或7元環(huán)，并且更優(yōu)選為5元環(huán)或6元環(huán)。芳族雜環(huán)通常具有最大數(shù)量的雙鍵。雜原子優(yōu)選為氮原子、氧原子和硫原子，并且特別優(yōu)選為氮原子。芳族雜環(huán)的實(shí)例包括呋喃環(huán)、噻吩環(huán)、吡咯環(huán)、噁唑環(huán)、異噁唑環(huán)、噻唑環(huán)、異噻唑環(huán)、咪唑環(huán)、吡唑環(huán)、呋咱(furazan)環(huán)、三唑環(huán)、吡喃環(huán)、吡啶環(huán)、噠嗪環(huán)、嘧啶環(huán)、吡嗪環(huán)和1，3，5-三嗪環(huán)。優(yōu)選使用的芳族環(huán)包括苯環(huán)、呋喃環(huán)、噻吩環(huán)、吡咯環(huán)、噁唑環(huán)、噻唑環(huán)、咪唑環(huán)、三唑環(huán)、吡啶環(huán)、嘧啶環(huán)、吡嗪環(huán)和1，3，5-三嗪環(huán)，并且特別優(yōu)選的環(huán)是1，3，5-三嗪環(huán)。具體地，例如，優(yōu)選使用描述于日本專利申請公開2001-166144中的化合物。包含在延遲出現(xiàn)劑中的芳族環(huán)的數(shù)量優(yōu)選為2至20，更優(yōu)選為2至12，還優(yōu)選為2至8，并且最優(yōu)選為2至6。兩個(gè)芳族環(huán)之間的連接關(guān)系被分成三種情況，即，(a)兩種芳族環(huán)形成稠環(huán)；(b)兩個(gè)芳族環(huán)直接通過單鍵連接；以及(c)兩個(gè)芳族環(huán)經(jīng)由連接基團(tuán)連接(螺鍵不可能形成，因?yàn)榉甲瀛h(huán)被連接)。連接關(guān)系可能是(a)至(c)中的任何一種。稠環(huán)(a)(由兩個(gè)以上的芳族環(huán)形成的稠環(huán))的實(shí)例優(yōu)選包括茚環(huán)、萘環(huán)、甘菊環(huán)、芴環(huán)、菲環(huán)、蒽環(huán)、苊環(huán)、亞聯(lián)苯基環(huán)、并四苯環(huán)、芘環(huán)、吲哚環(huán)、異吲哚環(huán)、苯并呋喃環(huán)、苯并噻吩環(huán)、中氮茚環(huán)、苯并噁唑環(huán)、苯并噻唑環(huán)、苯并咪唑環(huán)、苯并三唑環(huán)、嘌呤環(huán)、吲唑環(huán)、色烯環(huán)、喹啉環(huán)、異喹啉環(huán)、奎諾酊環(huán)(quinolidinering)、喹唑啉環(huán)、噌啉環(huán)、喹喔啉環(huán)、酞嗪環(huán)、蝶啶環(huán)、咔唑環(huán)、吖啶環(huán)、菲啶環(huán)、咕噸環(huán)、吩嗪環(huán)、吩噻嗪環(huán)、吩氧硫雜環(huán)己烯環(huán)(phenoxathiinring)、酚噁嗪環(huán)和噻蒽環(huán)。優(yōu)選萘環(huán)、甘菊環(huán)、吲哚環(huán)、苯并噁唑環(huán)、苯并噻唑環(huán)、苯并咪唑環(huán)、苯并三唑和喹啉環(huán)。在(b)中的單鍵優(yōu)選是在兩個(gè)芳族環(huán)中的相應(yīng)碳原子之間的鍵。在兩個(gè)芳族環(huán)之間，可以通過用兩個(gè)以上的單鍵連接兩個(gè)芳族環(huán)而形成脂族環(huán)或非-芳族雜環(huán)。在(c)中的連接基團(tuán)優(yōu)選被連接至兩個(gè)芳族環(huán)的相應(yīng)碳原子上。連接基團(tuán)優(yōu)選包括亞烷基、亞烯基、亞炔基、-C0-、-0-、-NH-、-S-、以及它們的組合。下面描述組合形成的連接基團(tuán)的實(shí)例。在連接基團(tuán)的下列實(shí)例中的左邊和右邊的關(guān)系可以顛倒(reversed)。cl-C0-0-c2-CO-NH-03:-亞烷基_0-c4-NH-CO-NH-c5-NH-CO-O-c6-0-C0-0-07:-0-亞烷基-0_。8:-0)-亞烯基-c9-CO-亞烯基-NH-clO-CO-亞烯基-0-cll:-亞烷基-C0-0-亞烷基-0-C0-亞烷基-c12-0-亞烷基-C0-0-亞烷基-0-C0-亞烷基_0_c13-0-C0-亞烷基-C0-0-c14-NH-CO-亞烯基-c15-0-C0-亞烯基_芳族環(huán)和連接基團(tuán)都可以具有取代基。取代基的實(shí)例包括鹵素原子(F、Cl、Br和I)、羥基、羧基、氰基、氨基、硝基、磺基、氨基甲?；?、氨磺酰基、脲基、烷基、烯基、炔基、脂族?；⒅艴Ｑ趸?、烷氧基、烷氧羰基、烷氧羰基氨基、烷硫基、烷基磺?；⒅艴０坊?、脂族磺酰胺基、脂族取代的氨基、脂族取代的氨基甲酰基、脂族取代的氨磺?；⒅迦〈碾寤头欠甲咫s環(huán)基。烷基的碳原子的數(shù)量(碳數(shù))優(yōu)選為1至8。鏈烷基相對于環(huán)狀烷基是優(yōu)選的，并且特別優(yōu)選的烷基是直鏈烷基。該烷基可以進(jìn)一步具有取代基(例如，羥基、羧基、烷氧基和烷基取代的氨基)。烷基的實(shí)例(包括取代的烷基)包括甲基、乙基、正丁基、正己基、2-羥基乙基、4-羧基丁基、2-甲氧基乙基和2-二乙基氨基乙基。烯基的碳原子數(shù)量優(yōu)選為2至8。鏈烯基相對于環(huán)狀烯基是優(yōu)選的，并且特別優(yōu)選的烯基是直鏈烯基。烯基可以進(jìn)一步具有取代基。烯基的實(shí)例包括乙烯基、烯丙基和ι-己烯基。炔基的碳原子的數(shù)量優(yōu)選為2至8。鏈炔基相對于環(huán)狀炔基是優(yōu)選的，并且特別優(yōu)選的炔基是直鏈炔基。炔基可以進(jìn)一步具有取代基。炔基的實(shí)例包括乙炔基、ι-丁炔基和1-己炔基。脂族?；奶荚拥臄?shù)量優(yōu)選為1至10。脂族?；膶?shí)例包括乙?；?、丙?；投□；Ｖ艴Ｑ趸奶荚拥臄?shù)量優(yōu)選為1至10。脂族酰氧基的實(shí)例包括乙酰氧基。烷氧基的碳原子的數(shù)量優(yōu)選為1至8。烷氧基可以進(jìn)一步具有取代基(例如，烷氧基)。烷氧基的實(shí)例(包括取代的烷氧基)包括甲氧基、乙氧基、丁氧基和甲氧基乙氧基。烷氧羰基的碳原子數(shù)量優(yōu)選為2至10。烷氧羰基的實(shí)例包括甲氧羰基和乙氧羰基。烷氧羰基氨基的碳原子數(shù)量優(yōu)選為2至10。烷氧羰基氨基的實(shí)例包括甲氧羰基氨基和乙氧羰基氨基。烷硫基的碳原子的數(shù)量優(yōu)選為1至12。烷硫基的實(shí)例包括甲硫基、乙硫基和辛硫基。烷基磺?；奶荚訑?shù)量優(yōu)選為1至8。烷基磺?；膶?shí)例包括甲磺酰基和乙磺?；Ｖ艴０坊奶荚拥臄?shù)量優(yōu)選為1至10。脂族酰胺基的實(shí)例包括乙酰胺。脂族磺酰胺基的碳原子的數(shù)量優(yōu)選為1至8。脂族磺酰胺基的實(shí)例包括甲磺酰胺、丁磺酰胺和正辛磺酰胺。脂族取代的氨基的碳原子的數(shù)量優(yōu)選為1至10。脂族取代的氨基的實(shí)例包括二甲基氨基、二乙基氨基和2-羧基乙基氨基。脂族取代氨基甲?；奶荚訑?shù)量優(yōu)選為2至10。脂族取代的氨基甲?；膶?shí)例包括甲基氨基甲?；投一被柞；?。脂族取代的氨磺?；奶荚拥臄?shù)量優(yōu)選為1至8。脂族取代的氨磺?；膶?shí)例包括甲基氨磺?；投一被酋；?。脂族取代脲基的碳原子的數(shù)量優(yōu)選為2至10。脂族取代的脲基的實(shí)例包括甲基脲基。非-芳族雜環(huán)基團(tuán)的實(shí)例包括哌啶子基和嗎啉代。延遲出現(xiàn)劑的分子量優(yōu)選為300至800。在本發(fā)明中，可以優(yōu)選使用具有直鏈分子結(jié)構(gòu)的棒狀化合物，該棒狀化合物不同于使用1，3，5-三嗪環(huán)的化合物。直鏈分子結(jié)構(gòu)是指棒狀化合物的分子結(jié)構(gòu)在熱力學(xué)最穩(wěn)定結(jié)構(gòu)中是線性的。熱力學(xué)最穩(wěn)定結(jié)構(gòu)可以通過分析晶體結(jié)構(gòu)或計(jì)算分子軌道而獲得。例如，通過使用分子軌道計(jì)算軟件(例如，WinM0PAC2000,FUJITSULIMITED制備的產(chǎn)品)計(jì)算分子軌道，可以獲得化合物的生成熱最小的這種分子結(jié)構(gòu)。線性分子結(jié)構(gòu)是指在分子結(jié)構(gòu)中由主鏈形成的角在熱力學(xué)最穩(wěn)定結(jié)構(gòu)中為140°以上，這是通過上述的計(jì)算獲得的。具有至少兩個(gè)芳族環(huán)的棒狀化合物優(yōu)選包括由下面的通式(VI)表示的化合物。通式(VI):Arl-Ll-Ar2在上述通式(VI)中，Arl和Ar2各自獨(dú)立地表示芳族基。在本說明書中，芳族基包括芳基(芳族烴基)、取代的芳基、芳族雜環(huán)基和取代的芳族雜環(huán)基。芳基和取代的芳基相對于芳族雜環(huán)基和取代的芳族雜環(huán)基是優(yōu)選的。在芳族雜環(huán)基中的雜環(huán)通常是不飽和的。芳族雜環(huán)優(yōu)選是5-元環(huán)、6-元環(huán)或7-元環(huán)，并且優(yōu)選是5-元環(huán)或6-元環(huán)。芳族雜環(huán)通常具有最大數(shù)量的雙鍵。雜原子優(yōu)選是氮原子、氧原子或硫原子，并且進(jìn)一步優(yōu)選是氮原子或硫原子。芳族基的優(yōu)選芳族環(huán)包括苯環(huán)、呋喃環(huán)、噻吩環(huán)、吡咯環(huán)、噁唑環(huán)、噻唑環(huán)、咪唑環(huán)、三唑環(huán)、吡啶環(huán)、嘧啶環(huán)和吡嗪環(huán)，并且苯環(huán)是特別優(yōu)選的。在通式(VI)中，Ll表示選自亞烷基、亞烯基、亞炔基、-0-、-CO-以及它們的組合中的二價(jià)連接基團(tuán)。亞烷基可以具有環(huán)狀結(jié)構(gòu)。環(huán)狀亞烷基優(yōu)選為亞環(huán)己基，并且特別優(yōu)選是1，4_亞環(huán)己基。作為鏈亞烷基，直鏈亞烷基相對于具有支鏈的亞烷基是優(yōu)選的。亞烷基的碳原子數(shù)量優(yōu)選為1至20，更優(yōu)選為1至15，還優(yōu)選為1至10，還優(yōu)選為1至8，并且最優(yōu)選為1至6。亞烯基和亞炔基具有相對于環(huán)狀結(jié)構(gòu)為優(yōu)選的鏈結(jié)構(gòu)，并且具有比含有支鏈的鏈結(jié)構(gòu)進(jìn)一步更優(yōu)選的直鏈結(jié)構(gòu)。亞烯基和亞炔基的碳原子數(shù)量優(yōu)選為2至10，更優(yōu)選為2至8，還優(yōu)選為2至6，再更優(yōu)選為2至4，并且最優(yōu)選為2(亞乙烯基或亞乙炔基)。亞芳基具有優(yōu)選為6至20、更優(yōu)選為6至16并且最優(yōu)選為6至12的碳原子數(shù)量。在由通式(VI)表示的分子結(jié)構(gòu)中，由將Ll夾在中間的Arl和Ar2形成的角度優(yōu)選為140°以上。棒狀化合物還優(yōu)選是由下面的通式(VII)表示的化合物。通式(VII):Arl-L2-X-L3-Ar2在上述通式(VII)中，Arl和Ar2各自獨(dú)立地表示芳族基。芳族基的定義和實(shí)例與通式(VI)中Arl和Ar2的定義和實(shí)例相同。在通式(VII)中，L2和L3各自獨(dú)立地表示選自亞烷基、_0_、-CO-和它們的組合的二價(jià)連接基團(tuán)。亞烷基具有比環(huán)狀結(jié)構(gòu)更優(yōu)選的鏈結(jié)構(gòu)，并且具有比含有支鏈的鏈結(jié)構(gòu)還更優(yōu)選的直鏈結(jié)構(gòu)。亞烷基的碳原子數(shù)量優(yōu)選為1至10，更優(yōu)選為1至8，還優(yōu)選為1至6，還更優(yōu)選為1至4，并且最優(yōu)選為1或2(亞甲基或亞乙基)。L2和L3特別優(yōu)選-0-C0-或-C0-0-。在通式(VII)中，X表示1，4_亞環(huán)己基、亞乙烯基或亞乙炔基。在溶液的紫外線吸收光譜中最大吸收波長Umax)為250nm或更短的兩種以上的棒狀化合物可以伴隨使用。被添加的延遲出現(xiàn)劑的量優(yōu)選為環(huán)狀聚烯烴樹脂的量的0.1至30質(zhì)量％，并且更優(yōu)選為其的0.5至20質(zhì)量％?！赌ば纬伞?1)?；鲜龅臒崴苄詷渲吞砑觿﹥?yōu)選被混合并且粒化，之后通過熔融形成膜。在?；?，優(yōu)選將熱塑性樹脂和添加劑干燥，但是當(dāng)使用排氣型擠出機(jī)時(shí)，排氣型擠出機(jī)還可以代替干燥步驟同時(shí)將它們干燥。當(dāng)熱塑性樹脂和添加劑使用上述干燥方法干燥時(shí)，可以采用在90°C的加熱爐中將它們加熱8小時(shí)以上的方法，但所述方法并不限于這種?？梢匀缦轮苽涑隽Ａ蠈崴苄詷渲吞砑觿┰?50°C至280°C熔融，然后使用雙螺桿擠出機(jī)將熔體擠出形成面條形式，將擠出物在水中凝固，并且切割該固體。備選地，還可以通過水下切割法制備粒料，即，將熱塑性樹脂和添加劑在擠出機(jī)中熔融，然后將熔體擠出穿過口環(huán)進(jìn)入到水中，并且同時(shí)直接將擠出物切割?？梢允褂玫臄D出機(jī)包括任意的熟知的單軸螺桿擠出機(jī)，非嚙合式不同方向旋轉(zhuǎn)雙螺桿擠出機(jī)，嚙合式不同方向旋轉(zhuǎn)雙螺桿擠出機(jī)和嚙合式同方向旋轉(zhuǎn)雙螺桿擠出機(jī)，只要所述擠出機(jī)可以將混合物熔融并且捏合即可。粒料優(yōu)選具有橫截面積為Imm2至300mm2并且長度為Imm至30mm的尺寸，更優(yōu)選具有橫截面積為2mm2至IOOmm2并且長度為1.5mm至IOmm的尺寸。制備粒料時(shí)，可以將上述添加劑從原料添加口或設(shè)置在擠出機(jī)中部的排氣口加入到擠出機(jī)中。