專利名稱：模具的制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及模具(mold)的制造方法。
背景技術：
作為形成微細圖案的方法，已知有所謂的納米壓印法，該方法是將具有所 要的微細圖案的倒置圖案的模具按壓在由液狀的光固化性樹脂形成的膜上，并 在這一狀態(tài)下對光固化性樹脂照射光線使光固化性樹脂固化而形成所要的微
細圖案的方法(參照專利文獻1 3)。
最近，提出了采用將表面形成有圖案的包含含氟聚合物等的薄膜巻繞于滾 筒(cylinder)的圓筒狀模具連續(xù)地形成微細圖案的方法(專利文獻4、 5)。
但是，所述圓筒狀模具中，在巻繞的薄膜的起始端和終止端之間生成了接 縫。因此，(i)在接縫部分及其前后無法形成圖案，導致接縫部分及其前后無法 被用于微細圖案的形成而存在微細圖案的形成效率下降的問題，以及(ii)產(chǎn)生形 成微細圖案的同時還因接縫而形成凹凸的問題。
專利文獻l:日本專利特表2005-515617號公報
專利文獻2:日本專利特開2005-288803號公報
專利文獻3:國際公開第2003/084727號文本
專利文獻4:日本專利特開2006-037057號公報
專利文獻5:美國專利申請公開第2006/0021533號說明書
發(fā)明的揭示
本發(fā)明提供可制造在包含含氟聚合物的圖案層上無接縫的圓筒狀或圓柱 狀的模具的方法。
本發(fā)明具有以下技術內(nèi)容。
(l)模具的制造方法，它是具有基材和圖案層的模具的制造方法，其中所
4述基材是圓筒狀或圓柱狀基材，所述圖案層包括含氟聚合物并且其表面上形成 有圖案，該方法包括以下工序
形成覆蓋圓筒狀或圓柱狀的基材的外周面?zhèn)鹊陌酆衔锏哪?，獲得 模具前體的工序；
將所述模具前體的外周面按壓在已經(jīng)加熱的原始模具的具有與所述圖案 層的圖案相對應的倒置圖案的表面上，并在這一狀態(tài)下，使所述模具前體旋轉(zhuǎn)， 將所述原始模具的倒置圖案轉(zhuǎn)印于包含含氟聚合物的膜而形成圖案層的工序。
(2) 上述(1)記載的模具的制造方法，在形成所述包含含氟聚合物的膜之前， 具有形成覆蓋所述基材的外周面?zhèn)鹊姆漓o電層的工序。
(3) 上述(2)記載的模具的制造方法，在形成所述防靜電層之前，具有形成 覆蓋所述基材的外周面?zhèn)鹊牡?底涂層的工序。
(4) 上述(2)或(3)記載的模具的制造方法，具有形成覆蓋所述防靜電層的第 2底涂層的工序。
(5) 上述(1) (4)的任一項記載的模具的制造方法，所述含氟聚合物是含氟 環(huán)狀聚合物或含氟聚醚系聚合物。
(6) 上述(5)記載的模具的制造方法，所述含氟聚合物的主鏈具有含氟脂肪 族環(huán)結(jié)構(gòu)。
(7) 上述(1) (6)的任一項記載的模具的制造方法，所述含氟聚合物是全氟 聚合物，其中，與碳原子結(jié)合的氟原子的數(shù)量相對于與碳原子結(jié)合的氫原子以 及與碳原子結(jié)合的氟原子的合計數(shù)量的比例為100%。
(8) 上述(1) (7)的任一項記載的模具的制造方法，涂布將含氟聚合物溶于 溶劑而形成的溶液并干燥涂膜來形成包含含氟聚合物的膜。
(9) 利用上述(1) (8)的任一項記載的模具的制造方法制得的模具。
(10) 微細圖案的形成方法，將權利要求9所述的模具的圖案層按壓在形成 于支承基板上的由液狀的光固化性樹脂制成的膜上，并在這一狀態(tài)下，對光固 化性樹脂照射光線使光固化性樹脂固化而形成所要的微細圖案。
利用本發(fā)明的模具的制造方法可制得在包含含氟聚合物的圖案層上無接 縫的圓筒狀或圓柱狀的模具。附圖的簡單說明


圖1是表示由本發(fā)明的制造方法獲得的模具的一例的剖視圖。 圖2是表示圖1的模具的層結(jié)構(gòu)的放大圖。
圖3是表示模具的制造的過程中獲得的模具前體的一例的剖視圖。 圖4是表示本發(fā)明的模具的制造方法中的一個工序的剖視圖。
圖5是表示將模具前體按壓于原始模具的狀態(tài)的放大圖。 圖6是表示微細圖案的形成方法的一例的剖視圖。 圖7是表示實施例所用的原始模具的主視圖。
符號說明IO為模具，12為基材，14為圖案，16為圖案層，18為防靜 電層，20為第1底涂層，22為第2底涂層，30為模具前體，32為包含含氟聚 合物的膜，40為原始模具，42為倒置圖案，50為支承基板，52為由光固化性 樹脂形成的膜，70為光源。
實施發(fā)明的最佳方式
本說明書中，將式(l)表示的化合物記為化合物(l)。其它式表示的化合物 同樣記載。
本說明書中，(甲基)丙烯?；硎颈；?或甲基丙烯?；?甲基)丙 烯酸酯表示丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，(甲基)丙烯酸表示丙烯酸及/或甲基丙 烯酸。
<模具〉
圖1是表示利用本發(fā)明的制造方法獲得的模具的一例的剖視圖，圖2是表 示層結(jié)構(gòu)的放大圖。模具10具備圓筒狀基材12和包含含氟聚合物且表面形成 有圖案14的圖案層16。
模具10如圖1及圖2所示，可具有在基材12和圖案層16之間設置的防 靜電層18;可具有在基材12和防靜電層18之間設置的第1底涂層20;可具 有在防靜電層18和圖案層16之間設置的第2底涂層22。
(基材)
基材的形狀為圓筒狀或圓柱狀。 作為基材的材料，可例舉以下的材料。玻璃石英玻璃、硼硅酸玻璃等。
碳化合物碳化硅、黑色玻璃狀碳化合物、石墨。
金屬鎳、銅等。
纖維素材料紙等。
樹脂聚酯(聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯等)、聚 乙烯醇、丙烯酸樹脂、聚酰胺、聚酰亞胺、玻璃紙、聚碳酸酯、軟質(zhì)聚氯乙烯 樹脂、硬質(zhì)聚氯乙烯樹脂、氟樹脂、有機硅樹脂等。
橡膠氟橡膠等。
作為基材的材料，較好是其厚度為100 y m時的波長365nm附近的紫外線 透射率為65%以上的材料，可例舉玻璃、氟樹脂、PET、有機硅樹脂、丙烯酸樹 脂等。使用了對紫外線不透明的基材時，限定后述的被加工側(cè)的支承基板采用 對紫外線透明的材料。
