1.一種高氣體阻隔性手機制程保護膜，包括基材層（1）、設(shè)置于基材層（1）下表面上的第一耐酸膠粘劑層（2）以及設(shè)置于第一耐酸膠粘劑層（2）下表面上的離型膜層（3）；其特征在于所述基材層（1）的上表面上設(shè)有第二耐酸膠粘劑層（4），而第二耐酸膠粘劑層（4）的上表面設(shè)有氣體阻隔層（5），所述氣體阻隔層（5）為聚偏二氯乙烯層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高氣體阻隔性手機制程保護膜，其特征在于所述基材層（1）和氣體阻隔層（5）的厚度比為4:5~1:1。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高氣體阻隔性手機制程保護膜，其特征在于所述第二耐酸膠粘劑層（4）與第一耐酸膠粘劑層（2）的厚度比為3:5~1:1。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的高氣體阻隔性手機制程保護膜，其特征在于所述氣體阻隔層（5）的厚度為60~100μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的高氣體阻隔性手機制程保護膜，其特征在于所述第二耐酸膠粘劑層（4）的厚度為4~80μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高氣體阻隔性手機制程保護膜，其特征在于所述基材層（1）為聚乙烯層、聚氯乙烯層和雙向拉伸聚丙烯層中的一種。