擠出機(jī)的轉(zhuǎn)數(shù)優(yōu)選為IOrpm至l，000rpm，更優(yōu)選為20rpm至700rpm并且還優(yōu)選為30rpm至500rpm。當(dāng)旋轉(zhuǎn)速度小于該值時(shí)，停留時(shí)間周期變得更長，分子量由于熱降解而降低，并且趨向于增加黃色色調(diào)，這些是不優(yōu)選的。此外，當(dāng)轉(zhuǎn)速過大時(shí)，趨向于發(fā)生分子容易被剪切而切割從而降低分子量以及更多地產(chǎn)生交聯(lián)凝膠的這些問題。在?；僮髦械臄D出停留時(shí)間優(yōu)選為10秒以上且30分鐘以下，更優(yōu)選為15秒至10分鐘并且還優(yōu)選為30秒至3分鐘。只要熱塑性樹脂和添加劑可以充分熔融，從防止樹脂降解和發(fā)黃出現(xiàn)考慮，停留時(shí)間就優(yōu)選短些。(2)干燥在通過熔融形成膜之前優(yōu)選降低粒料中的水分。至于干燥方法，粒料通常使用除濕干燥器進(jìn)行干燥，但是所述方法并沒有特別限制，只要可以獲得目標(biāo)水分含量即可。(優(yōu)選的是，通過單獨(dú)或組合使用加熱、鼓風(fēng)、減壓和攪拌裝置等而有效率地干燥粒料，還優(yōu)選的是，制造具有絕熱結(jié)構(gòu)的干燥加料斗)。干燥溫度優(yōu)選為0至200°C，更優(yōu)選為40至180°C，并且特別優(yōu)選為60至150°C。當(dāng)干燥溫度過低時(shí)，它不僅耗費(fèi)時(shí)間來干燥粒料，而且含水量達(dá)不到目標(biāo)值或更低，這是不優(yōu)選的。另一方面，當(dāng)干燥溫度過高時(shí)，樹脂變?yōu)檎承圆⑶乙鸾Y(jié)塊(blocking)，這些是不優(yōu)選的。干燥空氣的量優(yōu)選為20至400m3/小時(shí)(time)，還優(yōu)選為50至300m3/小時(shí)，并且特別優(yōu)選為100至250m3/小時(shí)。當(dāng)干燥空氣量較小時(shí)，干燥效率差，這是不優(yōu)選的。另一方面，只要空氣量為某一量以上時(shí)，即使空氣量大，干燥效率提高也小，這是不經(jīng)濟(jì)的?？諝獾穆饵c(diǎn)優(yōu)選為0至_60°C，還優(yōu)選為-10至-50°C，并且特別優(yōu)選為-20至-40°C。所需要的干燥時(shí)間周期為至少15分鐘以上，還優(yōu)選為1小時(shí)以上，并且特別優(yōu)選為2小時(shí)以上。另一方面，即使當(dāng)時(shí)間的干燥周期超過50小時(shí)時(shí)，降低含水量的效果也是不充分的。因此，不必要地延長干燥的時(shí)間周期是不優(yōu)選的，因?yàn)榭赡芤饦渲瑹峤到?。根?jù)本發(fā)明的熱塑性樹脂的含水量的量優(yōu)選在1.0質(zhì)量％以下，還優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以下并且特別優(yōu)選為0.01質(zhì)量％以下。(3)熔體擠出上述環(huán)烯烴樹脂經(jīng)由擠出機(jī)的供給口被供給到機(jī)筒的內(nèi)部。機(jī)筒的內(nèi)部從供給口側(cè)起順序包括供給部(A所示的區(qū)域)，用于定量輸送從供給口供給的熱塑性樹脂；壓縮部(由B所示的區(qū)域)，用于熔融、捏合和壓縮熱塑性樹脂；和計(jì)量部(由C所示的區(qū)域)，用于稱量經(jīng)熔融、捏合和壓縮的熱塑性樹脂。樹脂優(yōu)選使用上述方法進(jìn)行干燥，以降低含水量。然而，為了防止熔融樹脂被殘留氧氧化，更優(yōu)選的是，通過使用惰性氣體(氮?dú)饣蝾愃茪怏w)的流穿過內(nèi)部的擠出機(jī)或設(shè)置有進(jìn)行抽空的排氣口的擠出機(jī)將所述樹脂擠出。擠出機(jī)的螺桿壓縮比被設(shè)定為2.5至4.5，并且L/D被設(shè)定為20至70。在此，螺桿壓縮比表示為供給部A與計(jì)量部C的容積比，換言之，表示為單位長度的供給部A的容積除以單位長度的計(jì)量部C的容積，并且采用供給部A的螺桿軸的外徑dl、計(jì)量部C的螺桿軸的外徑d2、供給部A的凹槽部的直徑al和計(jì)量部C的凹槽部的直徑a2進(jìn)行計(jì)算。此外，L/D是機(jī)筒的長度與機(jī)筒的內(nèi)徑的比率。此外，擠出溫度被設(shè)定在200至300°C。在擠出機(jī)中的溫度可以在所有位置上均相同，或具有溫度分布。在供給部的溫度更優(yōu)選被設(shè)定為比壓縮比的溫度更高的溫度。當(dāng)螺桿壓縮比低于2.5并且過小時(shí)，樹脂得不到充分的熔融和捏合，從而產(chǎn)生不溶的部分，該不溶的雜質(zhì)趨向于易殘留在所制備的熱塑性膜中，此外，趨向于容易混合氣泡。因而，熱塑性膜的強(qiáng)度降低，或膜在拉伸時(shí)趨向于易斷裂，并且不能充分地提高取向。相反，當(dāng)螺桿壓縮比超過4.5并且過大時(shí)，對樹脂施加了過量的剪切應(yīng)力，樹脂由于熱產(chǎn)生而趨向于容易降解，并且所產(chǎn)生的熱塑性膜趨向于易顯示黃色色調(diào)。此外，當(dāng)對樹脂施加過度的剪切應(yīng)力時(shí)，分子被切割，分子量降低，并且膜的機(jī)械強(qiáng)度降低。因此，為了使熱塑性膜顯示非常低的黃色色調(diào)、具有強(qiáng)的膜強(qiáng)度并且還更難于由于拉伸而斷裂，螺桿壓縮比優(yōu)選在2.5至4.5的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在2.8至4.2的范圍內(nèi)，并且特別優(yōu)選在3.0至4.0的范圍內(nèi)。當(dāng)L/D低于20并且過小時(shí)，樹脂得不到充分的熔融和捏合，并且趨向于容易在所制備的熱塑性膜中產(chǎn)生不溶的雜質(zhì)，這類似于壓縮比小的情況。相反，當(dāng)L/D超過70并且過大時(shí)，熱塑性樹脂在擠出機(jī)中的停留時(shí)間周期變得過長，這趨向于容易引起膜的降低。此夕卜，當(dāng)停留時(shí)間變長時(shí)，分子被切割，或分子量降低，從而降低熱塑性膜的機(jī)械強(qiáng)度。因此，為了使所制備出的熱塑性膜顯示非常低的黃色色調(diào)、具有強(qiáng)的膜強(qiáng)度，并且更難于由于拉伸而斷裂，L/D優(yōu)選在20至70的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在22至65的范圍內(nèi)，并且特別優(yōu)選在24至50的范圍內(nèi)。由此獲得的環(huán)烯烴膜具有霧度為2.0%以下且黃度指數(shù)(YI值)為10以下這樣的性質(zhì)值。至于擠出機(jī)的類型，通常使用單軸擠出機(jī)，單軸擠出機(jī)的設(shè)備成本較低廉。在單軸擠出機(jī)中螺桿的類型有全螺紋(fullflight)、Maddock、Dulmadge等，但是全螺紋類型被優(yōu)選用于環(huán)烯烴樹脂。還能夠使用雙螺桿擠出機(jī)，所述雙螺桿擠出機(jī)通過改變螺桿段(screwsegment)而在中部設(shè)置有排氣口，但是設(shè)備成本昂貴，并且該螺桿擠出機(jī)可以在擠出熔體的同時(shí)釋放不必要的揮發(fā)組分。這種雙螺桿擠出機(jī)大致被分為同方向類型和不同方向類型，這兩種類型均可使用，但是優(yōu)選使用同方向旋轉(zhuǎn)類型的擠出機(jī)，同方向旋轉(zhuǎn)類型的擠出機(jī)幾乎不引起殘留部分并且顯示高的自清潔性能。通過適當(dāng)?shù)卦O(shè)置排氣口，可以直接使用未干燥狀態(tài)的環(huán)烯烴粒料或粉末。在膜形成的同時(shí)產(chǎn)生的膜的毛邊等可以在不進(jìn)行干燥的情況下直接再使用。螺桿的優(yōu)選直徑根據(jù)每目標(biāo)單位時(shí)間擠出的樹脂的量而變化，但是優(yōu)選為IOmm至300mm，更優(yōu)選為20mm至250mm，并且還優(yōu)選為30mm至150mm。(4)過濾為了過濾在樹脂中的雜質(zhì)并且防止齒輪泵由于雜質(zhì)而損壞，優(yōu)選的是通過所謂的多孔板式過濾機(jī)(breakerplatetype)過濾熔體，所述多孔板式過濾機(jī)在擠出機(jī)的出口提供過濾介質(zhì)。此時(shí)，過濾可以通過調(diào)節(jié)在過濾介質(zhì)中的孔直徑以及熔融樹脂的流量而實(shí)現(xiàn)，這如上面所述。為了進(jìn)一步精確地過濾雜質(zhì)，在熔體已經(jīng)通過齒輪泵之后的位置上，優(yōu)選設(shè)置在其內(nèi)結(jié)合了所謂的葉片型圓盤過濾器。雜質(zhì)可以通過設(shè)置在擠出機(jī)中的一個(gè)過濾部而被過濾，或可以通過多級設(shè)置的多個(gè)過濾部而被過濾。過濾介質(zhì)的過濾精確度優(yōu)選高，但是從忍受過濾介質(zhì)的壓力以及由于在過濾介質(zhì)中的堵塞引起的過濾壓力的增高考慮，優(yōu)選為15μmm至3μmm，并且還優(yōu)選為10μmm至3μmm。特別地當(dāng)在最后階段使用葉片型圓盤過濾器過濾雜質(zhì)時(shí)，從質(zhì)量考慮，優(yōu)選使用具有高過濾精度的過濾介質(zhì)。為了確保忍受壓力和過濾器壽命的適合性，可以通過調(diào)節(jié)被負(fù)載的過濾介質(zhì)的數(shù)量來調(diào)節(jié)過濾精度。至于過濾介質(zhì)的類型，從過濾介質(zhì)在高溫和高壓下使用考慮，優(yōu)選使用鋼材，還優(yōu)選使用所述鋼材中的不銹鋼、鋼等，并且從腐蝕考慮，特別優(yōu)選使用不銹鋼。至于過濾介質(zhì)的構(gòu)成，例如，可以使用通過燒結(jié)金屬或金屬粉末的長纖維所形成的燒結(jié)過濾介質(zhì)，這種過濾介質(zhì)不同于通過將金屬絲棒編織而形成的過濾介質(zhì)，并且從過濾精度和過濾器壽命考慮，優(yōu)選燒結(jié)過濾介質(zhì)。(5)齒輪泵為了提高厚度精度，重要的是降低加入的樹脂的量的波動(dòng)，并且有效的是，在擠出機(jī)和模頭(dice)之間設(shè)置齒輪泵，并且由齒輪泵供給固定量的?；w維素樹脂。齒輪泵是這樣的裝置，即它在其內(nèi)容納由驅(qū)動(dòng)齒輪和從動(dòng)齒輪形成的一對齒輪，該對齒輪處于齒輪彼此嚙合的狀態(tài)，通過驅(qū)動(dòng)該驅(qū)動(dòng)齒輪并且使兩個(gè)齒輪彼此嚙合的同時(shí)使這兩個(gè)齒輪旋轉(zhuǎn)，從而將熔融態(tài)的樹脂通過在外殼上形成的抽吸開口抽吸到腔室的內(nèi)部，并且將固定量的樹脂從在外殼上類似形成的排放開口排出。即使當(dāng)在擠出機(jī)的末端部的樹脂壓力稍微變化，齒輪泵也吸收了排放量的波動(dòng)，從而提供在成膜裝置的下游側(cè)中的非常小的樹脂壓力波動(dòng)，并且改善了厚度的波動(dòng)。通過使用齒輪泵，在模頭部的樹脂壓力的波動(dòng)幅度可以被設(shè)定在士以下。為了通過齒輪泵提高定量供給性能，還能夠使用這樣的方法，即將在齒輪泵之前的位置的壓力通過改變螺桿的轉(zhuǎn)數(shù)而控制為恒定值。使用高精度齒輪泵也是有效的，這種高精度齒輪使用三個(gè)以上的齒輪片并且已經(jīng)解決了齒輪泵的齒輪的波動(dòng)。至于使用齒輪泵的其它益處，它可以被預(yù)期降低能耗，防止樹脂的溫度升高，提高輸送效率，縮短樹脂在擠出機(jī)中的停留時(shí)間周期(保留周期)，并且縮短擠出機(jī)的L/D，因?yàn)槟た梢员唤档偷穆輻U末端部的壓力下形成。此外，當(dāng)過濾器用于除去雜質(zhì)時(shí)，如果不使用齒輪泵，則從螺桿供給的樹脂量有時(shí)可能隨著過濾壓力提高而改變，但是該問題可以通過將齒輪泵與過濾器組合使用而得以解決。另一方面，使用齒輪泵具有下列缺點(diǎn)。取決于設(shè)施的選擇方法，設(shè)施的長度變長，因此樹脂的停留時(shí)間周期更長。并且，能夠由齒輪泵部中的剪切應(yīng)力引起使分子鏈切割。因此必須小心。樹脂在擠出機(jī)中的從樹脂通過供給口進(jìn)入到擠出機(jī)內(nèi)的時(shí)刻一直到樹脂從模頭(dice)擠出的時(shí)刻的停留時(shí)間優(yōu)選為2分鐘至60分鐘，更優(yōu)選為3分鐘至40分鐘，并且還優(yōu)選為4分鐘至30分鐘。需要設(shè)計(jì)齒輪泵(特別是間隙)，以匹配熱塑性樹脂的熔體粘度，因?yàn)槿绻邶X輪泵的軸承中的循環(huán)聚合物的流動(dòng)劣化，則發(fā)生由于在驅(qū)動(dòng)部和軸承部中的聚合物引起的密封性能也變差的問題，以及在測量結(jié)果之間以及用于供給和擠出流體的壓力之間的波動(dòng)增加的問題。此外，齒輪泵優(yōu)選具有流體在其中停留盡可能短的結(jié)構(gòu)，因?yàn)辇X輪泵的停留部(保留部)有時(shí)引起熱塑性樹脂的降解。連接擠出機(jī)和齒輪泵或齒輪泵與模頭等的聚合物管和接頭(adapter)也需要進(jìn)行設(shè)計(jì)，以使流體停留盡可能短，并且優(yōu)選使得溫度的波動(dòng)盡可能小，以穩(wěn)定用于擠出具有高度溫度依賴性的熔體粘度的熱塑性樹脂的壓力。為了加熱聚合物管的目的，通常，經(jīng)常使用設(shè)備成本低廉的帶式加熱器，但是更優(yōu)選使用具有較小溫度波動(dòng)的鋁鑄加熱器。而且，如上所述，優(yōu)選的是使用加熱器加熱擠出機(jī)的料筒，所述料筒已經(jīng)被分成3至20個(gè)單元并且熔融樹脂。(6)模頭熱塑性樹脂在如上所述結(jié)構(gòu)的擠出機(jī)中熔融，并且必要時(shí)，熔融的樹脂經(jīng)過過濾機(jī)和齒輪泵，被連續(xù)送往模頭。模頭可以是通常使用T模頭，魚尾模頭和衣架模頭中的任一類型，只要它被設(shè)計(jì)使得熔融樹脂在模頭中停留短的時(shí)間。剛好在T模頭之前安裝用于提高樹脂溫度的均勻性的靜態(tài)混合器不存在問題。