作為基材的材料，從與其它層的密合性良好的角度考慮，特好為玻璃、PET、 丙烯酸樹脂、聚酰亞胺。
基材的厚度較好為20 5000 u m，更好為100 1000 u m。
作為基材，可采用預先實施了等離子體處理、電暈放電、紫外線照射、真 空紫外線照射、電子射線照射、紫外線臭氧處理、離子照射等表面處理的基材。 通過使用該基材，可省去第l底涂層。
(圖案層)
作為圖案，較好是由凹凸結(jié)構(gòu)形成的微細圖案。
凹凸結(jié)構(gòu)中的凸部是在圖案層表面延展的長條狀凸條或散布在圖案層表 面的突起。
凹凸結(jié)構(gòu)中的凹部是在圖案層表面延展的長條狀溝槽或散布在圖案層表 面的孔。
作為凸條或溝槽的形狀，可例舉直線、曲線、彎折的形狀等。凸條或溝槽 可多個平行存在而形成為條紋狀。
作為凸條或溝槽的與長邊方向正交的方向的截面形狀，可例舉長方形、梯 形、三角形、半圓形等。
作為突起或孔的形狀，可例舉三角柱、四角柱、六角柱、圓柱、三角錐、四角錐、六角錐、圓錐半球、多面體等。
凸條或溝槽的平均寬度較好為lnm 500iim，更好為10nm 300ym，特好 為50nm 400nm。凸條的寬度是指與長邊方向正交的方向的截面的底邊的長度。 溝槽的寬度是指與長邊方向正交的方向的截面的上邊的長度。
突起或孔的平均寬度較好為lmn 500iim，更好為10nm 300um，特好為 50nm 400皿。突起的寬度在底面細長時是指與長邊方向正交的方向的截面的 底邊的長度，如果不是則是指突起的底面的最長的長度?？椎膶挾仍陂_口部細 長時是指與長邊方向正交的方向的截面的上邊的長度，如果不是則是指孔的開 口部的最大的長度。
凸部的平均高度較好為lnm 500 um，更好為10nm 300 um，特好為 10nm 10um，最好為50nm 400nm。
凹部的平均深度較好為lnm 500ura，更好為10nm 300 U m，特好為 10nm 10iim，最好為50nm 400nra。
在凹凸結(jié)構(gòu)密集的區(qū)域內(nèi)，鄰接的凸部(或者凹部)間的平均距離較好為 lnm 500nm，特好為10nra 300um。鄰接的凸部間的距離是指從凸部的截面
的底邊的終端至鄰接的凸部的截面的底邊的起始端的距離。鄰接的凹部間的距 離是指從凹部的截面的上邊的終端至鄰接的凹部的截面的上邊的起始端的距離。
凸部的最小尺寸較好為lnm 500um以下，特好為50nm 500nm。最小尺 寸是指凸部的寬度、長度及高度中的最小尺寸。
凹部的最小尺寸較好為lnm 500um以下，特好為50nm 500nm。最小尺 寸是指凹部的寬度、長度及深度中的最小尺寸。
圖案層的厚度較好是最高的凸部的高度以上。
圖案層是包含含氟聚合物的層。
作為含氟聚合物，從脫模性良好的角度考慮，較好是100質(zhì)量％含氟樹脂 中含有35質(zhì)量％氟且由含氟聚合物形成的膜的水的接觸角為80°以上的聚合 物。
水的接觸角用接觸角計測定由含氟聚合物形成的膜而得。 作為含氟聚合物，可例舉以下的聚合物。四氟乙烯/全氟(烷基乙烯基醚)系共聚物、四氟乙烯/乙烯系共聚物、四氟 乙烯/六氟丙烯系共聚物、偏氟乙烯/四氟乙烯/六氟丙烯系共聚物、含氟環(huán)狀 聚合物、含氟亞烷基系聚合物、含氟聚醚系聚合物等。
作為含氟聚合物，較好為含氟環(huán)狀聚合物或含氟聚醚系聚合物，從對于波 長200 500nm的光的透射率及耐久性良好的角度考慮，更好為含氟環(huán)狀聚合 物。
含氟環(huán)狀聚合物是主鏈具有含氟脂肪族環(huán)結(jié)構(gòu)的含氟聚合物，其中構(gòu)成含 氟脂肪族環(huán)的環(huán)的碳原子的1個以上為構(gòu)成該含氟聚合物的主鏈的碳原子。主 鏈的碳原子來自構(gòu)成該含氟聚合物的環(huán)狀單體的聚合性雙鍵的2個碳原子，或 者在該聚合物為使具有2個聚合性雙鍵的二烯系單體環(huán)化聚合而得的含氟聚合 物時主鏈的碳原子來自2個聚合性雙鍵的4個碳原子。作為構(gòu)成含氟脂肪族環(huán) 的環(huán)的原子，除碳原子以外可含氧原子、氮原子等。作為含氟脂肪族環(huán)，較好 是具有1 2個氧原子的含氟脂肪族環(huán)。構(gòu)成含氟脂肪族環(huán)的原子的數(shù)較好為 4 7。
作為聚合性雙鍵，較好為乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯?；?。 作為含氟環(huán)狀聚合物，可例舉環(huán)狀單體的均聚物或共聚物、使二烯系單體 環(huán)化聚合而得的均聚物或共聚物等。
環(huán)狀單體是構(gòu)成含氟脂肪族環(huán)的碳原子間具有聚合性雙鍵的單體，或者是
構(gòu)成含氟脂肪族環(huán)的碳原子和含氟脂肪族環(huán)以外的碳原子間具有聚合性雙鍵 的單體。
二烯系單體是具有2個聚合性雙鍵的單體。
環(huán)狀單體及二烯系單體是具有氟原子的單體，較好是相對于碳原子所結(jié)合 的氫原子及碳原子所結(jié)合的氟原子的合計數(shù)的碳原子所結(jié)合的氟原子數(shù)的比 例為80%以上的單體，更好是該比例為100%的全氟單體。
環(huán)狀單體及二烯系單體可以是全氟單體的氟原子的1 4個被氯取代的全 鹵素多氟單體。
與環(huán)狀單體或二烯系單體共聚的單體也較好為全氟單體或全鹵素多氟單體。
作為環(huán)狀單體，較好為化合物(1)或化合物(2)。X11 X
W
R1《、R12
(1)
12
X21 X22
FC—CF
/ \
V0
II
CF2 (2)
其中，X11、 X12、 R"及R"分別獨立地表示氟原子、碳數(shù)1 4的全氟烷基或 碳數(shù)1 4的全氟垸氧基，作為X11，較好為氟原子，作為X12，較好為氟原子、 三氟甲基或碳數(shù)1 4的全氟烷氧基。
X"及X22分別獨立地表示氟原子或碳數(shù)1 7的全氟垸基，作為X"及X22，
