1.一種研磨組合物，其包含金屬氧化物顆粒作為磨粒，所述研磨組合物的特征在于，
作為所述金屬氧化物顆粒，包含：在粉末X射線衍射圖案中的衍射強度達到最大的峰部分的半值寬度不足1°的金屬氧化物顆粒；
進一步地，作為選擇比調(diào)節(jié)劑，包含：2種以上的具有不同重均分子量的水溶性聚合物，該水溶性聚合物的不同重均分子量的比值為10以上。
2.如權(quán)利要求1所述的研磨組合物，其中，作為所述金屬氧化物顆粒，包含：氧化鈦、氧化鋯、氧化鈰、氧化鋁、氧化錳中的任一種；或這些金屬氧化物中的至少2種以上的混合物；或者含有這些金屬氧化物中的1種以上的復(fù)合氧化物。
3.如權(quán)利要求1或2所述的研磨組合物，其中，作為所述水溶性聚合物，包含選自由聚羧酸或其鹽、聚苯乙烯磺酸或其鹽、聚丙烯酸或其鹽、聚乙烯吡咯烷酮、陰離子改性聚乙烯醇、聚丙烯酰胺、聚醚所組成的群組中的至少1種以上。
4.如權(quán)利要求1至3中任一項所述的研磨組合物，其中，進一步包含氧化劑。
5.如權(quán)利要求4所述的研磨組合物，其中，作為所述氧化劑，包含過氧化物與鐵(III)鹽中的至少1種以上。
6.如權(quán)利要求5所述的研磨組合物，其中，作為所述過氧化物，包含選自由過硫酸、高碘酸、高氯酸、這些酸的鹽以及過氧化氫所組成的群組中的至少1種以上。
7.如權(quán)利要求5或6所述的研磨組合物，其中，作為所述鐵(III)鹽，包含選自由硫酸鐵(III)、硝酸鐵(III)、氯化鐵(III)、草酸鐵(III)、三(草酸)鐵(III)鉀、六氰合鐵(III)酸銨、六氰合鐵(III)酸鉀、檸檬酸鐵(III)、檸檬酸鐵(III)銨所組成的群組中的至少1種以上。
8.一種研磨方法，其特征在于，使用權(quán)利要求1至7中任一項所述的研磨組合物，來研磨半導(dǎo)體基板。
9.如權(quán)利要求8所述的研磨方法，其中，所述半導(dǎo)體基板包含金屬層。
10.如權(quán)利要求9所述的研磨方法，其中，所述金屬層是鎢或鎢合金。