T模頭出口部的間隙通常優(yōu)選為膜厚度的1.0至5.0倍，更優(yōu)選為1.2至3倍，并且還優(yōu)選為1.3至2倍。當(dāng)模唇間隙低于膜厚度的1.0倍，則難以通過膜形成得到具有良好表面狀態(tài)的片材。此外，當(dāng)模唇間隙大至超過膜厚度的5.0倍時(shí)，片材的厚度精度降低，這是不優(yōu)選的。模頭是決定膜的厚度精度非常重要的設(shè)備，因此，優(yōu)選使用能夠嚴(yán)格控制膜厚度調(diào)節(jié)的這種模頭。厚度可以在40至50mm的間隔調(diào)節(jié)，但是模頭是能夠優(yōu)選在35mm以下間隔、還更優(yōu)選在25mm以下間隔調(diào)節(jié)膜厚度的類型。此外，重要的是，設(shè)計(jì)模頭，使得在寬度方向上的溫度分布和流量分布盡可能小，以提高所形成膜的均勻性。測量下游膜厚度，計(jì)算厚度變差，并且將結(jié)果反饋給厚度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的自動(dòng)厚度調(diào)節(jié)模頭在長期連續(xù)生產(chǎn)中降低厚度波動(dòng)上也是有效的。膜通常使用設(shè)備成本低廉的單層膜形成裝置制備，但是在一些情況下，具有兩層以上結(jié)構(gòu)的膜還可以通過使用多層膜形成裝置提供作為外層的功能層來制備。通常地，優(yōu)選的是，將薄的功能層層壓在表面層上，但是層厚度的比率沒有特別限制。(7)流延通過在上述條件下，將熔融樹脂從模頭擠出到流延鼓上以形成片材形式，并且通過在流延鼓上冷卻并且固化擠出的熔體，從而獲得膜。當(dāng)熔融樹脂與流延鼓接觸之前通過遠(yuǎn)紅外加熱器加熱熔體擠出的膜時(shí)，在鼓上出現(xiàn)拉平效應(yīng)，并且表面變得接近均勻，這可以降低所得膜的膜厚度分布以及模頭條紋。在本發(fā)明中，在流延鼓和熔體擠出片材之間的粘合性優(yōu)選通過在流延鼓上使用靜電涂敷法、氣刀法、通風(fēng)室法、真空噴嘴法、接觸輥法等進(jìn)行改善，但是它們之中，優(yōu)選使用上述的接觸輥法。接觸輥法是將接觸輥放置在流延鼓上以成形膜表面的方法。此時(shí)，接觸輥優(yōu)選不具有通常水平的高剛性，但是優(yōu)選具有彈性。然而，由可以彈性變形并且覆蓋有極薄金屬的構(gòu)件(橡膠等)形成的接觸輥不可能出現(xiàn)高的平面壓力(因?yàn)榻佑|輥的變形量大，與流延輥的接觸面積變得過大，并且接觸輥不可能出現(xiàn)足夠的平面壓力)，這是不優(yōu)選的。在本發(fā)明中接觸輥的壁厚優(yōu)選為0.5mm以上和7mm以下，更優(yōu)選為1.1至6mm，并且還優(yōu)選為1.5至5mm。接觸輥和流延輥優(yōu)選具有鏡面的表面，該表面的算術(shù)平均高度Ra為IOOnm以下，優(yōu)選為50nm以下，并且還優(yōu)選為25nm以下。接觸輥的平面壓力優(yōu)選為0.IMPa以上且IOMPa以下，更優(yōu)選為0.2MPa以上且7MPa以下，并且還優(yōu)選為0.3MPa以上且5MPa以下。此處描述的平面壓力是通過將按壓接觸輥的力除以熱塑性膜和接觸輥的接觸面積而獲得的值。接觸輥可以是設(shè)置在金屬軸上并且在它們之間通過加熱介質(zhì)(流體)的輥，或包括這樣的輥在外部機(jī)筒和金屬軸之間設(shè)置有彈性體，并且在外部機(jī)筒和彈性體層之間的空間填充有加熱介質(zhì)(流體)。任一個(gè)接觸輥的溫度優(yōu)選高于Tg-10°C并且為Tg+30°C以下，更優(yōu)選為Tg-7°C以上并且Tg+20°C以下，并且還優(yōu)選為Tg-5°C以上并且Tg+10°C以下。流延輥的溫度優(yōu)選在與上述范圍相同的溫度范圍內(nèi)?？捎玫慕佑|輥具體包括例如在日本專利申請公開11-314263和日本專利申請公開11-235747中描述的接觸輥。此外，優(yōu)選的是使用多個(gè)流延鼓(輥)并且逐漸地冷卻鼓。(在它們中，使用的上述接觸輥被設(shè)置成接觸在最上游側(cè)(靠近模頭)的第一流延輥)。通常，相對經(jīng)常地使用三個(gè)冷卻輥，但是該輥的數(shù)量并不限于這樣。輥的直徑優(yōu)選為50mm至5，000mm，更優(yōu)選為IOOmm至2，000mm,并且還優(yōu)選為150mm至1，000mm。在多個(gè)輥之間的間隔按表面間的距離計(jì)優(yōu)選為0.3mm至300mm，更優(yōu)選為Imm至100mm，并且還優(yōu)選為3mm至30mm。此外，流延輥的最上游側(cè)的線速度優(yōu)選被設(shè)置在20m/分鐘以上并且70m/分鐘以下。(8)卷繞膜從流延輥上剝離，隨后通過夾持輥，并且卷繞。所形成的膜的寬度為0.7m至5m，還優(yōu)選為Im至4m，并且還更優(yōu)選為1.3m至3m。由此獲得的未拉伸膜的厚度優(yōu)選為20μm至250μm,更優(yōu)選為25μm至200μm,并且還優(yōu)選為30μπιΜ180μm。膜的兩端優(yōu)選在卷繞之前進(jìn)行裁剪?？梢圆捎眯D(zhuǎn)切割器、剪切刃(shearedge)和刀中的任一類型作為裁剪切割機(jī)。材料還可以是碳鋼和不銹鋼中的任一種。通常地，優(yōu)選使用超硬刀片或陶瓷刀片，因?yàn)樗鼈兙哂虚L的壽命并且抑制切削的產(chǎn)生。裁剪操作所切削掉的部分可以被壓碎并且再用作原料。還優(yōu)選的是，對一端或兩端施加增厚工藝(壓花處理)。通過增厚工藝形成的凸-凹的高度優(yōu)選為Iym至200μπι，更優(yōu)選為10μm至150μm，并且還優(yōu)選為20μm至100μm。增厚工藝可以在兩個(gè)表面上或在單一表面上形成突起部分。在增厚工藝中的寬度優(yōu)選為Imm至50mm，更優(yōu)選為3mm至30mm，并且還優(yōu)選為5mm至20mm。擠出工藝可以在室溫至300°C進(jìn)行。由此形成的膜可以直接拉伸(在線拉伸)，或可以一次卷繞，然后供給并且再拉伸(離線拉伸)。當(dāng)膜被卷繞時(shí)，優(yōu)選的是，從防擦傷考慮，將層壓膜粘附到至少一個(gè)表面上。層壓膜的厚度優(yōu)選為5μm至200μm，更優(yōu)選為10μm至150μm,并且還優(yōu)選為15μm至100μm。材料包括聚乙烯、聚酯和聚丙烯，但是并沒有特別限制。卷繞張力優(yōu)選為lkg/m寬度至50kg/寬度，更優(yōu)選為2kg/m寬度至40kg/寬度，并且還優(yōu)選為3kg/m寬度至20kg/寬度。當(dāng)卷繞張力小于lkg/m寬度時(shí)，幾乎不能均勻地卷繞膜。相反，當(dāng)卷繞張力超過50kg/寬度時(shí)，膜被牢固地卷繞，這不僅劣化了卷繞外觀，而且由于蠕動(dòng)現(xiàn)象延伸了膜的壓花，并且引起了膜的外部起伏，或由于膜的伸長而發(fā)生殘余雙折射。這些現(xiàn)象是不優(yōu)選的。優(yōu)選的是，用在生產(chǎn)線上的張力控制器(tensioncontrol)檢測卷繞張力，以及在控制卷繞張力成為恒定值的同時(shí)卷繞膜。當(dāng)膜溫度由于在膜形成生產(chǎn)線上的位置而不同時(shí)，膜的長度由于熱膨脹而有時(shí)有稍有不同。因此，必須的是，通過調(diào)節(jié)夾持輥之間的拉伸比而不對在生產(chǎn)線上的膜施加規(guī)定值以上的張力。通過拉伸控制器控制卷繞拉伸而在恒定張力下卷繞膜是可能的，但是更優(yōu)選通過提供根據(jù)卷繞線圈直徑的逐漸縮減(taper)以將卷繞張力控制到合適值。通常地，張力隨著卷繞線圈的直徑增加而逐漸降低，但是張力可以隨著卷繞線圈的直徑的增加而增加，這在某些情況下是優(yōu)選的。《拉伸步驟》可以將已經(jīng)熔融并且形成的環(huán)烯烴膜橫向拉伸或縱向拉伸，并且可以進(jìn)一步地進(jìn)行與上述步驟結(jié)合的松弛處理。例如，該操作可以與下列步驟結(jié)合進(jìn)行。1橫向拉伸2橫向拉伸一松弛處理3縱向拉伸一橫向拉伸4縱向拉伸一橫向拉伸一松弛處理5縱向拉伸一松弛處理一橫向拉伸一松弛處理6橫向拉伸一縱向拉伸一松弛處理7橫向拉伸一松弛處理一縱向拉伸一松弛處理8縱向拉伸一橫向拉伸一縱向拉伸9縱向拉伸一橫向拉伸一縱向拉伸一松弛處理10縱向拉伸11縱向拉伸一松弛處理它們中，更優(yōu)選的組合是1至4和10至11，并且還優(yōu)選的組合是2、4和11。它們中，更優(yōu)選的組合是1至4，并且還優(yōu)選的組合是2和4。(縱向拉伸)在本發(fā)明中，還優(yōu)選的是，通過橫向拉伸和縱向拉伸的組合拉伸膜。在這種情況下，更優(yōu)選的是，縱向拉伸膜然后橫向拉伸膜。通過提供兩對夾持輥并且控制出口側(cè)的夾持輥的圓周速度以使得其高于進(jìn)口側(cè)的夾持輥的圓周速度，同時(shí)加熱在兩側(cè)的夾持輥之間的空間，可以實(shí)現(xiàn)縱向拉伸工藝。此時(shí)，在厚度方向出現(xiàn)的延遲的性質(zhì)可以通過改變夾持輥之間的長度(L)和被拉伸之前的膜的寬度(W)而改變。Rth通過控制L/W(稱作長寬比)為大于2但是在50以下(長跨度拉伸)而被減小，并且可以通過將長寬比控制為0.01以上且0.3以下(短跨度拉伸)而被增力口。在本發(fā)明中，在長跨度拉伸、短跨度拉伸和中間拉伸(其中中等拉伸=L/W為大于0.3并且2以下)之間可以使用任何方法，但是優(yōu)選使用長跨度拉伸或短跨度拉伸，因?yàn)槠淠軌蚴谷∠蚪切　６?，?yōu)選的是通過以如下方式區(qū)分拉伸方法來使用所述拉伸方法當(dāng)旨在賦予高的Rth時(shí)，采用短跨度拉伸，而當(dāng)旨在賦予低的Rth時(shí)采用長跨度拉伸。(1-1)長跨度拉伸該膜通過拉伸延長，但是在此時(shí)，膜降低了其厚度和寬度，因而降低了其容積變化。在此時(shí)，膜在寬度方向上的收縮由于夾持輥和膜之間產(chǎn)生的摩擦而被限制。由于此原因，當(dāng)夾持輥之間的長度增加時(shí)，膜容易在寬度方向上收縮，并且可以抑制厚度的降低。當(dāng)厚度得到極大地降低時(shí)，膜出現(xiàn)在厚度方向上被壓縮的相同效果，分子在膜表面上被取向，并且Rth趨向于容易增加。相反，當(dāng)長寬比大并且厚度稍微降低時(shí)，Rth幾乎不出現(xiàn)并且可以實(shí)現(xiàn)低的Rth值。而且，當(dāng)長寬比長時(shí)，可以提高在寬度方向上的均勻性。這是由于下列原因造成的。由于被縱向拉伸，膜試圖在寬度方向上收縮。在寬度方向上的中心部分的兩側(cè)也試圖在寬度方向上收縮，并且因此形成了拔河(tugofwar)的狀態(tài)。因此，中心部分不能自由地收縮。另一方面，在膜的寬度方向上的末端，僅在一側(cè)上發(fā)生拔河的狀態(tài)。因此，在末端的膜可能較容易地收縮。兩端和中心部分之間的收縮操作所引起的收縮行為的差異導(dǎo)致了在寬度方向上的拉伸量的不均勻性。在兩端和中心部分之間的收縮行為的這種不均勻性引起了在寬度方向上的延遲的分布和軸偏差(延遲軸的取向角的分散)。在另一方面，在長跨度拉伸法中，由于膜在兩個(gè)夾持輥之間的長距離中被緩慢拉伸，因此在拉伸步驟過程中不均勻性逐漸被均勻化(分子取向被均勻化)。與此相反，這種均勻化的行為并沒有在正?？v向拉伸工藝中發(fā)生(長寬比=大于0.3并且小于2)。長寬比優(yōu)選大于2并且50以下，更優(yōu)選為3至40，并且還優(yōu)選為4至20。拉伸溫度優(yōu)選為(Tg_5°C)至(Tg+100)°C，更優(yōu)選為(Tg)至(Tg+50)°C，并且還優(yōu)選為(Tg+5)至(Tg+30)°C。拉伸比優(yōu)選為1.05至3倍，更優(yōu)選為1.05至1.7倍，并且還優(yōu)選為1.05至1.4倍。這種長跨度拉伸法還可以采用3對以上的夾持輥多級進(jìn)行，并且在多級中最長的長寬比可以在上述范圍內(nèi)。這種長跨度拉伸法可以通過將存在于兩對夾持輥之間的膜進(jìn)行加熱并且拉伸而進(jìn)行，所述兩對夾持輥彼此遠(yuǎn)離預(yù)定的距離。該加熱方法可以是加熱器加熱法(通過在膜的上方或下方安裝紅外加熱器、鹵素加熱器、平面加熱器等，利用輻射熱加熱所述膜)，或區(qū)域加熱法(在已經(jīng)通過吹送熱空氣等而被控制至預(yù)定溫度的區(qū)域中加熱膜)。在本發(fā)明中，從拉伸溫度的均勻性考慮，優(yōu)選區(qū)域加熱法。此時(shí)，夾持輥可以設(shè)置在拉伸區(qū)域中，或可以設(shè)置在該區(qū)域的外部，但是優(yōu)選設(shè)置在該區(qū)域的外部以防止膜和夾持輥之間的粘著。優(yōu)選的是，在這種拉伸工藝之前預(yù)加熱該膜。預(yù)熱溫度為Tg-80°C以上且Tg+100°C以下。通過這種拉伸工藝獲得的Re值優(yōu)選為0至200nm，更優(yōu)選為10至200nm并且還優(yōu)選為15nm至lOOnm，并且Rth值優(yōu)選為30至500nm，更優(yōu)選為50至400nm并且還優(yōu)選為70至350nm。通過這種拉伸工藝，Rth與Re的比率(Rth/Re)可以被優(yōu)選控制為0.4至0.6，并且更優(yōu)選控制為0.45至0.55。具有這種性質(zhì)的膜可以被用作A-片型相位差片。而且，通過這種拉伸工藝，Re值和Rth值的分散可以被控制為5%以下，更優(yōu)選為4%以下，并且還優(yōu)選為3%以下。根據(jù)這種拉伸工藝獲得的在拉伸之前和之后的膜寬度的比率(拉伸之后的膜寬度/拉伸之前的膜寬度)優(yōu)選為0.5至0.9，更優(yōu)選為0.6至0.85，并且還優(yōu)選為0.65至0.83。(1-2)短跨度拉伸通過設(shè)定長寬比(L/W)優(yōu)選大于0.01并且小于0.3，更優(yōu)選在0.03至0.25并且還優(yōu)選在0.05至0.2，(在短跨度拉伸工藝中)縱向拉伸膜。通過以在這種范圍內(nèi)的長寬比(L/W)拉伸膜，可以抑制頸縮(在對于拉伸方向?yàn)闄M向的方向上由于拉伸所引起的收縮)可以得到減小。