較好為氟原子或三氟甲基。
作為化合物(1)的具體例，可例舉化合物(1-1) (1-3)。
,OCF3
FC-CF
/ \
V0
F3C/ 、CF3 (1-1)
FC-CF d 、0
、cg
(1-2)
FC=C 3 、0
(1-3)
作為化合物(2)的具體例，可例舉化合物(2-1) (2-2)
F2C—CF2
/ \
V0
II
CF2 (2國1)
CF3
=2C—CF
2/ 、
Y
CF2 (2-2)
作為與環(huán)狀單體共聚的單體，可例舉CF^CF2、 CF2=CFC1、 CF2=CFOCF3等。
10作為二烯系單體，較好為化合物(3)。
CF2=CF-Q-CF=CF2 (3)
其中，Q表示可具有醚性氧原子的碳數(shù)1 3的全氟亞烷基。Q為具有醚 性氧原子的全氟亞垸基時，該全氟亞烷基中的醚性氧原子可存在于該基團的一 個末端，也可存在于該基團的兩末端，還可存在于該基團的碳原子間。從環(huán)化 聚合性的角度考慮，優(yōu)選存在于該基團的一個末端。
通過化合物(3)的環(huán)化聚合，可獲得具有下式(3-l) (3-3)的重復單元的聚 合物。
作為二烯系單體，可例舉以下的化合物。 CF2=CFOCF2CF = CF2、 CF2=CFOCF (CF3) CF = CF2、 CF2=CFOCF2CF2CF = CF2、 CF2=CFOCF2CF (CF3) CF = CF CF2=CFOCF (CF3) CF2CF = CF CF2=CFOCF2OCF = CF2、 CF2=CFOC ( C F3) 20 C F = C F2、 CF7=CFCF7CF = CF2、CF2=CFCF2CF2CF = CF2。
作為與二烯系單體共聚的單體，可例舉CF^CF2、 CF2=CFC1、 CF2=CFO CF3等。
含氟環(huán)狀聚合物的全部重復單元(100摩爾％)中較好是含有20摩爾％以上 的具有含氟脂肪族環(huán)結(jié)構(gòu)的重復單元，更好是含有40摩爾％以上，特好是僅 由具有含氟脂肪族環(huán)結(jié)構(gòu)的重復單元形成該含氟環(huán)狀聚合物。具有含氟脂肪族 環(huán)結(jié)構(gòu)的重復單元是通過環(huán)狀單體的聚合而形成的重復單元及通過二烯系單 體的環(huán)化聚合而形成的重復單元。
含氟亞烷基系聚合物是使具有多氟亞烷基鏈及聚合性基團的化合物聚合 而獲得的含氟聚合物。
作為多氟亞烷基鏈，較好是碳數(shù)2 24的多氟亞烷基。該多氟亞烷基可含 亞環(huán)垸基，可具有官能團。
作為聚合性基團，較好為乙烯基、烯丙基、(甲基)丙烯?；h(huán)氧基、二 氧雜環(huán)丁烷基、氰基、異氰酸酯基或下式(4)表示的水解性甲硅垸基。
-(CHASi—^M^ '(4)
其中，Mi為通過水解反應轉(zhuǎn)化為羥基的基團，作為該基團，可例舉鹵素
原子、烷氧基、酰氧基等，作為鹵素原子，較好為氯原子，作為垸氧基，較好
為甲氧基或乙氧基，更好為甲氧基，作為M1，較好為垸氧基，更好為甲氧基。 N^為l價烴基，作為M2，可例舉烷基、被l個以上的芳基取代的垸基、
鏈烯基、炔基、環(huán)垸基、芳基等，較好為垸基或鏈烯基。 a為1 3的整數(shù)，較好為3。 b為0或l 3的整數(shù)，較好為0。
作為具有多氟亞垸基鏈及聚合性基團的化合物，可例舉以下的化合物。 CH2=CHCOOCH2CH2 (CF2) 8F、 CH2=CHCOOCH2CH2 (CF2) 6F、 CH2=C (CH3) C 0 0 C H2C H2 ( C F2) 8F 、 CH2=C (CH3) C 0 O C H2C H2 ( C F2) 6F 、 CH2=CHCOOCH2 (CF2) 6F、 CH2=C (CH3) C 0 0 C H2 ( C F2) 6F 、CH2=CHCOOCH2CF2CF2H、 CH2=CHCOOCH2 (CF2CF2) 2H、 CH2=C (CH3) C 0 0 C H2 ( C F2C F2) H、 CH2=C (CH3) C 0 0 C H2 ( C F2C F2) 2H、 CH2=CFCOOCH2CH (OH) CH2(CF2)6CF (CF3)2、 CH2=CFCOOCH2CH (OH) CH2(CF2)6CF (CF3)2、 CH2=CHCOOCH2CH2(CF2CF2)3CH2CH2COCOCH =C H2、
CH2=C (CH3) C 0 O C H2C H2 ( C F2C F2) 3C H2C H2C O C O C ( C H3) = C H2、
CH2=CHCOOCH2C yFCH2OCOCH = CH2、 CH2=C (CH3) COOCH2CyFCH2OCOC (CH3)=CH2。 含氟聚醚系聚合物是使具有全氟(聚亞氧垸基)鏈及聚合性基團的化合 物(以下稱為化合物(f))聚合而得的含氟聚合物。
全氟(聚亞氧烷基)鏈較好由選自(CF2CF20)單元、(CF2CF(CF3)0)單元、 (CF2CF2CF20)單元及(CF20)單元的1種以上的全氟(亞氧烷基)單元形成，更 好的是由(CF2CF20)單元、(CF2CF(CF3)0)單元或(CF2CF2CF20)單元形成， 從含氟聚合物的物性(耐熱性、耐酸性等)考慮，特好是由(CF2CF20)單元形 成。
從含氟聚合物的脫模性及硬度高的角度考慮，化合物(f)包含的全氟(亞 氧垸基)單元數(shù)較好為2 200的整數(shù)，更好為5 50的整數(shù)。
作為聚合性基團，較好是乙烯基、丙烯基、(甲基)丙烯?；?、環(huán)氧基、 二氧雜環(huán)丁烷基、氰基、異氰酸酯基或上式(4)表示的水解性甲硅垸基，更 好是(甲基)丙烯酰基。
從聚合性良好的角度考慮，化合物(f)包含的聚合性基團數(shù)較好為1 4 的整數(shù)，從含氟聚合物的硬度等良好的角度考慮，更好為2 4的整數(shù)，特 好為3或4。并用2種以上的化合物(f)時，聚合性基團的平均數(shù)較好為l 3。
作為化合物(f)，較好為化合物(fl) (f4)，更好為化合物(fl)。(Z1—CH2CF20(CF2CF20)yU1 '■ (fl)、
(Z2—C H2C F20 ( C F2C F20 ) y2- ( C F 2 O ) g2) a2 Y 2 ■■■
(f 2 )、
(Z3—CH2CF20 (CF (CF3) CF20)y3' (CF20)g3)a3
Y
(f 3 )、
(Z4—C H2C F20 ( C F2C F2C F20 V ( C F 20 )g4)a4 Y4… (f 4 )。
其中，" "的標記表示2個單元的排列方式并不限定。
yl、 y2、 y3及y4分別獨立地表示l 100的整數(shù)，較好為5 50的整數(shù)。
g2、 g3及g4分別獨立地表示1 100的整數(shù)。
al、 a2、 a3及a4分別獨立地表示1 4的整數(shù)，較好為2 4的整數(shù)， 特好為3或4。
Yi表示al價連接基團，￥2表示&2價連接基團，YS表示a3價連接基 團，Y"表示a4價連接基團，al、 a2、 a3及a4的含義如前所述。 作為2價連接基團Y1 74，可例舉-CF2CF2-等。 作為3價連接基團Yi Y4，可例舉以下的連接基團等。
\cF2
、C< 、CF,
C
、CF2
C《、CF^
CF2
CF2
CF、 CF
作為4價連接基團Y" Y4，可例舉以下的連接基團等。
14Z1、 Z2、 ZS及ZA分別獨立地表示下式(5)表示的基團，優(yōu)選W W-(OCH2CH2)c -(OCH2CH(OW)CH2)d-(5) 其中，c及d分別獨立地表示0或l 100的整數(shù)，較好為O。 W表示下式(5-l) (5-5)表示的基團。
CH2=CHCOO (CH2)hl—Q1—■ , ■
CH2=CFCOO (CH2)h2—Q2—, ■ ■
CH2=C (CH3) COO (CH2) h3—Q3 —
CH2=C (CF3) COO (CH2) h4—Q4_
H2C、—",『Q5— (5_5) 0
其中，hl、 h2、 h3、 h4及h5分別獨立地表示0或1 10的整數(shù)。
Q1、 Q2、 Q3及Q4分別獨立地表示單鍵、-COO-或-NHCOO-。 hi為0 時(^為單鍵，h2為0時(^為單鍵，h3為0時的QS為單鍵，h4為0時的 (54為單鍵。Q5表示醚性氧原子或-COO-。
此外，作為含氟聚合物，從脫模性良好的角度考慮，較好是相對于碳 原子所結(jié)合的氫原子及碳原子所結(jié)合的氟原子的合計數(shù)的碳原子所結(jié)合的氟 原子數(shù)的比例為100n/c)的全氟聚合物(F)，從涂布性良好的角度考慮，較好是無 定形或非晶性的全氟聚合物(F)。全氟聚合物(F)例如可在聚合引發(fā)劑的存在下 將所述全氟單體聚合而制得。
不設置第2底涂層時，作為含氟聚合物，從與其它層的密合性的角度考慮，<formula>formula see original document page 15</formula>特好為具有反應性官能團的全氟聚合物(F1)或該全氟聚合物(F1)和后述的全氟
聚合物(F2)的混合物。
該全氟聚合物(F1)或混合物的水的接觸角較好是80。以上不足105。。
作為反應性官能團，較好是羧基、磺酸基、具有酯鍵的基團、羥基、氨基、 氰基、異氰酸酯基等，優(yōu)選羧基。例如，具有羧基的全氟聚合物(F1)可通過在 氧氣氛下對作為末端基團具有來自聚合引發(fā)劑等的官能團的全氟聚合物(F)進 行加熱，然后將其浸漬于水中，將所述官能團轉(zhuǎn)換為羧基而制得。
設置第2底涂層時，作為含氟聚合物，從脫模性良好的角度考慮，特好是 用氟氣對全氟聚合物(F1)進行處理而將反應性官能團氟化的全氟聚合物(F2)。
該全氟聚合物(F2)的水的接觸角較好為105°以上。
(防靜電層)
防靜電層是含導電性化合物的層。防靜電層與基材或圖案層的密合性良好
時，兼作為底涂層。
導電性化合物本身的表面電阻較好為1080/口以下，更好為1060/口以下。 防靜電層的表面電阻較好為10"Q/口以下，更好為10"Q/口以下。 設置于防靜電層上的圖案層的表面電阻較好為1016^/口以下，更好為1013
Q/口以下。
作為導電性化合物，可例舉以下的化合物。
金屬氧化物；摻鈮的氧化錫、摻磷的氧化錫、摻銻的氧化錫(ATO)、氧 化銦、摻錫的氧化銦(ITO)、氧化鋅、摻鋁的氧化鋅、摻銦的氧化鋅、銻酸 鋅、五氧化銻等。
導電性聚合物脂肪族共軛系聚乙炔、芳香族共軛系對聚苯(poly (paraphenylene))、雜環(huán)式共軛系聚吡咯、聚噻吩、含雜原子的共軛系聚苯 胺、混合型共軛系聚(對苯乙烯)(poly(phenylene vinylene))等。
導電性碳材碳粉(納米碳管、炭黑、科琴黑(KETJENBLACK)、乙炔 黑等)、碳纖維(聚丙烯腈系碳纖維、瀝青系碳纖維等)、膨化石墨粉碎品的 石墨片等。
金屬材料金屬(鋁、銅、金、銀、鎳、鉻、鐵、鉬、鈦、鎢、鉭等) 或含有該金屬的合金的粉末、金屬片、金屬纖維(鐵、銅、不銹鋼、鍍銀銅、黃銅等)等。
作為導電性化合物，從與其它層的密合性的角度考慮，較好是金屬氧
化物或?qū)щ娦跃酆衔?，從波長365nm附近的紫外線透射率的角度考慮，更 好為聚噻吩或ITO。
金屬氧化物(100摩爾％)中的被摻雜于金屬氧化物的異種原子的含有 率較好為0.01 30摩爾％，更好為0.1 10摩爾％。
防靜電層(100質(zhì)量％)中導電性化合物的含有率較好為30 100質(zhì)量 %，從防靜電性的角度考慮，更好為50 100質(zhì)量％。
防靜電層的厚度可根據(jù)用途適當決定。例如在形成透明度高的防靜電 層時，厚度較好為20 1000nm，更好為30 300nm，特好為40 200nm。
(第1底涂層)
作為第l底涂層的材料，可例舉粘接劑、硅垸偶聯(lián)劑、含硅原子的樹 脂材料等。
作為粘接劑，較好為可見光固化性樹脂、環(huán)氧系粘接劑、丙烯酸系粘 接劑或聚氨酯系粘接劑，從低固化收縮性及高透明度的角度考慮，較好為 包含氰基丙烯酸酯或環(huán)氧樹脂的粘接劑。