為了補(bǔ)償在拉伸方向上的延伸，寬度和厚度降低，但是在這種短跨度拉伸工藝中，在寬度方向上的收縮得到抑制并且厚度優(yōu)選降低。結(jié)果，該膜在厚度方向上被壓縮，并且在厚度方向上的取向行為(面取向)取得進(jìn)展。結(jié)果，作為在厚度方向上各向異性量度的Rth趨向于容易增加。在另一方面，常規(guī)上，膜以接近1(0.7至1.5)的長寬比(L/W)被拉伸。這是因?yàn)楸M管膜通常通過在夾持輥之間設(shè)置用于加熱的加熱器而被拉伸，但是當(dāng)L/W過大時(shí)，膜不可能采用加熱器而均勻地加熱，并且容易引起拉伸分布，并且當(dāng)L/W過小時(shí)，加熱器難于設(shè)置并且不能充分加熱膜。上述的短跨度拉伸工藝可以通過改變兩對以上的夾持輥之間的輸送速度來進(jìn)行，并且可以通過不以正常的輥布置(圖1)而是以傾斜布置(將前面和背面的夾持輥的旋轉(zhuǎn)軸彼此垂直設(shè)置)(圖2)而實(shí)現(xiàn)。在這種布置中，用于加熱的加熱器不可能設(shè)置在夾持輥之間。因此，優(yōu)選地，在夾持輥中傳送熱介質(zhì)并且由此加熱膜。還優(yōu)選的是在進(jìn)口側(cè)的夾持輥之前設(shè)置在內(nèi)部傳送熱介質(zhì)的預(yù)熱輥，并且在拉伸工藝之前加熱膜。拉伸溫度優(yōu)選為(Tg_5°C)至(Tg+100)°C，更優(yōu)選為(Tg)至(Tg+50)！并且還優(yōu)選為(Tg+5)至(Tg+30)°C，并且預(yù)熱溫度優(yōu)選為Tg-80°C以上且Tg+100°C以下。(橫向拉伸)橫向拉伸工藝可以使用拉幅機(jī)進(jìn)行。具體地，拉幅機(jī)使用夾具固定膜在的寬度方向上的兩端，并且使膜在橫向方向上膨脹以拉伸該膜。此時(shí)，可以通過將所需溫度的空氣送往至拉幅機(jī)而控制拉伸溫度。拉伸溫度優(yōu)選為Tg-10°c以上且Tg+60°C以下，更優(yōu)選為Tg-5°C以上且Tg+45°C以下，并且最優(yōu)選為Tg以上且Tg+30°C以下。通過在這種拉伸工藝之前預(yù)熱膜并且在拉伸工藝之后固定熱(fixingtheheat),降低了拉伸膜的Re和Rth的分布，并且可以降低由于弓曲(bowing)引起的取向角的分散。預(yù)熱膜或固定熱的任一種操作均可以進(jìn)行，但是優(yōu)選進(jìn)行這兩種操作。在使用夾具固定膜的同時(shí)優(yōu)選進(jìn)行預(yù)熱膜和固定熱的操作，換言之，優(yōu)選與拉伸操作連續(xù)進(jìn)行。膜優(yōu)選在高于拉伸溫度1°C以上并且50°C以下(高于1°C至50°C)，更優(yōu)選高于20C以上并且40°C以下(高于2°C至40°C)并且還優(yōu)選高于3°C以上并且30°C以下(高于3°C至30°C)的溫度進(jìn)行預(yù)熱。預(yù)熱的時(shí)間周期優(yōu)選為1秒以上并且10分鐘以下，更優(yōu)選為5秒以上并且4分鐘以下，并且還優(yōu)選為10秒以上并且2分鐘以下。當(dāng)膜被預(yù)熱時(shí)，拉幅機(jī)的寬度優(yōu)選被保持大致恒定。在此，“大致"是指在未拉伸膜的寬度的士10%的范圍。熱固定在低于拉伸溫度1°C以上并且50°C以下(低于1°C至50°C)、更優(yōu)選低于2V以上并且40°C以下(低于2°C至40°C)并且還優(yōu)選低于3°C以上并且30°C以下(低于3°C至30°C)的溫度進(jìn)行。此外優(yōu)選地，將該溫度控制為拉伸溫度以下并且還控制為Tg以下。預(yù)熱的時(shí)間周期優(yōu)選為1秒以上并且10分鐘以下，更優(yōu)選為5秒以上并且4分鐘以下，并且還優(yōu)選為10秒以上并且2分鐘以下。當(dāng)固定加熱時(shí)，拉幅機(jī)的寬度優(yōu)選保持大致恒定。在此，"大致"是指在已經(jīng)完成拉伸操作之后，拉幅機(jī)寬度的0%(與已經(jīng)完成拉伸操作之后拉幅機(jī)的寬度相同的寬度)至該寬度的-10%(比已經(jīng)完成拉幅操作之后的拉幅機(jī)寬度收縮多10%=收縮寬度)。當(dāng)拉幅機(jī)的寬度被膨脹到拉伸寬度或更寬時(shí)，趨向于在膜中產(chǎn)生殘余應(yīng)變，并且Re和Rth隨時(shí)間的波動(dòng)趨向于增加，這是不優(yōu)選的。因此，該溫度優(yōu)選滿足如下的關(guān)系熱固定溫度<拉伸溫度<預(yù)熱溫度。取向角以及Re和Rth的波動(dòng)可以通過預(yù)熱膜并且固定熱而減小的原因是根據(jù)如下的原因。膜在寬度方向上被拉伸，并且趨向于在直的方向(縱向方向)上變薄(頸縮)。由于這個(gè)原因，在橫向拉伸工藝之前和之后的膜被拉伸，這產(chǎn)生了應(yīng)力。然而，膜在寬度方向上的兩個(gè)末端由于應(yīng)力而難于變形，因?yàn)楸粖A具固定，但是在寬度方向的中心部由于應(yīng)力而容易變形。結(jié)果，膜由于頸縮，通過應(yīng)力變形為弓的形式，這引起了弓曲現(xiàn)象(bowingphenomenon)。由此，發(fā)生在面內(nèi)的Re和Rth的分布以及取向軸的分散。為了抑制該發(fā)生，在被預(yù)熱側(cè)的溫度(拉伸之前)被提高，并且在熱處理側(cè)的溫度(拉伸之后)被降低。因而，頸縮在具有低彈性模量的高溫側(cè)(預(yù)熱側(cè))發(fā)生，并且由于熱處理而幾乎不發(fā)生(拉伸之后)。結(jié)果，在拉伸工藝之后的弓曲現(xiàn)象可以得到抑制。通過這種拉伸操作，Re和Rth在寬度方向以及在縱向方向上的分布(變化)均可以被控制為5%以下，更優(yōu)選4%以下，并且還優(yōu)選3%以下。而且，取向角可以被控制為90°士5°以下或0°士5°以下，更優(yōu)選90°士3°以下或0°士3°以下，并且還優(yōu)選90°士1°以下或0°士1°以下。根據(jù)本發(fā)明的方法的特征在于，這種效果即使在高速拉伸工藝中也可以獲得，并且在優(yōu)選20m/分鐘以上、更優(yōu)選25m/分鐘以上并且還優(yōu)選30m/分鐘以上的速度顯著顯示所述效果?！端沙谔幚怼烦叽绶€(wěn)定性可以通過在完成拉伸工藝之后進(jìn)一步進(jìn)行松弛處理而得到改善。熱松弛處理優(yōu)選在縱向拉伸工藝和橫向拉伸工藝之一或在它們兩者之后進(jìn)行，并且更優(yōu)選在橫向拉伸工藝之后進(jìn)行。松弛處理可以在完成拉伸工藝之后在線連續(xù)進(jìn)行，或可以在膜被拉伸并且卷繞之后離線進(jìn)行。在膜被輸送的同時(shí)在如下各項(xiàng)條件下進(jìn)行熱松弛處理Tg-30°C以上并且Tg+30°C以下更優(yōu)選在Tg-30°C以上并且Tg+20°C以下并且還優(yōu)選在Tg_15°C以上并且Tg+10°C以下；優(yōu)選進(jìn)行1秒以上并且10分鐘以下，更優(yōu)選進(jìn)行5秒以上并且4分鐘以下，并且還優(yōu)選進(jìn)行10秒以上并且2分鐘以下；并且優(yōu)選在0.lkg/m以上并且20kg/m以下、更優(yōu)選lkg/m以上并且16kg/m以下，并且還優(yōu)選2kg/m以上并且12kg/m以下的張力進(jìn)行?！对诶爝^程中的揮發(fā)性組分》在上述縱向拉伸工藝和橫向拉伸工藝中，揮發(fā)性組分(溶劑、濕氣等)優(yōu)選為相對于樹脂的1重量％以下，更優(yōu)選為0.5重量％以下，并且還優(yōu)選為0.3重量％以下。因而，在拉伸工藝過程中的軸的偏離可以被減輕。這是因?yàn)槌嗽诶旃に囘^程中在垂直于拉伸方向的方向上起作用的收縮應(yīng)力之外，還歸因于干燥所致的收縮應(yīng)力在膜中起作用，這使得弓曲現(xiàn)象顯著。《在拉伸之后的物理性質(zhì)》由此已經(jīng)進(jìn)行了縱向拉伸、橫向拉伸或縱向及橫向拉伸的熱塑性膜的Re和Rth優(yōu)選滿足下列表達(dá)式(R-I)和(R-2)表達(dá)式<formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula>；以及表達(dá)式<formula>formulaseeoriginaldocumentpage29</formula>其中Re表示熱塑性膜的平面內(nèi)的延遲，而Rth表示熱塑性膜的厚度方向上的延遲。Re和Rth更優(yōu)選滿足Rth≥ReXl.l;180≥Re≥10；并且400≥Rth≥50，并且還優(yōu)選滿足Rth≥ReX1.2;150≥Re≥20；并且300≥Rth≥100。由膜形成方向(縱向方向)和膜的Re的延遲軸所形成的角θ優(yōu)選更靠近0°、+90°或-90°。具體地，在縱向拉伸工藝的情況下，該角優(yōu)選更靠近0°，優(yōu)選靠近0°士3°，更優(yōu)選靠近0°士2°并且還更優(yōu)選靠近0°士1°。在橫向拉伸工藝的情況下，該角優(yōu)選為90°士3°或-90°士3°，更優(yōu)選為90°士2°或-90°士2°，并且還優(yōu)選為90°士1°或-90°士1°。Re和Rth的分布優(yōu)選為0%至8%，更優(yōu)選為0%至5%并且還優(yōu)選為0%至3%。當(dāng)膜被儲(chǔ)存時(shí)Re和Rth隨時(shí)間的變化(在膜已經(jīng)在80°C放置500小時(shí)之前和之后的Re和Rth的變化，這將在下面詳細(xì)描述)優(yōu)選為0%以上并且8%以下，更優(yōu)選為0%以上并且6%以下，還優(yōu)選為0%以上并且4%以下。在任何拉伸工藝之后的熱塑性膜的厚度優(yōu)選為15μm至200μm,更優(yōu)選為20μm至120μm，并且還優(yōu)選為30μπι至80μπι。在縱向方向和寬度方向中任一個(gè)方向上的厚度的分布優(yōu)選為0%至3%，更優(yōu)選為0%至2%，并且還優(yōu)選為0%至1%。當(dāng)使用薄膜時(shí)，在膜已經(jīng)進(jìn)行拉伸之后，殘留應(yīng)變更難于殘留在膜中，并且延遲更難于隨時(shí)間變化。這是因?yàn)樵谝呀?jīng)進(jìn)行拉伸之后冷卻厚膜時(shí)，內(nèi)部比表面冷卻更緩慢，并且殘留應(yīng)變趨向于由于熱收縮量之間的差而容易產(chǎn)生。熱所致的尺寸變化的比率優(yōu)選為0%以上并且0.5%以下，更優(yōu)選為0%以上并且0.3%以下，并且還優(yōu)選為0%以上并且0.2%以下。熱所致的尺寸變化比率是指當(dāng)膜已經(jīng)在80°C進(jìn)行5小時(shí)的熱處理時(shí)發(fā)生的尺寸變化。在根據(jù)本發(fā)明的膜中包含的最大直徑為50μm以上的雜質(zhì)的數(shù)量為0個(gè)/3mm長度X整個(gè)寬度，并且最大直徑為20至50μm的雜質(zhì)為30個(gè)/3mm長度X整個(gè)寬度或更少。而且，當(dāng)在兩片以交叉尼科爾斯(Nichols)狀態(tài)布置的偏振片之間設(shè)置膜，并且從偏振片側(cè)投射光的同時(shí)從另一偏振片側(cè)觀察時(shí)，來自最大直徑為20至50μm的雜質(zhì)的發(fā)光點(diǎn)的數(shù)量優(yōu)選為15個(gè)/3mm長度X整個(gè)寬度或更少，更優(yōu)選為10個(gè)/3mm長度X整個(gè)寬度或更少，并且還優(yōu)選為5個(gè)/cm2或更少。雜質(zhì)的數(shù)量和尺寸可以通過從所形成的膜中取出3mm長度X整個(gè)寬度的面積并且采用光學(xué)顯微鏡進(jìn)行測量?！秾Νh(huán)烯烴膜的處理》根據(jù)本發(fā)明獲得的環(huán)烯烴膜可以單獨(dú)或與偏振片組合地使用，并且可以在膜或偏振片上設(shè)置液晶層、具有可控折射率的層(低折射率層)或硬涂層之后使用。上述產(chǎn)品可以通過下列工藝實(shí)現(xiàn)。(表面處理)可用的表面處理包括輝光放電處理、UV輻照處理、電暈處理、火焰處理和酸或堿的處理。在此，輝光放電處理包括使用在10_3至20托(0.13至2，700Pa)的低壓氣體下發(fā)生的(occurring)低溫等離子體的處理。在大氣壓下的等離子體處理也是優(yōu)選的輝光放電處理?？傻入x子體激發(fā)的氣體是指在上述條件下受激發(fā)而形成的等離子體的氣體，并且包括氬、氦、氖、氪、氙、氮、二氧化碳、碳氟化物比如四氟甲烷，以及它們的混合物。所述氣體詳細(xì)描述于日本的發(fā)明與創(chuàng)新協(xié)會(huì)(theJapanInstituteofInventionandInnovation)的技術(shù)公開期干Ij(JournalofTechnicalDisclosure)的30至32頁(TechnicalDisclosureNo.2001至1745，在2001年3月15由日本的發(fā)明與創(chuàng)新協(xié)會(huì)出版)。在近年來吸引人們關(guān)注的在大氣壓下的等離子體處理中，例如，在10至IOOOKev下使用20至500KGy的輻射能，并且更優(yōu)選在30至500Kev下使用20至300KGy的輻射能。它們中，特別優(yōu)選輝光放電處理、暈光處理和火焰處理。還優(yōu)選在膜上設(shè)置底涂層，以提高與功能層的粘附性。底涂層可以在進(jìn)行上述表面處理之后形成，或可以在不進(jìn)行所述表面處理的情況下形成。底涂層的細(xì)節(jié)描述于日本的發(fā)明與創(chuàng)新協(xié)會(huì)的技術(shù)公開期刊的32頁(TechnicalDisclosureNo.2001至1745，在2001年3月15由日本的發(fā)明與創(chuàng)新協(xié)會(huì)出版)。這些表面處理和底涂處理可以被包括在膜形成工藝的末端，可以單獨(dú)進(jìn)行，或也可以在下面描述的形成功能層的步驟進(jìn)行。(功能層的添加)根據(jù)本發(fā)明的環(huán)烯烴膜優(yōu)選與功能層組合，所述功能層詳細(xì)描述于日本的發(fā)明與創(chuàng)新協(xié)會(huì)的技術(shù)公開期刊的32至45頁(TechnicalDisclosureNo.2001至1745，在2001年3月15由日本的發(fā)明與創(chuàng)新協(xié)會(huì)出版)。