作為硅烷偶聯(lián)劑，可例舉以下的硅烷偶聯(lián)劑。
具有氨基的硅烷偶聯(lián)劑3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基甲基二 乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-
氨基丙基甲基二甲氧基硅烷等。
具有環(huán)氧乙烷基的硅烷偶聯(lián)劑3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅垸、3-
環(huán)氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅垸等。
三氯硅垸的硅烷偶聯(lián)劑乙烯基三氯硅烷等。
具有其它官能團(乙烯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、環(huán)氧基、苯 乙烯基、氟垸基、巰基、異氰酸酯基、脲基等)的硅烷偶聯(lián)劑等。
作為硅垸偶聯(lián)劑，較好是具有氨基的硅烷偶聯(lián)劑、具有環(huán)氧乙烷基的 硅垸偶聯(lián)劑、三氯硅垸的硅烷偶聯(lián)劑。
作為含硅原子的樹脂材料，可例舉改性丙烯酸有機硅樹脂、含倍半硅 氧烷(silsesquioxane)骨架的樹脂等。第1底涂層的厚度較好為0.02 25um，更好為0.03 15wm。 (第2底涂層)
作為第2底涂層的材料，可例舉具有反應性官能團的含氟聚合物等， 較好為具有反應性官能團的含氟環(huán)狀聚合物、具有反應性官能團的含氟亞 垸基系聚合物或具有反應性官能團的含氟聚醚系聚合物。此外，作為該含 氟聚合物，特好的是具有所述反應性官能團的全氟聚合物(F1)。
作為具有反應性官能團的含氟聚合物，可例舉具有來自化合物(6-1) (6-2)的單元的含氟聚合物、將來自聚合引發(fā)劑的末端基團轉(zhuǎn)換為羧基的含 氟聚合物等。
CH2=CHCOOCH2CH(OH)CH2(CF2)2CF(CH3)2 (6-1) CF2=CFCF2C(CF3)(OH)CH2CH=CH2 (6-2) 第2底涂層的厚度較好為0.03 5u m，更好為0.06 lwm。
〈模具的制造方法〉
本發(fā)明的模具的制造方法是具備以下工序的方法。即，形成覆蓋圓筒狀 或圓柱狀的基材的外周面?zhèn)鹊陌酆衔锏哪?，獲得模具前體的工序；將 模具前體的外周面按壓在經(jīng)過加熱的原始模具的具有與圖案層的圖案對應的 倒置圖案的表面上，并在這一狀態(tài)下，使模具前體旋轉(zhuǎn)，將原始模具的倒置圖 案轉(zhuǎn)印于包含含氟聚合物的膜而形成圖案層的工序。
作為本發(fā)明的模具的制造方法，可例舉例如具有下述(i) (v)工序的方法。
(i) 根據(jù)需要形成覆蓋基材的外周面的第1底涂層的工序。
(ii) 根據(jù)需要形成覆蓋基材的外周面或第1底涂層的表面(即，基材的外周 面?zhèn)?的防靜電層的工序。
(iii) 根據(jù)需要形成覆蓋防靜電層的表面的第2底涂層的工序。
(iv) 形成覆蓋基材的外周面或防靜電層的表面或第2底涂層的表面(即，基 材的外周面?zhèn)?的包含含氟聚合物的膜而獲得模具前體的工序。
(v) 將模具前體的外周面按壓在經(jīng)過加熱的原始模具的表面，并在這一狀 態(tài)下，以圓筒或圓柱的中心軸線為旋轉(zhuǎn)軸使模具前體旋轉(zhuǎn)，將原始模具的倒置 圖案轉(zhuǎn)印于包含含氟聚合物的膜而形成圖案層的工序。
以下，對設置第l底涂層、防靜電層及第2底涂層的情況進行說明。(i) 工序
在基材的外周面涂布含第1底涂層的材料的溶液并干燥涂膜而形成第1 底涂層。
作為涂布方法，可例舉流延(cast)法、旋涂法、噴涂法、灌注(potting)法、
棒涂法等。
作為干燥方法，可例舉加熱干燥法、溫風干燥法、真空干燥法、放置于氣 流下而干燥的方法等。
(ii) 工序
在第1底涂層的表面涂布防靜電劑并干燥涂膜而形成防靜電層。
作為涂布方法，可例舉與(i)工序同樣的方法。
作為干燥方法，可例舉與(i)工序同樣的方法。
防靜電劑含有固化性樹脂時，干燥涂膜后通過加熱或紫外線照射而使固化 性樹脂固化。紫外線照射可采用超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳 弧燈、氙氣燈、金屬鹵化物燈等。
作為形成防靜電層的方法，可用層壓法、澆鑄(cast)法來替代涂布法。 作為防靜電劑，可例舉含有導電性化合物、分散劑及溶劑的試劑。 作為防靜電劑，可采用市售的防靜電劑。作為市售的防靜電劑，可例舉精
瞬科技(inscan tech)公司制- 二 乂 >、姆羅瑪趣(muromachi technos)科技公司
MU-003等。
作為導電性化合物，可例舉以上的化合物。防靜電劑(100質(zhì)量％)中的導 電性化合物的濃度較好為0.1 10質(zhì)量％，從分散性及防靜電性的角度考慮， 較好為0.4 5質(zhì)量％。
作為分散劑，較好為具有陰離子性基團的分散劑。作為陰離子性基團，可 例舉羧基、磺酸基(磺基)、磷酸基(膦?；?、磺酰胺基等具有酸性質(zhì)子的基團 或其鹽，較好是羧基、磺酸基、磷酸基或其鹽，特好的是羧基、磷酸基。分散 劑中包含的陰離子性基團的數(shù)目是每1分子平均1個以上，從進一步改善導電 性化合物的分散性的角度考慮，較好是每1分子平均2個以上，更好是平均5 個以上，特好是平均IO個以上。l分子中包含的陰離子性基團的種類可以是2 種以上。作為具有陰離子性基團的分散劑，可例舉東邦化學工業(yè)株式會社制'+、 ^ 7
t乂一 A(PE-510、 PE曙610、 LB-400、 EC-6103、 RE-410等)、畢克化學日本公司 制Dispe勿k(-llO、 -111、 -116、 -140、 -161、 -162、 -163、 -164、 -170、 -171
等)、東亞合成株式會社制7 口 二., 7 ^ M5300等、日本化藥株式會社制 KAYAMER(PM-21 、 PM-2等)等。
分散劑更好為還具有交聯(lián)性或聚合性官能團的試劑。作為交聯(lián)性或聚合性 的官能團，可例舉能夠進行利用自由基的交聯(lián)反應或聚合反應的乙烯性不飽和 基團(丙烯?；⒓谆；?、烯丙基、苯乙烯基、乙烯氧基等)、陽離子聚 合性基團(環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基(才々寸夕二^基)、乙烯氧基等)、縮聚反應 性基團(水解性甲硅垸基、N-羥甲基等)等，優(yōu)選乙烯性不飽和基團。
作為分散劑，特好的是具有陰離子性基團和交聯(lián)性或聚合性官能團且該交 聯(lián)性或聚合性官能團位于側(cè)鏈的低聚物或聚合物。該低聚物或聚合物的質(zhì)均分 子量(Mw)較好為1000以上，更好為2000 1000000，進一步更好為5000 200000，特好為10000 100000。
分散劑的添加量相對于100質(zhì)量份導電性化合物較好為1 50質(zhì)量份，更 好為5 30質(zhì)量份，特好為5 20質(zhì)量份。
分散劑可單獨使用1種也可并用2種以上。
作為溶劑，優(yōu)選沸點為60 17(TC的液體。
作為溶劑，優(yōu)選乙醇、異丙醇、甲苯、二甲苯、甲基乙基酮、甲基異丁基 酮、環(huán)己酮、丁醇，特好為乙醇、異丙醇、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己 酮或其中的至少1種和水的混合溶劑。
從與基材的密合性及機械強度的角度考慮，防靜電劑可進一步含有粘合 劑。作為粘合劑，可例舉非固化系熱塑性樹脂、熱固性樹脂、光固化性樹脂等 固化性樹脂等，從密合性的角度考慮，特好的是光固化性樹脂。
粘合劑的軟化溫度或玻璃化溫度較好為5(TC以上，更好為7(TC以上，特 好為IO(TC以上。
作為光固化性樹脂，較好是含有1分子中具有2個以上的光聚合性基團的 多官能單體的樹脂，更好是含有1分子中具有3個以上的光聚合性基團的多官 能單體的樹脂。
20作為光聚合性基團，可例舉環(huán)氧基、(甲基)丙烯?；⒁蚁┗?、苯乙烯基、 烯丙基等聚合性基團等，較好為(甲基)丙烯?；?。 作為光固化性樹脂，可例舉以下的單體。
新戊二醇丙烯酸酯、1,6-己二醇(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等。
三甘醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)
丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯等。 季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯等。
2，2-雙{4-(丙烯酰氧基 二乙氧基)苯基}丙烷等。
三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、1,2,4-環(huán)己垸四(甲基)丙烯酸酯、五甘油三丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、 季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、 二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇三 丙烯酸酯、三季戊四醇六丙烯酸酯等。
多官能單體可單獨使用1種也可2種以上并用。
光固化性樹脂優(yōu)選含有光聚合引發(fā)劑。作為光聚合引發(fā)劑，較好的是光自 由基聚合引發(fā)劑或光陽離子聚合引發(fā)劑，特好的是光自由基聚合引發(fā)劑。 在分散劑的存在下將導電性化合物分散于溶劑中可調(diào)制出防靜電劑。 在將導電性化合物分散于溶劑時，最好使用分散機。作為分散機，可例舉 砂磨機(帶銷(pin)的珠磨機等)、Dync^珠磨機、高速葉輪磨機、Eige,破碎機、 礫磨機、輾壓機、超微磨碎機(attritor)、膠體研磨機等，特好的是砂磨機、Dyno 珠磨機。
在將導電性化合物分散于溶劑之前，可實施預分散處理。作為用于預分散 處理的分散機，可例舉球磨機、三輥磨機、捏合機、擠壓機等。 (iii)工序
在防靜電層的表面涂布具有反應性官能團的含氟聚合物溶于溶劑而形成 的溶液，將涂膜干燥，藉此形成第2底涂層。
作為溶劑，可例舉全氟三丁基胺、五氟苯、六氟間二甲苯、氫氟醚等含氟 溶劑。作為涂布方法，可例舉與(i)工序同樣的方法。
作為干燥方法，可例舉與(i)工序同樣的方法。干燥溫度較好為40 200°C。
(iv) 工序
如圖3所示，在第2底涂層22的表面涂布將含氟聚合物溶于溶劑而形成 的溶液，干燥涂膜藉此形成包含含氟聚合物的膜32，獲得模具前體30。 作為溶劑，可例舉在(iii)工序中例示的溶劑等。 作為涂布方法，可例舉與(i)工序同樣的方法。
作為干燥方法，可例舉與(i)工序同樣的方法。干燥溫度是與(iii)工序同樣
的溫度。
可用光固化性或熱固性含氟單體替代將含氟聚合物溶于溶劑而獲得的溶液。
為了控制包含含氟聚合物的膜32的脫模性，可對包含含氟聚合物的膜32 的表面實施等離子體處理、電暈放電、紫外線照射、真空紫外線照射、電子射 線照射、紫外線臭氧處理、離子照射等表面處理。
(v) 工序
如圖4所示，將模具前體30的外周面按壓在經(jīng)過加熱的原始模具40 的表面，并在這一狀態(tài)下使模具前體30旋轉(zhuǎn)，如圖5所示，將原始模具40 的倒置圖案42轉(zhuǎn)印至包含含氟聚合物的膜32而形成圖案層16，獲得圖1 及圖2所示的模具10。
作為原始模具40的材質(zhì)，可例舉硅、玻璃、金屬、樹脂等。
作為將倒置圖案42形成于原始模具40的方法，可例舉光刻法、電子 束光刻法、X射線光刻法、切削加工、激光束加工、超聲波加工、通過陽 極氧化等進行自我組織化的方法等。