它們中，優(yōu)選將偏振層(偏振片)、光學(xué)補(bǔ)償層(光學(xué)補(bǔ)償片)和抗放射層(抗反射膜)賦予膜。(A)偏振片的添加(偏振片的制備)(A-I)使用的材料當(dāng)前，商購的偏振層通常是通過如下方法制備的將拉伸的聚合物浸漬于浴管中的碘中或二色性顏料的溶液中，以使碘或二色性顏料滲透粘合劑。可用的偏振膜包括由OptivaInc.代表的涂敷型的偏振膜。偏振膜中的碘和二色性顏料由于在粘合劑中被取向而出現(xiàn)偏振性能?？梢詰?yīng)用的二色性顏料的實(shí)例包括偶氮顏料，芪基顏料，吡唑啉酮基顏料，三苯基甲烷基顏料，喹啉基顏料，噁嗪基顏料，噻嗪基顏料和蒽醌基顏料。優(yōu)選的二色性顏料在水中可溶。二色性顏料優(yōu)選具有親水性取代基(例如磺基，氨基和羥基)。二色性顏料包括例如描述于日本的發(fā)明與創(chuàng)新協(xié)會(huì)的技術(shù)公開期刊的58頁(TechnicalDisclosureNo.2001至1745，在2001年3月15出版)中的化合物。用于偏振膜的可用粘合劑包括以下各項(xiàng)中的任一項(xiàng)本身可交聯(lián)的聚合物、被交聯(lián)劑交聯(lián)的聚合物以及它們的多種組合。粘合劑包括例如，甲基丙烯酸酯基共聚物，苯乙烯基共聚物，聚烯烴，聚乙烯醇和改性聚乙烯醇，聚(N-羥甲基丙烯酰胺)，聚酯，聚酰亞胺，乙酸乙烯酯共聚物，羧甲基纖維素和聚碳酸酯，這些在日本專利申請公開8-338913的說明書的W022]中有描述?？梢圆捎霉柰榕悸?lián)劑作為所述聚合物。它們中，優(yōu)選水溶性聚合物(例如聚(N-羥甲基丙烯酰胺)，羧甲基纖維素，明膠，聚乙烯醇和改性聚乙烯醇；更優(yōu)選的是明膠，聚乙烯醇和改性聚乙烯醇；并且最優(yōu)選的是聚乙烯醇和改性聚乙烯醇。特別優(yōu)選組合使用彼此具有不同聚合度的兩種聚乙烯醇或改性聚乙烯醇。聚乙烯醇的皂化度優(yōu)選為70至100%，并且更優(yōu)選80至100%。聚乙烯醇的聚合度優(yōu)選為100至5000。改性聚乙烯醇詳細(xì)描述于日本專利申請公開8-338913、日本專利申請公開9-152509和日本專利申請公開9-316127中的每一個(gè)中?？梢园殡S使用兩種以上的聚乙烯醇和改性聚乙烯醇。粘合劑厚度的下限優(yōu)選為10μm。粘合劑厚度的上限越薄，則從液晶顯示裝置的漏光的觀點(diǎn)考慮，膜質(zhì)量越好。上限優(yōu)選為當(dāng)前商購偏振片的厚度(約30μm)以下，更優(yōu)選為25μm以下，并且還優(yōu)選為20μm以下。偏振膜用的粘合劑可以是交聯(lián)的?？梢詫⒕哂锌山宦?lián)官能團(tuán)的聚合物或單體混合在粘合劑中，或者可以將可交聯(lián)官能團(tuán)提供給粘合劑聚合物本身。通過采用光、熱或PH改變，可以使粘合劑交聯(lián)以形成具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的粘合劑。所述交聯(lián)劑在美國再頒專利23297的說明書中有描述。也可以將硼化合物(例如硼酸和硼砂)用作交聯(lián)劑。相對于粘合劑，加入到粘合劑中的交聯(lián)劑的量優(yōu)選為0.1至20質(zhì)量％。交聯(lián)劑的量提高了偏振元件的取向性質(zhì)，以及偏振膜的耐濕熱性。即使在交聯(lián)反應(yīng)完成之后，未反應(yīng)的交聯(lián)劑優(yōu)選為1.0質(zhì)量％以下，并且還優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以下。因而，耐候性得到提高。(A-2)偏振層的拉伸優(yōu)選地，將偏振膜在進(jìn)行拉伸(拉伸處理)或進(jìn)行摩擦(摩擦處理)之后用碘或二色性染料染色。在所述拉伸法的情況下，拉伸比優(yōu)選為2.5至30.0，并且更優(yōu)選3.0至10.0。偏振膜可以采用在空氣中的干拉伸法進(jìn)行拉伸。備選地，偏振膜也可以以浸漬于水中的狀態(tài)下進(jìn)行濕拉伸法。在干拉伸法中的拉伸比優(yōu)選為2.5至5.0倍，而在濕拉伸法中的拉伸比優(yōu)選為3.0至10.0倍?？梢云叫杏贛D方向進(jìn)行拉伸(平行拉伸)，或可以在傾斜方向上進(jìn)行拉伸(傾斜拉伸)。這些拉伸工藝可以一次進(jìn)行或以幾個(gè)分開的時(shí)間進(jìn)行。如果以分開的幾個(gè)時(shí)間被拉伸，則偏振膜即使在高比率拉伸工藝中也可以更均勻地進(jìn)行拉伸。(a)平行拉伸法將PVA膜在拉伸之前溶脹。溶脹度為1.2至2.0(溶脹后的質(zhì)量與溶脹前的質(zhì)量的比率)。在此之后，將偏振膜在水性介質(zhì)浴或在其中溶解有二色性物質(zhì)的染料浴中于15至50°C，特別于17至40°C進(jìn)行拉伸，同時(shí)通過導(dǎo)輥等連續(xù)地傳送該膜。PVA膜可以在采用兩對夾持輥固定的情況下進(jìn)行拉伸，設(shè)定所述夾持輥的輸送速度，使得所述夾持輥在后面級的輸送速度大于在前面級的輸送速度。拉伸比基于膜拉伸后的長度與膜在原始狀態(tài)下的長度的比率(以下相同)，并且從于上述工作效應(yīng)的觀點(diǎn)考慮，但是優(yōu)選的拉伸比為1.2至3.5倍，并且特別為1.5至3.0倍。在此之后，將拉伸的膜于50°C至90°C干燥，并且得到偏振膜。(b)傾斜拉伸法可用的傾斜拉伸法包括采用在傾斜方向上突出的拉幅機(jī)拉伸膜的方法，該方法描述于日本專利申請公開2002-86554中。由于在這個(gè)傾斜拉伸法中在空氣中被拉伸，因此必須使膜在拉伸之前含有水，以使膜容易拉伸。含水量優(yōu)選為5%至100%并且更優(yōu)選為10%至100%。在該拉伸工藝中的溫度優(yōu)選為40°C至90°C，并且更優(yōu)選為50°C至80°C。濕度按相對濕度計(jì)優(yōu)選為50%至100%，更優(yōu)選按相對濕度計(jì)為70%至100%，并且還優(yōu)選按相對濕度計(jì)為80%至100%。在縱向方向上的前進(jìn)速度優(yōu)選為Im/分鐘以上并且更優(yōu)選為3m/分鐘以上。在拉伸工藝完成之后，將拉伸膜在50°C至100°C并且優(yōu)選在60°C至90°C干燥0.5分鐘至10分鐘。干燥時(shí)間周期更優(yōu)選為1分鐘至5分鐘。由此獲得的偏振膜的吸收軸優(yōu)選為10°至80°，更優(yōu)選為30°至60°，并且還優(yōu)選基本上為45°(40°至50°)。(A-3)層壓將已經(jīng)進(jìn)行了上述表面處理的熱塑性膜與已經(jīng)進(jìn)行了拉伸和調(diào)節(jié)的偏振層進(jìn)行層壓，從而制備偏振片。控制層壓方向，使得由熱塑性膜的流延軸的方向和偏振片的拉伸軸的方向形成的角優(yōu)選變?yōu)?5°。用于層壓的粘合劑并沒有特別限制，但是包括PVA基樹脂(包括改性PVA，如乙酰乙?；?，磺基，羧基和氧化烯基)和硼化合物的水溶液。它們中，優(yōu)選PVA基樹脂。在干燥之后形成的粘合劑層的厚度優(yōu)選為0.01至10μm,并且特別優(yōu)選0.05至5μm。由此獲得的偏振片優(yōu)選具有高的透光率(光學(xué)透明率)并且也優(yōu)選具有高的偏振度。對于波長為550nm的光，偏振片的透光率優(yōu)選在30至50%的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在35至50%的范圍內(nèi)，并且最優(yōu)選在40至50%的范圍內(nèi)。對于波長為550nm的光，偏振度優(yōu)選在90至100%的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在95至100%的范圍內(nèi)，并且最優(yōu)選在99至100%的范圍內(nèi)。而且，可以將由此得到的偏振片與λ/4波片層壓，以產(chǎn)生圓偏振光。在此情況下，層壓所述的片使得λ/4波片的延遲軸與偏振片的吸收軸形成的角度可以為45度。此時(shí)，λ/4波片沒有特別限制，但是優(yōu)選具有對于越短波長的光顯示越小延遲的這種波長依賴性。而且，優(yōu)選的是，使用具有相對于縱向方向傾斜20°至70°的吸收軸的偏振膜和由液晶化合物制成的光學(xué)各向異性層形成的λ/4波片。(B)光學(xué)補(bǔ)償層的添加(光學(xué)補(bǔ)償片的制備)光學(xué)各向異性層旨在當(dāng)液晶顯示裝置顯示黑色時(shí)補(bǔ)充在液晶元件中的液晶化合物，并且它是通過在根據(jù)本發(fā)明的熱塑性膜上形成取向膜并且再在其上賦予各向異性層而形成。(B-I)取向膜在已經(jīng)進(jìn)行了上述表面處理的熱塑性膜上設(shè)置取向膜。這種膜具有規(guī)定取向液晶分子的方向的功能。然而，當(dāng)液晶化合物已經(jīng)取向并且已經(jīng)將取向的狀態(tài)固定時(shí)，取向膜完成了任務(wù)。因此，取向膜不一定必要地作為本發(fā)明的組分。換言之，本發(fā)明的偏振片還可以通過只將光學(xué)各向異性層轉(zhuǎn)移在取向膜上來制備，所述取向膜的取向狀態(tài)被固定到偏振器上?？梢酝ㄟ^使有機(jī)化合物(優(yōu)選聚合物)進(jìn)行摩擦、使無機(jī)化合物進(jìn)行傾斜氣相沉積工藝、形成在其上具有微型凹槽的層、或使用Langmur-Blodgett方法累積有機(jī)化合物(例如ω-二十三烷酸，氯化二(十八烷基)甲基銨或硬脂酸甲酯)(LB膜)，來形成取向膜。而且，通過對有機(jī)化合物施加電場、對有機(jī)化合物施加磁場或使用光輻照有機(jī)化合物的操作而在其內(nèi)形成取向功能的取向膜是已知的。取向膜優(yōu)選通過使聚合物進(jìn)行摩擦處理而形成。用于取向膜的聚合物具有分子結(jié)構(gòu)，該分子結(jié)構(gòu)具有原則上取向液晶分子的功能。在本發(fā)明中，優(yōu)選的是，除了具有用主鏈取向液晶分子的功能，還將具有可交聯(lián)官能團(tuán)(例如雙鍵)的側(cè)鏈與主鏈結(jié)合，或?qū)⒕哂腥∠蛞壕Х肿拥墓δ艿目山宦?lián)官能團(tuán)引入到側(cè)鏈。用于所述取向膜的聚合物可以采用如下各項(xiàng)中的任一項(xiàng)本身可以交聯(lián)的聚合物和在交聯(lián)劑存在下交聯(lián)的聚合物，以及這兩種聚合物的多種組合。所述聚合物的實(shí)例包括例如甲基丙烯酸酯基共聚物，苯乙烯基共聚物，聚烯烴，聚乙烯醇和改性聚乙烯醇，聚(N-羥甲基丙烯酰胺)，聚酯，聚酰亞胺，乙酸乙烯酯共聚物，羧甲基纖維素和聚碳酸酯，這些在日本專利申請公開8-338913的說明書的第W022]段中有描述?？梢詫⒐柰榕悸?lián)劑用作所述聚合物。優(yōu)選水溶性聚合物(例如聚(N-羥甲基丙烯酰胺)，羧甲基纖維素，明膠，聚乙烯醇和改性聚乙烯醇)；更優(yōu)選明膠，聚乙烯醇和改性聚乙烯醇；并且最優(yōu)選聚乙烯醇和改性聚乙烯醇。特別優(yōu)選組合使用彼此具有不同聚合度的兩種聚乙烯醇或改性聚乙烯醇。聚乙烯醇的皂化度優(yōu)選為70至100%，并且更優(yōu)選80至100%。聚乙烯醇的聚合度優(yōu)選為100至5000。具有取向液晶分子的功能的側(cè)鏈通常具有作為官能團(tuán)的疏水性基團(tuán)。該官能團(tuán)的具體類型根據(jù)液晶分子的類型和所需取向狀態(tài)而確定。例如，通過共聚改性，鏈轉(zhuǎn)移改性或嵌段聚合改性，可以將改性基團(tuán)引入到改性聚乙烯醇中。改性基團(tuán)的實(shí)例包括親水性基團(tuán)(例如羧酸基，磺基，膦酸基，氨基，銨基，酰胺基，硫醇基等)，碳數(shù)為10至100的烴基，用氟原子取代的烴基，硫醚基，可聚合基團(tuán)(不飽和可聚合基團(tuán)，環(huán)氧基，吖丙啶基等)，和烷氧基甲硅烷基(三烷氧基，二烷氧基，一烷氧基等)。這些改性聚乙烯醇化合物的具體實(shí)例包括例如，在日本專利申請公開2000-155216第至段，日本專利申請公開2002-62426第至段等中所述的那些。將具有可交聯(lián)官能團(tuán)的側(cè)鏈與取向膜的聚合物的主鏈結(jié)合，或?qū)⒖山宦?lián)官能團(tuán)引入到具有取向液晶分子功能的側(cè)鏈中，取向膜的聚合物可以與在光學(xué)各向異性層中含有的多官能單體共聚。結(jié)果，不僅多官能單體彼此牢固地結(jié)合，而且取向膜的聚合物彼此牢固地結(jié)合并且多官能單體和取向膜的聚合物通過共價(jià)鍵彼此牢固地結(jié)合。因此，通過將可交聯(lián)官能團(tuán)引入到取向膜的聚合物中能夠顯著地改善光學(xué)補(bǔ)償片的強(qiáng)度。取向膜的聚合物的可交聯(lián)官能團(tuán)優(yōu)選包含可聚合基團(tuán)，該可聚合基團(tuán)類似于多官能單體中的可聚合基團(tuán)。具體地，可交聯(lián)官能團(tuán)包括例如在日本專利申請公開2000-155216第W080]至W100]段中所述的那些。除了上述可交聯(lián)官能團(tuán)外，還可以使用交聯(lián)劑交聯(lián)用于取向膜的聚合物。上述的交聯(lián)劑包括醛，N-羥甲基化合物，二噁烷衍生物，通過活化羧基而起作用的化合物，活性乙烯基化合物，活性鹵素化合物，異噁唑和二醛淀粉?？梢园殡S使用兩種以上類型的交聯(lián)劑。具體地，所述交聯(lián)劑包括例如，在日本專利公開2002-62426第W023]至段中所述的化合物。優(yōu)選的交聯(lián)劑是具有高反應(yīng)性活性的醛，并且特別是戊二醛。相對于上述聚合物，所添加的交聯(lián)劑的量優(yōu)選為0.1至20質(zhì)量％，并且還優(yōu)選為0.5至15質(zhì)量％。殘留在取向膜中的未反應(yīng)交聯(lián)劑的量優(yōu)選為1.0質(zhì)量％以下，并且還優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以下。由此制備出的取向膜顯示充分的耐久性，從而即使當(dāng)長時(shí)間用于液晶顯示裝置或在高溫和高濕的氣氛中長時(shí)間放置之后也不出現(xiàn)網(wǎng)狀物?；旧?，可以由如下方法形成取向膜將含有作為形成取向膜的材料的上述聚合物和交聯(lián)劑的液體涂布在透明載體構(gòu)件上，然后通過加熱(交聯(lián))內(nèi)容物而干燥液體，以及將干燥的膜進(jìn)行摩擦處理。如上所述，交聯(lián)反應(yīng)可以在將液體涂敷到透明載體構(gòu)件上之后的任何時(shí)間進(jìn)行。在將水溶性聚合物如聚乙烯醇用作形成取向膜的材料時(shí)，涂敷液優(yōu)選為具有消泡功能的有機(jī)溶劑(例如甲醇)和水的混合溶劑。水甲醇按質(zhì)量比計(jì)算的比率優(yōu)選為0100至991，并且還優(yōu)選為0100至919。因而，可以抑制氣泡的產(chǎn)生，并且顯著降低取向膜中的缺陷以及進(jìn)一步在光學(xué)各向異性層的表面上的缺陷。用于取向膜的優(yōu)選涂敷方法是旋涂法、浸涂法、幕涂法、擠涂法、棒涂法或輥涂法。特別優(yōu)選的涂敷方法是棒涂法。干燥后的膜的厚度優(yōu)選為0.1至10μm?？梢酝ㄟ^在20°C至110°C加熱而干燥膜。為了形成充分的交聯(lián)，干燥溫度優(yōu)選為60°c至ioo°c，并且特別優(yōu)選為80°C至100°C。干燥時(shí)間可以為1分鐘至36小時(shí)，但是優(yōu)選為1分鐘至30分鐘。pH還優(yōu)選被設(shè)置在對于所用的交聯(lián)劑的最佳值。在使用戊二醛時(shí)，PH優(yōu)選為4.5至5.5，并且特別優(yōu)選為5。將取向膜設(shè)置在透明載體構(gòu)件或上述底涂層上。通過如上所述交聯(lián)聚合物層，并且將膜的表面進(jìn)行摩擦處理，可以形成取向膜。被廣泛采用作為用于取向IXD中的液晶的處理工藝的處理方法都可以被應(yīng)用于上述的摩擦處理。具體地，可以使用通過在確定方向上，用紙、紗布、氈、橡膠、尼龍、聚酯纖維等摩擦取向膜的表面而取向分子的方法。通常地，所述方法可以通過使用其上已經(jīng)均勻地植入均勻長度和厚度的纖維的布摩擦表面幾次而進(jìn)行。在工業(yè)上進(jìn)行時(shí)，通過使旋轉(zhuǎn)的摩擦輥與設(shè)置有偏振層并且正在被輸送的膜接觸而進(jìn)行摩擦處理。優(yōu)選控制摩擦輥，使得圓度、圓柱度和偏差(偏心率)為30μπι以下。膜與摩擦輥的搭接角優(yōu)選為0.1°至90°。但是，如日本專利申請公開8-160430中所述，通過將膜以360°以上圍繞摩擦輥卷繞，則可以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的摩擦處理。膜的輸送速度優(yōu)選為1至lOOm/min。優(yōu)選地，摩擦角度適宜地選自O(shè)至60°的范圍。當(dāng)將取向膜用于液晶顯示裝置時(shí)，摩擦角優(yōu)選為40°至50°，并且特別優(yōu)選45°。由此獲得的取向膜的膜厚度優(yōu)選在0.1至10μm的范圍內(nèi)。接著，將在取向膜光上的學(xué)各向異性層的液晶分子取向。然后，必要時(shí)，通過使用于取向膜的聚合物與包含在光學(xué)各向異性層中的多官能單體反應(yīng)，或通過使用交聯(lián)劑，使用于取向膜的聚合物交聯(lián)。用于光學(xué)各向異性層的液晶分子包括棒狀液晶分子和盤狀液晶分子。棒狀液晶分子和盤狀液晶分子可以是高分子量液晶或低分子量液晶，并且還包括低分子液晶被交聯(lián)之后不顯示液晶性的液晶。(B-2)棒狀液晶分子優(yōu)選使用的棒狀液晶分子是偶氮甲堿類，氧化偶氮類，氰基聯(lián)苯類，氰基苯基酯類，苯甲酸酯類，環(huán)己烷羧酸苯基酯類，氰基苯基環(huán)己烷類，氰基-取代的苯基嘧啶類，烷氧基-取代的苯基嘧啶類，苯基二噁烷類，二苯乙炔類(tolans)和鏈烯基環(huán)己基芐腈類。棒狀液晶分子還包括金屬配合物。也可以將在重復(fù)單元中包含棒狀液晶分子的液晶聚合物用作棒狀液晶分子。換言之，棒狀液晶分子可以與(液晶)聚合物結(jié)合。棒狀液晶分子描述于如下文獻(xiàn)中季刊(Quarterlymagazine)TheElementsofChemistry22卷(1994)中的第4、7和11章、由日本化學(xué)會(huì)(TheChemicalSocietyofJapan)編輯的液晶化學(xué)(TheChemistryofLiquidCrystals)以及由142ndCommitteeofJapanSocietyforthePromotionofScience編輯的液晶器件手冊的第3章。棒狀液晶分子的雙折射優(yōu)選為在0.001至0.7范圍內(nèi)。為了使取向狀態(tài)固定，棒狀液晶分子優(yōu)選在其內(nèi)具有可聚合基團(tuán)?？删酆匣鶊F(tuán)優(yōu)選是可自由基聚合的不飽和基團(tuán)或可陽離子聚合的基團(tuán)，并且具體地包括例如在日本專利申請公開2002-62427的說明書中的第W064]至W086]段中所述的可聚合基團(tuán)和可聚合液晶化合物。(B-3)盤狀液晶分子盤狀(碟形(discotic))液晶分子包括由C.Destrade等在Mol.Cryst.(1981)的71卷111頁的研究報(bào)告中描述的苯衍生物；由C.Destrade等在Mol.Cryst.(1985)122卷，141頁和Physicslett，A(1990)，78卷，82頁的研究報(bào)告中所述的truxene衍生物；由B.Kohne等在Angew.Chem.(1984)96卷，70頁的研究報(bào)告中所述的環(huán)己烷衍生物；和由J.M.Lehn等在J.Chem.Commun.(1985)，1794頁的研究報(bào)告中和由J.Zhang等在L.Am.Chem.Soc.(1994)116卷，2655頁的研究報(bào)告中所述的氮雜冠-基和苯基乙炔-基大環(huán)類。盤狀液晶分子還包括具有顯示液晶性的結(jié)構(gòu)的化合物，其中直鏈烷基、烷氧基和取代的苯甲酰氧基取代在分子中心的母核的側(cè)鏈，以徑向包圍母核。分子或分子簇優(yōu)選是可以被賦予固定取向的具有旋轉(zhuǎn)對稱的化合物。最后包含在由盤狀液晶分子形成的光學(xué)各向異性層中的化合物不一定必須是盤狀液晶分子，而且還包括例如這樣的化合物其中低分子量的盤狀液晶分子具有產(chǎn)生因熱或光引起反應(yīng)的基團(tuán)，并且因而通過熱或光聚合或交聯(lián)，從而形成具有高分子量并且已經(jīng)失去液晶性的分子。盤狀液晶分子的優(yōu)選實(shí)例描述于日本專利申請公開8-50206中。此外，盤狀液晶分子的聚合描述于日本專利申請公開8-27284中。為了通過聚合固定盤狀液晶分子，必須將可聚合基團(tuán)作為取代基結(jié)合至盤狀液晶分子的盤狀核中。盤狀核和可聚合基團(tuán)優(yōu)選是彼此通過結(jié)合基團(tuán)結(jié)合的化合物。因而，盤狀液晶分子即使在聚合反應(yīng)中也可以保持取向狀態(tài)。所述化合物包括例如描述于日本專利申請公開2000-155216的說明書中的第W151]至W168]段中的化合物等。在雜取向中，由盤狀液晶分子的長軸(盤面)和偏振膜的平面所形成的角度在光學(xué)各向異性層的深度方向上，隨著離偏振膜平面距離的增大而增大或減小。該角度優(yōu)選隨著距離的增大而減小。角度的變化方式可以是連續(xù)增大，連續(xù)減小，間歇增大，間歇減小，同時(shí)包括連續(xù)增大和連續(xù)減小的變化，或包括增大和減小的間歇變化。間歇變化包括在厚度方向的中間傾角不變化的區(qū)域。即使角度不變化的區(qū)域包含在中間，該角度也可以總體上增加或減小。而且，該角度優(yōu)選連續(xù)變化。通常，在偏振膜側(cè)的盤狀液晶分子的長軸的平均方向可以通過以下方法調(diào)節(jié)選擇盤狀液晶分子或選擇取向膜的材料，或選擇摩擦處理的方法。通常地，在表面?zhèn)?在空氣側(cè))的盤狀液晶分子的長軸(在盤平面內(nèi))的方向可以通過以下方法調(diào)節(jié)選擇盤狀液晶分子或選擇與盤狀液晶分子一起使用的添加劑的類型。與盤狀液晶分子一起使用的添加劑的實(shí)例包括增塑劑，表面活性劑，可聚合單體和聚合物。在長軸的取向方向的變化程度也可以通過類似于以上描述選擇液晶分子和添加劑來調(diào)節(jié)。(B-4)光學(xué)各向異性層的其它組成通過與上述液晶分子伴隨使用增塑劑、表面活性劑、可聚合單體等，可以改善涂布膜的均勻性、膜的強(qiáng)度和液晶分子的取向等。優(yōu)選地，這些組成優(yōu)選具有與液晶分子的相容性，并且優(yōu)選可以改變液晶分子的傾角，或不抑制液晶分子的取向?？删酆蠁误w包括可自由基聚合的化合物和可陽離子聚合的化合物。優(yōu)選的可聚合單體是多官能的可自由基聚合單體，并且可以與上述含可聚合基團(tuán)的液晶化合物共聚。可聚合單體包括例如在日本專利申請公開2002-296423的說明書中第W018]至W020]段描述的可聚合單體。上述化合物的加入量通常在相對于盤狀液晶分子量的1至50質(zhì)量％的范圍內(nèi)，并且優(yōu)選在5至30質(zhì)量％的范圍內(nèi)。表面活性劑包括常規(guī)熟知的化合物，并且特別優(yōu)選氟基化合物。具體地，表面活性劑包括例如在日本專利申請公開2001-330725的說明書中第W028]至W056]段中所述的化合物。優(yōu)選地，與盤狀液晶分子一起使用的聚合物可以改變盤狀液晶分子的傾角。所述聚合物的實(shí)例可以包括纖維素酯。纖維素酯的優(yōu)選實(shí)例包括日本專利申請公開2000-155216的說明書中第W178]段中所述的纖維素酯。為了使上述聚合物不抑制液晶分子的取向，所述聚合物的加入量優(yōu)選在相對于液晶分子量的0.1至10質(zhì)量％范圍內(nèi)，并且更優(yōu)選在0.1至8質(zhì)量％范圍內(nèi)。盤狀液晶分子的碟狀向列液晶相和固相之間的轉(zhuǎn)變溫度優(yōu)選為70至300°C，并且更優(yōu)選為70至170°C。(B-5)光學(xué)各向異性層的形成通過將含有液晶分子，必要時(shí)含有稍后描述的可聚合引發(fā)劑和任意成分的涂布液涂布到取向膜上，可以形成光學(xué)各向異性層。制備涂布液時(shí)，優(yōu)選采用有機(jī)溶劑作為所使用的溶劑。有機(jī)溶劑的實(shí)例包括酰胺(例如N，N-二甲基甲酰胺)、亞砜(例如二甲亞砜)、雜環(huán)化合物(例如吡啶)、烴(例如苯和己烷)、烷基鹵(例如，氯仿，二氯甲烷和四氯乙烷)、酯(例如，乙酸甲酯和乙酸丁酯)、酮(例如，丙酮和甲基乙基酮)、和醚(例如，四氫呋喃和1，2_二甲氧基乙烷)。優(yōu)選的有機(jī)溶劑是烷基鹵和酮?？梢园殡S使用兩種以上的有機(jī)溶劑?？梢杂靡阎椒?例如繞線棒涂布法，擠涂法，直接照相凹板涂布法，反式照相凹板涂布法和模涂法)涂敷所述的涂布液。光學(xué)各向異性層的厚度優(yōu)選為0.1至20μm，還優(yōu)選為0.5至15μm，并且最優(yōu)選為1至10μm。(B-6)液晶分子取向狀態(tài)的固定已經(jīng)取向的液晶分子可以在保持取向狀態(tài)的情況下被固定。優(yōu)選通過聚合反應(yīng)固定液晶分子。聚合反應(yīng)包括使用熱聚合引發(fā)劑的熱聚合反應(yīng)和使用光聚合引發(fā)劑的光聚合反應(yīng)。優(yōu)選光聚合反應(yīng)。光聚合引發(fā)劑的實(shí)例包括α_羰基化合物(描述于美國專利2367661和美國專利2367670各自的說明書中)；偶姻醚(描述于美國專利2448828的說明書中)；α-烴取代的芳族偶姻化合物(美國專利2722512的說明書中)；多核醌化合物(描述于美國專利3046127和2951758各自的說明書中)；三芳基咪唑二聚體和對氨基苯基酮的組合(描述于美國專利3549367的說明書中)；吖啶化合物和吩嗪化合物(描述于日本專利申請公開60-105667和美國專利4239850的說明書中)；和噁二唑化合物(描述于美國專利4212970的說明書中)。光聚合引發(fā)劑的使用量優(yōu)選為在涂布液固含量的0.01至20質(zhì)量％的范圍內(nèi)，并且更優(yōu)選在0.5至5質(zhì)量％的范圍內(nèi)。優(yōu)選使用紫外光作為用于通過輻照液晶分子而使液晶分子聚合的光。輻照能優(yōu)選在20mJ/cm2至50J/cm2的范圍內(nèi)，更優(yōu)選在20至5000mJ/cm2的范圍內(nèi)，并且還更優(yōu)選在100至800mJ/cm2的范圍內(nèi)。為了促進(jìn)光聚合反應(yīng)，可以在加熱條件下用光輻照液晶分子?？梢栽诠鈱W(xué)各向異性層上設(shè)置保護(hù)層。也優(yōu)選將這種光學(xué)補(bǔ)償膜與偏振層結(jié)合。具體地，通過用上述光學(xué)各向異性層用的涂布液涂布到偏振膜的表面上，來形成光學(xué)各向異性層。結(jié)果，可以在偏振膜和光學(xué)各向異性層之間不設(shè)置聚合物膜的情況下，制備薄偏振片，該薄偏振片中由于偏振膜的尺寸變化所產(chǎn)生的應(yīng)力(扭變X橫截面積X彈性模量)小。當(dāng)將根據(jù)本發(fā)明的偏振片設(shè)置在大尺寸的液晶顯示器上時(shí)，該液晶顯示裝置可以顯示高質(zhì)量的圖像，而不產(chǎn)生諸如漏光之類的問題。優(yōu)選將，偏振層和光學(xué)補(bǔ)償層進(jìn)行拉伸，使得由偏振層和光學(xué)補(bǔ)償層形成的傾角可以與由層壓在構(gòu)成LCD的液晶元件的兩側(cè)上的兩個(gè)偏振片的傳輸軸和液晶元件的縱向方向或橫向方向所形成的角度相匹配。通常的傾角為45°。