將原始模具40按壓于包含含氟聚合物的膜32時所施加的壓力(表壓) 較好為0 10MPa以下。
原始模具40的溫度可根據(jù)含氟聚合物的種類適當決定。
〈微細圖案的形成方法〉
作為使用通過本發(fā)明的制造方法獲得的模具形成微細圖案的方法，可 例舉例如以下的方法。(a) 將模具的圖案層按壓在形成于支承基板上的由液狀光固化性樹脂
獲得的膜狀態(tài)下，對光固化性樹脂照射光線使光固化性樹脂固化，從而形 成所要的微細圖案的方法。
(b) 向模具的圖案層的表面供給液狀的光固化性樹脂，在將該光固化性 樹脂轉(zhuǎn)印至支承基板上的同時對光固化性樹脂照射光線，使光固化性樹脂 固化，從而形成所要的微細圖案的方法。
作為(a)的方法，可例舉例如以下的方法。
如圖6所示，使形成于沿規(guī)定方向移動的帶狀支承基板50上的由液狀 光固化性樹脂獲得的膜52和圓筒狀或圓柱狀的模具10，在以與支承基板 50的移動速度同步的狀態(tài)使模具IO旋轉(zhuǎn)的同時連續(xù)接觸，將模具10的圖 案層16按壓于由光固化性樹脂獲得的膜52，并在這一狀態(tài)下或者將模具 IO從光固化性樹脂分離后，對光固化性樹脂照射來自光源70的光線，使光 固化性樹脂固化，形成與圖案層16的圖案(省略圖示)倒置的微細圖案(省略 圖示)的方法。
作為(b)的方法，可例舉例如以下的方法。
向圓筒狀或圓柱狀的模具的圖案層的表面供給液狀的光固化性樹脂， 使沿規(guī)定方向移動的帶狀支承基板和圓筒狀或圓柱狀的模具，在以與支承 基板的移動速度同步的狀態(tài)使圓筒狀或圓柱狀的模具旋轉(zhuǎn)的同時連續(xù)接 觸，在將光固化性樹脂轉(zhuǎn)印至支承基板上的同時或者轉(zhuǎn)印后對光固化性樹 脂照射來自光源的光線，使光固化性樹脂固化，形成所要的微細圖案的方 法。
光固化性樹脂的固化在模具由透光材料形成時通過從模具側(cè)對光固化 性樹脂照射光線而實施。支承基板由透光材料形成時，也可從支承基板側(cè) 對光固化性樹脂照射光線。此外，可并用利用加熱的固化。
作為光照射的光源，可釆用高壓水銀燈等。作為光線，可采用紫外線 或可見光的光線。
作為支承基板的形狀，可例舉膜或片狀、板狀、圓筒狀、圓柱狀等。 作為支承基板的材料，可例舉樹脂、玻璃、金屬、纖維素材料等。 作為光固化性樹脂，可例舉能夠利用可見光的光線或紫外線固化的公知的光固化性樹脂。
作為用本發(fā)明的模具形成微細圖案的物品，可例舉以下的物品。
光學元件微透鏡陣列、光波導、光開關、菲涅耳環(huán)板、線柵、濾波 器、偏振板、二元光學元件、閃耀(blaze)元件、光子晶體、防反射膜、具備 防反射結(jié)構(gòu)的構(gòu)件等。
芯片類生物芯片、微型整合分析系統(tǒng)用芯片、微反應槽芯片等。
存儲介質(zhì)光盤等。
顯示材料障壁(rib)等.
能量物品燃料電池、三維電池、電容器、玻耳帖元件、太陽能電池等。
半導體領域MEMS(微電子機械系統(tǒng))、半導體裝置等。 其它催化劑的載體、濾光器、傳感器構(gòu)件、超防水材料等。 利用所述本發(fā)明的模具的制造方法，在形成覆蓋基材的外周面?zhèn)鹊陌?含含氟聚合物的膜后，將原始模具的倒置圖案轉(zhuǎn)印至包含含氟聚合物的膜 而形成圖案層，因此可制造在包含含氟聚合物的圖案層無接縫的圓筒狀或 圓柱狀模具。
此外，在形成包含含氟聚合物的膜(之后是形成為圖案層的層)之前，如 果在基材上形成防靜電層，則不會有塵埃等雜質(zhì)附著于包含含氟聚合物的 膜，不會在圖案層生成由雜質(zhì)造成的缺陷。
實施例
以下，通過實施例對本發(fā)明進行更詳細地說明，但本發(fā)明并不僅限于 這些實施例。
實施例中，表面電阻用表面電阻計(八< ^ ^夕MCP-HTP16，三菱化 學株式會社制)以1000V的外加電壓進行測定。
水的接觸角用接觸角計(CA-X150型，協(xié)和表面科學株式會社制)，使 約20 P L的水滴滴下而測定。
在玻璃制高壓釜中加入100g二烯系單體CF2K:FOCF2CF2CFK:F2、0.5g作為鏈轉(zhuǎn)移劑的甲醇及0.7g聚合引發(fā)劑((CH3)2CHOC00)2，通過懸浮聚合 法使它們進行環(huán)化聚合，獲得作為含氟環(huán)狀聚合物的全氟聚合物(F)，它記 為聚合物A。聚合物A的在30°C的全氟(2-丁基四氫呋喃)中的固有粘度[n] 為0.34dL/g。
在熱風循環(huán)式加熱爐中，于大氣氣氛下在30(TC對聚合物A進行1小 時的加熱處理后，在超純水中于ll(TC浸漬1周進行分子末端的官能團處 理。然后，在真空干燥機中于10(TC干燥24小時，獲得作為全氟聚合物(F1) 的聚合物A1。聚合物A1的IR譜中確認有歸屬于羧基的峰。此外，波長 400 2000nm的光線的透射率在厚度100 u m時為95%以上。聚合物Al的 氟含有率是聚合物A1(100質(zhì)量X)中為67質(zhì)量％。由聚合物Al形成的膜 的水的接觸角為101° 。
在1L的不銹鋼制高壓釜中加入5g聚合物Al，對高壓釜內(nèi)進行3次氮 置換后減壓至4KPa。然后，在高壓釜內(nèi)導入用氮氣稀釋為14容量％的氟 氣直至壓力達到101KPa，于230。C進行6小時的氟化處理，獲得5g作為全 氟聚合物(F2)的聚合物A2。聚合物A2的IR譜中確認沒有表示來自聚合引 發(fā)劑的分子末端的烴基、羧基等的峰。聚合物A2的氟含有率是聚合物A2 (100質(zhì)量％)中為68質(zhì)量％，由聚合物A2形成的膜的水的接觸角為116° 。
用水/異丙醇(l/7質(zhì)量比)的混合溶劑將防靜電劑(TA化學公司制，- 二 乂 A F-205)稀釋5倍，調(diào)制出涂布用防靜電劑。在丙烯酸樹脂制管(厚1.8mm、 直徑30mm、長150mm)以120rpm的速度旋轉(zhuǎn)的同時，通過噴涂法在其外 周面涂布該防靜電劑，歷時1分鐘，用干燥機使其干燥，形成防靜電層。 防靜電層的表面電阻為1090/口。