然而，近年來，在裝置中的已經(jīng)開發(fā)出的透射型、反射型和半透射型的IXD的傾角不一定必須是45°，因此，優(yōu)選根據(jù)IXD的設(shè)計(jì)，任意地調(diào)節(jié)拉伸方向。(B-7)液晶顯示裝置下面，將描述使用這種光學(xué)補(bǔ)償膜的每一種液晶模式。(TN-模式液晶顯示裝置)TN-模式液晶顯示裝置被最廣泛地用作彩色TFT液晶顯示裝置，并且被描述于大量的文件中。在TN-模式處于黑色顯示狀態(tài)時(shí)，在該液晶元件中的分子處于這樣的取向狀態(tài)，即棒狀液晶分子在元件的中心部分站立，而棒狀液晶分子在元件的襯底附近平躺。(0CB-模式液晶顯示裝置)OCB-模式液晶裝置是彎曲取向模式的液晶元件，其使在液晶元件上部和下部中的棒狀液晶分子以基本上相反的方向(對稱地)取向。使用彎曲取向模式中的液晶元件的液晶顯示裝置公開于美國專利4583825和5410422各自的說明書中。因?yàn)樵谝壕г纳喜亢拖虏恐械陌魻钜壕Х肿訉ΨQ取向，因此在彎曲取向模式中的液晶元件具有光學(xué)自補(bǔ)償功能。由于此原因，此液晶模式也稱作OCB(光學(xué)補(bǔ)償彎曲)液晶模式。類似于TN模式，當(dāng)OCB模式在黑色顯示狀態(tài)時(shí)，在液晶元件中的分子處于這樣的取向狀態(tài)，即，棒狀液晶分子在元件的中心部分站立，而棒狀液晶分子在元件的襯底附近平躺。(VA-模式液晶顯示裝置)VA-模式液晶顯示裝置具有這樣的特征在沒有施加電壓時(shí)，使棒狀液晶分子基本上垂直取向。VA模式的液晶元件包括(1)狹義上的VA模式的液晶元件，其在沒有施加電壓時(shí)，使棒狀液晶分子基本上垂直取向，而在施加電壓時(shí)，使它們基本上水平取向(日本專利申請公開2-176625中有描述)；而且，⑵(MVA模式)的液晶元件，其中VA模式是多域的，以拓寬視角(描述于SID97，DigestofTech.Papers(Proceedings)28(1997)845)；(3)(n-ASM模式)的液晶元件，其在沒有施加電壓時(shí)，使棒狀液晶分子進(jìn)行基本上垂直取向，而在施加電壓時(shí)，它們以扭轉(zhuǎn)的多構(gòu)域系統(tǒng)取向(描述于Proceedings58至59(1998)，Symposium,JapaneseLiquidCrystalSociety)；和(4)SURVAIVAL模式的液晶元件(LCDinternational98中提出)。(IPS-模式液晶顯示裝置)IPS-模式液晶顯示裝置具有這樣的特征在沒有施加電壓時(shí)，使棒狀液晶分子基本上在平面內(nèi)水平取向，并且通過改變電壓的施加和不施加之間的取向方向來切換液晶的取向方向。具體可應(yīng)用的IPS-模式液晶顯示裝置包括在日本專利申請公開2004-365941、日本專利申請公開2004-12731、日本專利申請公開2004-215620、日本專利申請公開2002-221726、日本專利申請公開2002-55341和日本專利申請公開2003-195333中所述的那些。(其它液晶顯示裝置)在ECB-模式以及STN-模式液晶顯示裝置中，也可以以上述相同模式中的相同概念進(jìn)行光學(xué)補(bǔ)償液晶分子。(C)抗反射層(抗反射膜)的添加通常，抗反射膜通過以下方式形成在透明襯底上設(shè)置作為防玷污層的低折射率層，和至少一個(gè)比低折射率層具有更高折射率的層(具體地，高折射率層和/或中等折射率層)。通過順序?qū)盈B具有不同折射率的無機(jī)化合物(金屬氧化物等)的透明薄膜而形成多層膜的方法包括化學(xué)氣相沉積(CVD)法；物理氣相沉積(PVD)法；和通過溶膠-凝膠法，使用金屬化合物如金屬醇鹽形成金屬氧化物的膠體粒子的膜，并且將所形成的膜進(jìn)行后處理以形成薄膜的方法(紫外光輻照日本專利申請公開9-157855，和等離子體處理日本專利申請公開2002-327310)。另一方面，提出了將通過涂敷和層疊其中基體中分散有無機(jī)粒子的薄膜而形成的各種抗反射膜作為可以以高生產(chǎn)率制備的抗反射膜?？狗瓷淠み€包括由通過上述的這種涂敷技術(shù)所制備出的抗反射膜構(gòu)成的抗反射膜，以及由其上形成的頂層表面具有精細(xì)的凹-凸形狀以獲得防眩性質(zhì)的抗反射層所構(gòu)成的抗反射膜。本發(fā)明的熱塑性膜可以被應(yīng)用于上述的任何方法中，但是特別優(yōu)選被應(yīng)用于涂敷液體的方法(涂敷型)。(C-I)涂敷型抗反射膜的層結(jié)構(gòu)抗反射膜的層結(jié)構(gòu)包括依次在襯底上的至少一個(gè)中等折射率層、高折射率層和低折射率層(最外層)，并且設(shè)計(jì)使得該抗反射膜具有滿足下列關(guān)系的折射率高折射率層的折射率>中等折射率層的折射率>透明載體構(gòu)件的折射率>低折射率層的折射率?？狗瓷淠た梢栽谕该鬏d體構(gòu)件和中等折射率層之間安置有硬涂層。而且，抗反射膜可以由中等折射率的硬涂層、高折射率層和低折射率層形成。實(shí)例包括日本專利申請公開8-122504、日本專利申請公開8-110401、日本專利申請公開10-300902、日本專利申請公開2002-243906和日本專利申請公開2000-111706。此外，每一個(gè)層都可以具有其它功能。實(shí)例包括具有防污性質(zhì)的低折射率層和具有抗靜電性質(zhì)的高折射率層(例如，日本專利申請公開10-206603、日本專利申請公開2002-243906等)?？狗瓷淠さ撵F度優(yōu)選為5%以下，并且還優(yōu)選為3%以下。根據(jù)JIS(日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn))K5400的鉛筆硬度試驗(yàn)，膜的強(qiáng)度優(yōu)選為H以上，還優(yōu)選2H以上，并且最優(yōu)選3H以上。(C-2)高折射率層和中等折射率層抗反射膜中具有高折射率的層由可固化膜形成，所述的可固化膜至少含有平均粒子尺寸為IOOnm以下以及高折射率的無機(jī)化合物超細(xì)粒子；和基質(zhì)粘合劑。具有高折射率的無機(jī)化合物微粒包括折射率為1.65以上且優(yōu)選折射率為1.9以上的無機(jī)化合物。無機(jī)化合物包括例如，Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等的氧化物；和含有這些金屬原子的復(fù)合氧化物。形成這些超細(xì)粒子的方法包括用表面處理劑(例如，硅烷偶聯(lián)劑等，日本專利申請公開11-295503、日本專利申請公開11-153703和日本專利申請公開2000-9908；和陰離子化合物或有機(jī)金屬偶聯(lián)劑日本專利申請公開2001-310432)處理粒子表面；使用具有高折射率的粒子作為核制備核殼結(jié)構(gòu)(日本專利申請公開2001-166104等)；和伴隨使用特定的分散劑(例如，日本專利申請公開11-153703，美國專利6210858B1，日本專利申請公開2002-2776069等)。用于形成基質(zhì)的材料包括常規(guī)熟知的熱塑性樹脂和可固化樹脂膜。此外，優(yōu)選的材料是包含含有至少兩個(gè)可自由基聚合和/或可陽離子聚合的基團(tuán)的多官能化合物的組合物，以及至少一種選自含有可水解基團(tuán)的有機(jī)金屬化合物的組合物及所述有機(jī)金屬化合物的部分縮合物的組合物。實(shí)例包括描述于日本專利申請公開2000-47004、日本專利申請公開2001-315242、日本專利申請公開2001-31871、日本專利申請公開2001-296401等中的化合物。此外，還優(yōu)選使用由膠體金屬氧化物得到的可固化膜，所述的膠體金屬氧化物是由金屬醇鹽的水解縮合物得到的和由金屬醇鹽組合物的水解縮合物得到的?？晒袒だ缭谌毡緦＠暾埞_2001-293818中有描述。高折射率層的折射率通常為1.70至2.20。高折射率層的厚度優(yōu)選為5nm至10μm,并且還優(yōu)選IOnm至1μm。將中等折射率層的折射率調(diào)節(jié)至在低折射率層的折射率和高折射率層的折射率之間的值。中等折射率層的折射率優(yōu)選為1.50至1.70。(C-3)低折射率層低折射率層通過在高折射率層上順序?qū)訅核鰧佣纬?。低折射率層的折射率?.20至1.55。該折射率優(yōu)選為1.30至1.50。優(yōu)選地，將低折射率層形成為具有耐擦傷性和防玷污性的最外層。作為極大地提高耐擦傷性的手段，有效的是賦予表面滑動(dòng)性，并且可以對最外層應(yīng)用形成向其中引入了常規(guī)熟知的硅或氟的薄膜層的手段。含氟化合物的折射率優(yōu)選為1.35至1.50。該折射率更優(yōu)選為1.36至1.47。含氟化合物優(yōu)選是包括可交聯(lián)或可聚合官能團(tuán)的化合物，其含有在35質(zhì)量％至80質(zhì)量％范圍的氟原子。所述含氟化合物包括例如，在日本專利申請公開9-222503的說明書中第W018]至W026]段，日本專利申請公開11-38202的說明書第W019]至W030]段，日本專利申請公開2001-40284的說明書第W027]至W028]段，日本專利申請公開2000-284102等中所述的化合物。優(yōu)選的硅化合物是這樣的化合物它具有聚硅氧烷結(jié)構(gòu)并且在聚合物鏈中具有可固化的官能團(tuán)或可聚合的官能團(tuán)以在膜中形成橋聯(lián)結(jié)構(gòu)(bridgedstructure)。實(shí)例包括反應(yīng)性硅(例如Silaplane，由ChissoCorporation制造)；和在兩端各自具有硅醇基的聚硅氧烷(日本專利申請公開11-258403等)。具有可交聯(lián)或可聚合基團(tuán)的含氟聚合物和/或含硅氧烷聚合物的交聯(lián)或聚合反應(yīng)優(yōu)選通過如下進(jìn)行將用于形成最外層的含有聚合引發(fā)劑、敏化劑等的涂敷組合物涂敷到高折射率層上，并且在涂敷的同時(shí)或在涂敷之后，通過使用光輻照涂敷的組合物或通過加熱涂敷的組合物。還優(yōu)選溶膠-凝膠固化膜，它是通過由在催化劑共存在下，經(jīng)由縮合反應(yīng)，將有機(jī)金屬化合物比如硅烷偶聯(lián)劑與含有特殊含氟烴基的另外的硅烷偶聯(lián)劑一起固化而獲得的。實(shí)例包括含有多氟烷基的硅烷化合物或其部分水解縮合物(描述于日本專利申請公開58-142958、日本專利申請公開58-147483、日本專利申請公開58-147484、日本專利申請公開9-157582、日本專利申請公開11-106704等中的化合物)，以及含有作為含氟長鏈基團(tuán)的聚“全氟烷基醚”基的甲硅烷基化合物(描述于日本專利申請公開2000-117902、日本專利申請公開2001-48590、日本專利申請公開2002-53804等中的化合物)。低折射率層可以含有填料(例如低折射率的無機(jī)化合物微粒，其初級粒子的平均直徑為1至150nm，這樣的粒子比如二氧化硅(硅石)和含氟粒子(氟化鎂，氟化鈣和氟化鋇)；在日本專利申請公開11-3820中的第W020]至W038])段中所述的有機(jī)微粒等)、硅烷偶聯(lián)劑、滑動(dòng)劑和表面活性劑，這些作為不同于上述物質(zhì)的添加劑。在低折射率層被設(shè)置作為最外層的下層時(shí)，可以用氣相法(真空沉積法、濺射法、離子鍍敷法、等離子體CVD法等)形成低折射率層。從能夠低廉地制備低折射率層考慮，優(yōu)選涂敷法。低折射率層的膜厚度優(yōu)選為30至200nm，還優(yōu)選為50至150nm，并且最優(yōu)選為60至120nm。(C-4)硬涂層將硬涂層安置在透明載體構(gòu)件的表面上，以賦予抗反射膜物理強(qiáng)度。特別優(yōu)選將硬涂層安置在透明載體構(gòu)件和上述高折射率層之間。硬涂層優(yōu)選通過具有通過光和/或熱固化的性質(zhì)的化合物的交聯(lián)反應(yīng)或聚合反應(yīng)而形成。上述的可固化官能團(tuán)優(yōu)選是可光聚合官能團(tuán)，并且含有可水解官能團(tuán)的有機(jī)金屬化合物優(yōu)選是有機(jī)烷氧基甲硅烷基化合物。這些化合物的具體實(shí)例包括如在高折射率層中所述的同樣的化合物。硬涂層的具體組成包括例如描述于日本專利申請公開2002-144913、日本專利申請公開2000-9908和國際公布WO0/46617中描述的組成。高折射率層也可以用作硬涂層。在此情況下，優(yōu)選的是，使用在高折射率層中所述的技術(shù)，使得微粒精細(xì)地分散在基質(zhì)中以制備包含在硬涂層中的分散微粒，從而形成所述硬涂層。通過使防眩層包含平均粒子尺寸為0.2至10μm的粒子以賦予硬涂層防眩功能，該硬涂層也可以用作防眩層(稍后描述)。硬涂層的膜厚度可以根據(jù)應(yīng)用而使當(dāng)?shù)卦O(shè)計(jì)。硬涂層的膜厚度優(yōu)選為0.2至10μm,并且更優(yōu)選為0.5至7μm。在根據(jù)JISK5400的鉛筆硬度試驗(yàn)中，硬涂層的強(qiáng)度優(yōu)選為H以上，更優(yōu)選2H以上，并且最更優(yōu)選3H以上。此外，從在根據(jù)JISK5400規(guī)定的泰氏試驗(yàn)(Tabertest)的試驗(yàn)之前和之后的測試片中測量出的磨耗損失優(yōu)選可能小。(C-5)前向散射層安置前向散射層，以使膜被應(yīng)用于液晶顯示裝置的情況下，觀眾向上、向下、向右和向左傾斜視角時(shí)，產(chǎn)生改善對構(gòu)件的視角的效果。如果采用其中分散有不同折射率的細(xì)粒的硬涂層，則前向散射層可以起著上述硬涂層前的作用。例如，前向散射層包括在日本專利申請公開11-38208中所述的規(guī)定了前向散射系數(shù)的前向散射層；在日本專利申請公開2000-199809中所述的前向散射層，其中透明樹脂和微粒的相對折射率被設(shè)定特定范圍內(nèi)；和在日本專利申請公開2002-107512中所述的前向散射層，其中規(guī)定霧度值為40%以上。(C-6)其它層在透明載體構(gòu)件上，可以安置不同于上述層的底漆層、抗靜電層、底涂層、保護(hù)層寸。(C-7)涂敷方法可以采用以下方法將每一種組合物涂敷到所述層上，形成抗反射膜中的每一層浸涂法，氣刀涂布法，幕涂法，輥涂法，繞線棒涂布法，照相凹板涂布法，微型照相凹板涂布法和擠涂法(美國專利2681294的說明書)。(C-8)防眩功能抗反射膜還可以具有散射來自外部的光的防眩功能。抗反射膜可以通過在其表面上形成凹-凸來得到防眩功能。在抗反射膜具有防眩功能時(shí)，抗反射膜的霧度優(yōu)選為3至30%，更優(yōu)選5至20%，并且最優(yōu)選7至20%。作為在抗反射膜的表面上形成凹_凸的方法，可以采用任何方法，只要該方法可以充分地保持這些表面形狀即可。實(shí)例包括例如，在低折射率層中添加微粒，以在膜的表面上形成不凹-凸的方法(例如日本專利申請公開2000-271878等)；將少量(0.1至50質(zhì)量％)較大粒子(粒子尺寸為0.05至2μm)加入到在低折射率層的下層(高折射率層，中等折射率層或硬涂層)，并且在保持這些形狀同時(shí)，在膜上形成低折射率層，從而形成表面凹凸膜的方法(例如日本專利申請公開2000-281410、日本專利申請公開2000-95893、日本專利申請公開2001-100004、日本專利申請公開2001-281407等)；以及，在涂布頂層之后，將凹-凸形狀物理地轉(zhuǎn)印至頂層的表面，以形成頂層(防玷污層)的方法(例如日本專利申請公開63-278839、日本專利申請公開11-183710、日本專利申請公開2000-275401中所述的壓花方法等)。實(shí)施例(1)環(huán)烯烴樹脂(i)環(huán)烯烴樹脂-A(開環(huán)聚合物)通過如下獲得聚合物溶液向6-甲基-1，4，5，8-二甲醇-1，4，4a，5，6，7，8，8a_八氫化萘中添加10份的15%三乙基鋁的環(huán)己烷溶液、5份的三乙胺和10份的20%的四氯化鈦的環(huán)己烷溶液，它們是聚合催化劑的溶液；在環(huán)己烷中將這些化合物進(jìn)行開環(huán)聚合；以及使用鎳催化劑將所得的開環(huán)聚合物氫化。通過將聚合物溶液在異丙醇中固化并且干燥固體而獲得粉末樹脂。樹脂的數(shù)均分子量為40，000，氫化率為99.8%以上，并且Tg為139°C。(ii)環(huán)烯烴樹脂-B(開環(huán)聚合物)通過向內(nèi)部用氮?dú)庵脫Q并且加熱至60°C的反應(yīng)容器中，添加100質(zhì)量份的8-甲基-8-甲氧羰基四環(huán)[4.4.0.12.5,17.10]_3_十二碳烯(特定單體B)、150質(zhì)量份的5_(4-聯(lián)苯羰基氧基)雙環(huán)[2.2.1]庚-2-烯(特定單體A)、18份的1-己烯(分子量改性齊U)和750質(zhì)量份的甲苯，以制備溶液。隨后，通過如下獲得開環(huán)聚合物的溶液向該反應(yīng)容器的所述溶液中，添加0.62質(zhì)量份的三乙基鋁的甲苯溶液(1.5mol/l)和3.7質(zhì)量份的已經(jīng)被叔丁醇和甲醇改性的六氯化鎢(叔丁醇甲醇鎢=0.35mol0.3molImol)的甲苯溶液(濃度為0.05mol/l)，它們?yōu)榫酆洗呋瘎?；并且?0°C加熱和攪拌體系3小時(shí)，以引起其中的開環(huán)聚合反應(yīng)。在聚合反應(yīng)中的聚合轉(zhuǎn)化率為97%，所得開環(huán)聚合物的特性粘度(η特性)為0.65dl/g，該特性粘度在30°C的氯仿中測量。通過將4，000質(zhì)量份由此獲得的開環(huán)聚合物的溶液添加到高壓釜中，并且向該溶液中添加0.48份的RuHCl(CO)[P(C6H5)3]3以制備出溶液，并且將溶液在氫氣壓為lOOkg/cm2以及反應(yīng)溫度為165°C的條件下加熱和攪拌3小時(shí)以引起其中的氫化反應(yīng)。將所得反應(yīng)溶液(氫化聚合物的溶液)冷卻，然后釋放氫氣的壓力。通過向大量的甲醇中添加反應(yīng)溶液，分離并且收集凝固物，并且干燥該凝固物，以獲得氫化的聚合物(特定的環(huán)狀聚烯烴基樹脂)。作為使用400MHz和IH-NMR測量由此獲得的氫化聚合物的烯屬不飽和鍵的氫化比率的結(jié)果，該測量值為99.9%。作為根據(jù)聚苯乙烯、使用GPC法(溶劑四氫呋喃)測量數(shù)均分子量(Mn)和重均分子量(Mw)的結(jié)果，數(shù)均分子量(Mn)為39，000，重均分子量(Mw)為126，000，并且分子量分布(Mw/Mn)為3.23。此外，Tg為IlO0C0(iii)環(huán)烯烴樹脂-C(加成聚合物)在日本專利申請公開2005-330465的實(shí)施例2中描述的環(huán)烯烴化合物(Tg為1270C)。(iv)環(huán)烯烴樹脂-D(加成聚合物)在國際專利申請的日本國家公布8-507800的實(shí)施例1中描述的環(huán)烯烴化合物(Tg為1810C)。(ν)環(huán)烯烴樹脂-E(加成聚合物)由MitsuiChemicals，Inc生產(chǎn)的APL6015T(Tg為145°C)。(vi)飽和降冰片烯樹脂-F(加成聚合物)由PolyplasticsCo.，Ltd.生產(chǎn)的T0PAS6013(Tg為130°C)。(vii)環(huán)烯烴樹脂-G(加成聚合物)在日本專利3693803的實(shí)施例1中描述的環(huán)烯烴化合物(Tg為140°C)。⑵膜形成將上述的環(huán)烯烴樹脂A至G模塑為圓柱形粒料，該圓柱形粒料的平均直徑為3mm，并且平均長度為5mm。將粒料在真空干燥器中于110°C干燥以控制含水量為0.以下，然后被加入到已經(jīng)被調(diào)節(jié)至Tg-10°c的溫度的加料斗中。粒料在捏合擠出機(jī)中于260°C熔融。然后，從齒輪泵進(jìn)料的熔體經(jīng)由過濾精度為5μπι的頁盤式(leafdisc)過濾器過濾。這之后，熔體(熔融樹脂)經(jīng)由狹縫空間為1.Omm的260°C衣架式涂布模頭擠出到流延輥(CR)上。在熔體流延時(shí)，通過在縱向方向拉伸膜，而對膜進(jìn)行分子取向處理。(3)拉伸和松弛將在上述熔融和膜形成步驟中獲得的環(huán)烯烴膜拉伸和松弛。表1是歸納了對本發(fā)明中的實(shí)施例(1至7)和比較例⑴的拉伸比、輥溫、加熱器類型、壓花工藝的存在或不存在、光學(xué)性質(zhì)、卷繞形狀和綜合評價(jià)的結(jié)果的列表。在此，光學(xué)性質(zhì)是指在流延步驟的縱向拉伸操作中出現(xiàn)的延遲(Rth)的值。從表中清楚看出，在沒有拉伸的比較例1中，基礎(chǔ)(base)破裂并且膜不能被卷繞。此外，在幾個(gè)實(shí)施例中，進(jìn)行了壓花工藝的實(shí)施例趨向于獲得更高的綜合評價(jià)。此外，在幾個(gè)實(shí)施例中，出現(xiàn)50nm以下的延遲(Rth)的實(shí)施例趨向于獲得更高的綜合評價(jià)。[表1]<table>tableseeoriginaldocumentpage44</column></row><table>(4)偏振片的制備任何水平的膜表面進(jìn)行電暈處理，以使表面與表面上的水的接觸角可以為60°。根據(jù)日本專利申請公開2001-141926的實(shí)施例1，厚度為20μm的偏振層通過在兩對給定相應(yīng)的不同圓周速度的夾持輥之間，在縱向方向上拉伸來制備。在使用3%的PVA(PVA_117H，由KurarayCo.，Ltd.生產(chǎn))溶液作為粘合劑的同時(shí)層壓膜以形成下列結(jié)構(gòu)，以制備偏振片。偏振片E環(huán)烯烴膜/偏振層/FUJITAC將由此獲得的偏振片粘附到50-英寸VA型的液晶顯示裝置中代替其偏振片，所述液晶顯示裝置是根據(jù)日本專利申請公開2000-154261的圖2至9制備的。根據(jù)本發(fā)明制備的偏振片沒有產(chǎn)生平面不合格并且顯示良好的性能。特別是，加成聚合類型的環(huán)烯烴膜是良好的。(5)光學(xué)補(bǔ)償膜的制備根據(jù)本發(fā)明的環(huán)烯烴膜被用于代替乙酸纖維素膜，該乙酸纖維素膜已經(jīng)涂敷了日本專利申請公開11-316378中的實(shí)施例1的液晶層用液體組合物。根據(jù)本發(fā)明制備的膜顯示良好的性能。特別是，加成聚合類型的環(huán)烯烴膜是良好的。使用根據(jù)本發(fā)明的環(huán)烯烴膜制備的光學(xué)補(bǔ)償膜代替所述涂敷了日本專利申請公開7-333433的實(shí)施例1的液晶層用液體組合物的乙酸纖維素膜，也類似地顯示良好性能。特別是，加成聚合類型的環(huán)烯烴膜是良好的。(6)低反射膜的制備根據(jù)日本發(fā)明和創(chuàng)新協(xié)會(huì)的技術(shù)公開期刊(TechnicalDisclosureNo.2001-1745)的實(shí)施例47，由本發(fā)明的環(huán)烯烴膜制備低反射膜。結(jié)果，該低反射膜顯示良好的光學(xué)性能。特別是，加成聚合類型的環(huán)烯烴膜是良好的。(7)液晶顯示元件的制備將本發(fā)明中的偏振片用于如下各項(xiàng)中日本專利申請公開10-48420的實(shí)施例1中所述的液晶顯示裝置；包含日本專利申請公開9-26572的實(shí)施例1中描述的碟狀液晶分子和涂敷了聚乙烯醇的取向膜的光學(xué)各向異性層；根據(jù)日本專利申請公開2000-154261的圖2至9中描述制備出的50-英寸VA類型的液晶顯示裝置；根據(jù)日本專利申請公開2000-154261的圖10至15制備出的50-英寸OCB類型的液晶顯示裝置；和在日本專利申請公開2004-12731的圖11中描述的IPS類型液晶顯示裝置。此外，將在本發(fā)明中的低反射膜被粘附在這些液晶顯示裝置的頂層上并且評價(jià)。結(jié)果，獲得良好的液晶顯示元件。特別是，加成聚合類型的環(huán)烯烴膜是良好的。權(quán)利要求一種用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，所述方法包括如下步驟將環(huán)烯烴樹脂在230至260℃的擠出溫度和500至3,000Pa·s的熔體粘度從模頭熔體擠出形成膜的形式；流延熔體擠出的膜；卷繞流延的膜；以及將卷繞的膜退卷并且在縱向方向和/或橫向方向上拉伸所述膜，以在其內(nèi)出現(xiàn)延遲，其中所述方法包括卷繞所述膜的步驟之前的分子取向處理步驟。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，其中所述分子取向處理步驟是以1.05至2.5倍的拉伸比在縱向方向拉伸所述熔體擠出的膜的步驟。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，其中膜在縱向方向的拉伸在所述流延步驟中進(jìn)行。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，其中膜在縱向方向的拉伸包括使用其溫度在Tg+10至Tg+200°C的范圍內(nèi)的加熱輥加熱所述熔體擠出的膜。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，其中所述加熱輥在寬度方向上的溫度分布在士2°C之內(nèi)。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，所述方法包括使用遠(yuǎn)紅外加熱器進(jìn)一步加熱所述熔體擠出的膜。7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，所述方法包括進(jìn)一步賦予已經(jīng)進(jìn)行了分子取向處理的膜壓花圖案的壓花步驟，所述壓花圖案的高度在所述膜的厚度的5至20%的范圍內(nèi)。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，其中所述壓花步驟是通過加熱壓花輥至在Tg+10至Tg+200°C的溫度范圍而賦予所述膜壓花圖案的步驟。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，其中所述壓花輥通過加熱器加熱。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，其中所述加熱器是紅外加熱器或電介質(zhì)加熱加熱器。11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，所述方法包括用于支撐所述膜的傳遞輥，所述傳遞輥的表面粗糙度(Ra)為lym以下。12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，其中在流延熔體擠出的膜的步驟中是接觸輥系統(tǒng)、通風(fēng)室系統(tǒng)、真空噴嘴系統(tǒng)、靜電涂敷系統(tǒng)和氣刀系統(tǒng)中的任何一種。13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法，其中所述流延所述熔體擠出的膜的步驟包括使用表面粗糙度(Ra)為30ym以下的流延鼓流延所述膜。14.一種環(huán)烯烴樹脂膜，其中所述膜通過根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的方法制備。全文摘要根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法是包括如下步驟的用于制備環(huán)烯烴樹脂膜的方法將環(huán)烯烴樹脂在230至260℃的擠出溫度和500至3,000Pa·s的熔體粘度從模頭熔體擠出形成膜的形式；流延熔體擠出的膜；卷繞流延的膜；以及將卷繞的膜退卷并且在縱向方向和/或橫向方向上拉伸所述膜，以在其內(nèi)出現(xiàn)延遲，其特征在于，所述方法包括卷繞所述膜的步驟之前的分子取向處理步驟。文檔編號B29C59/04GK101808805SQ20088010894公開日2010年8月18日申請日期2008年9月16日優(yōu)先權(quán)日2007年9月28日發(fā)明者上田忠申請人:富士膠片株式會(huì)社