將聚合物Al溶于全氟三丁基胺，調(diào)制出聚合物Al的1質(zhì)量％溶液， 用孔徑0. 2 u m的聚四氟乙烯(PTFE)膜濾器過濾該溶液。在所述管以120rpm 的速度旋轉(zhuǎn)的同時，通過噴涂法在防靜電層的表面涂布該溶液，歷時l分 鐘，用干燥機使其干燥，形成第2底涂層。
將聚合物A2溶于全氟三丁基胺，調(diào)制出聚合物A2的5質(zhì)量％溶液，
25用孔徑0. 2 u m的PTFE膜濾器過濾該溶液。在所述管以120rpm的速度旋轉(zhuǎn) 的同時，通過噴涂法在第2底涂層的表面涂布該溶液，歷時2分鐘，用干 燥機使其干燥。如果由聚合物A2形成的膜的表面不流動，則將管放入干燥 機，于14(TC干燥2小時，獲得圓筒狀的模具前體。防靜電層、第2底涂層 及由聚合物A2形成的膜的合計厚度約lum。
準備5cmX10cm的鎳制原始模具。如圖7所示，在該原始模具的表面 平行地形成在原始模具40的長邊方向延展的多條凸條(倒置圖案42)。凸條 的寬度w為100nra，鄰接的凸條間的距離p為50!am，凸條的高度為50ixra。
將該原始模具加熱至15(TC后，以約l.OMPa的壓力將模具前體的外周 面按壓于原始模具的表面，并在此狀態(tài)下以lrpm的旋轉(zhuǎn)速度使模具前體在 原始模具的長邊方向上旋轉(zhuǎn)，在模具前體的由聚合物A2形成的膜上形成原 始模具的凸條轉(zhuǎn)印的圖案，獲得具有無接縫的圖案層的圓筒狀模具M1。圖 案層的表面電阻為10130/口。
在阻斷了紫外光射入的凈化室內(nèi)，在6mL的管瓶容器中裝入1.31g的 CF2=CFCF2C (CF3) (OCH2OCH3)CH2CH=CH2、 0. 14g的CF2=CFCF2C (CF3) (OH)CH2CH= CH2及0.06g光自由基聚合引發(fā)劑(汽巴精化公司制，irgacure651)，充分 混合，調(diào)制出光固化性樹脂。
用模涂機將該光固化性樹脂供至長25cmX寬12cm的PET膜(東洋紡織 株式會社制，A4100,厚100"m)的易粘接面，由光固化性樹脂形成膜。
使模具M1以lrpra的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)的同時，室溫下以約O. lMPa的壓力 將其按壓于由光固化性樹脂形成的膜，并以此狀態(tài)從PET膜側(cè)對光固化性 樹脂照射來自光源的紫外線(波長365nm下的照度252mW/cm2)，使光固化 性樹脂固化，在PET膜上形成與圖案層的圖案倒置的微細圖案。
產(chǎn)業(yè)上利用的可能性
利用本發(fā)明的制造方法獲得的模具可用作為被用于納米壓印法的模具。 此外，可用作為將光固化性樹脂成形加工時使用的模具，用于網(wǎng)版印刷、凹版 印刷等印刷的模具，2P成形法的模具等。
這里引用了 2006年8月3日提出申請的日本專利申請2006-211906
26號的說明書、權利要求書、附圖及摘要的全部內(nèi)容作為本發(fā)明的說明書的揭不。
權利要求
1.模具的制造方法，它是具有基材和圖案層的模具的制造方法，其中所述基材是圓筒狀或圓柱狀基材，所述圖案層包括含氟聚合物并且其表面上形成有圖案，其特征在于，包括以下工序形成覆蓋圓筒狀或圓柱狀的基材的外周面?zhèn)鹊陌酆衔锏哪ぃ@得模具前體的工序；將所述模具前體的外周面按壓在已經(jīng)加熱的原始模具的具有與所述圖案層的圖案相對應的倒置圖案的表面上，并在這一狀態(tài)下，使所述模具前體旋轉(zhuǎn)，將所述原始模具的倒置圖案轉(zhuǎn)印于包含含氟聚合物的膜而形成圖案層的工序。
2. 如權利要求1所述的模具的制造方法，其特征在于，在形成所述包含含氟聚合物的膜之前，具有形成覆蓋所述基材的外周面?zhèn)鹊姆漓o電層的工序。
3. 如權利要求2所述的模具的制造方法，其特征在于，在形成所述防靜 電層之前，具有形成覆蓋所述基材的外周面?zhèn)鹊牡?底涂層的工序。
4. 如權利要求2或3所述的模具的制造方法，其特征在于，具有形成覆 蓋所述防靜電層的第2底涂層的工序。
5. 如權利要求1 4中任一項所述的模具的制造方法，其特征在于，所述 含氟聚合物是含氟環(huán)狀聚合物或含氟聚醚系聚合物。
6. 如權利要求5所述的模具的制造方法，其特征在于，所述含氟聚合物 的主鏈具有含氟脂肪族環(huán)結(jié)構(gòu)。
7. 如權利要求1 6中任一項所述的模具的制造方法，其特征在于，所述 含氟聚合物是全氟聚合物，其中，與碳原子結(jié)合的氟原子的數(shù)量相對于與碳原 子結(jié)合的氫原子以及與碳原子結(jié)合的氟原子的合計數(shù)量的比例為100%。
8. 如權利要求1 7中任一項所述的模具的制造方法，其特征在于，通過 涂布將含氟聚合物溶于溶劑而形成的溶液并干燥涂膜來形成包含含氟聚合物 的膜。
9. 模具，其特征在于，利用權利要求1 8中任一項所述的模具的制造方 法制得。
10. 微細圖案的形成方法，其特征在于，將權利要求9所述的模具的圖案層按壓在形成于支承基板上的由液狀的光固化性樹脂制成的膜上，并在這一狀 態(tài)下，對光固化性樹脂照射光線使光固化性樹脂固化而形成。
全文摘要
本發(fā)明提供可制造在包含含氟聚合物的圖案層上無接縫的圓筒狀或圓柱狀的模具的方法。該方法是制造具有圓筒狀或圓柱狀的基材12和包含含氟聚合物且表面形成有圖案的圖案層的模具的方法，其特征在于，包括形成覆蓋基材12的外周面?zhèn)鹊陌酆衔锏哪?2，獲得模具前體30的工序；將模具前體30的外周面按壓在經(jīng)過加熱的原始模具40的具有與圖案層的圖案對應的倒置圖案的表面，并在這一狀態(tài)下使模具前體30旋轉(zhuǎn)，將原始模具40的倒置圖案轉(zhuǎn)印于包含含氟聚合物的膜32而形成圖案層的工序。
文檔編號B29C59/04GK101495292SQ200780028598
公開日2009年7月29日 申請日期2007年6月11日 優(yōu)先權日2006年8月3日
發(fā)明者川口泰秀, 淺川昭彥, 野中史子 申請人:旭硝子株式會社