專利名稱：一種表面處理薄片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及到特種光學(xué)變色顏料領(lǐng)域，特別是無毒、無重金屬的光變顏料，具體而言，本實(shí)用新型提供了一種顏料級的表面處理薄片。
背景技術(shù)：
光學(xué)變色顏料自上世紀(jì)八十年代問世以來，在印刷行業(yè)被廣泛應(yīng)用于貨幣、簽證、 各種有價證券、香煙、酒標(biāo)的防偽。在國內(nèi)如100元、50元人民幣上都用上了該光變顏料隨視角變色的一線防偽技術(shù)。然而，隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人類對各行各業(yè)都提出了環(huán)保要求，尤其重視重金屬的超標(biāo)現(xiàn)象。目前很多行業(yè)都對印刷企業(yè)的印刷產(chǎn)品提出無重金屬，或規(guī)定重金屬在一個非常小的、不影響人類健康的合理范圍。而市面上現(xiàn)有的光變顏料在重金屬方面都嚴(yán)重超標(biāo)，往往是行業(yè)要求的重金屬含量下限的上萬倍乃至幾十上百萬倍。目前這種情況，一方面是光變顏料生產(chǎn)企業(yè)為了追求高效、低成本生產(chǎn)；另外一方面是技術(shù)上難以攻克。要想避開重金屬，目前視乎還沒有很好的技術(shù)辦法，這是因?yàn)楣鈱W(xué)變色顏料其核心薄膜結(jié)構(gòu)是以金屬反射層為對稱中心層，兩邊分別是介質(zhì)層、金屬吸收層共5層薄膜結(jié)構(gòu)，要想避開重金屬，金屬反射層、金屬吸收層都要跟換新材料。這就需要考慮以下幾個技術(shù)問題(1)各金屬層在光學(xué)變色薄膜結(jié)構(gòu)中的功能作用；(2)與介質(zhì)層之間的結(jié)合力，結(jié)合力不好，很容易發(fā)生層與層之間的分離，得不到一個完整的光變薄膜結(jié)構(gòu)，也就失去了光學(xué)變色薄膜顏料的性能；(3)高度的抗腐蝕性能。為了避開重金屬，鋁、鈦、鋁基復(fù)合材料、鈦基復(fù)合材料無疑是光變顏料中金屬層很好的替代材料，但這兩種材料在納米薄膜狀態(tài)下很容易氧化，以鋁、鈦的氧化物出現(xiàn)，如鋁被氧化成氧化鋁薄膜，鈦被氧化成二氧化鈦、三氧化二鈦等，而且這種氧化反應(yīng)是自然發(fā)生的，即在自然條件下，只要與大氣接觸，就被氧化；而且還存在時間上的延續(xù)氧化問題，就是說，隨著時間的延長，氧化成厚度逐漸增加。這樣，以鋁、鈦、鋁基復(fù)合材料、鈦基復(fù)合材料在光變顏料結(jié)構(gòu)中做最外層的吸收層就很容易出現(xiàn)問題。眾所周知，光學(xué)變色顏料是在高真空條件下，以高能量的電子束在基底上依次將固態(tài)的鍍膜材料變成氣態(tài)的然后在基底上沉積下來，或以其他的方式制備，但都有一個共性一在高真空條件下制備。因此，像鈦、鋁這樣活性極強(qiáng)的金屬，在高真空下形成納米薄膜，制備光學(xué)顏料不存在什么問題，但制備完畢，需要暴露大氣收集，這樣最外層的鋁、鈦、鋁基復(fù)合材料、鈦基復(fù)合材料就很容易發(fā)生上述的氧化。同時，制備的光學(xué)變色顏料需收集、烘干、粉碎等一系列工序，在加上庫存時間，時間周期非常長，氧化程度越來越嚴(yán)重，使制備的光學(xué)變色顏料失去變色效果，或者效果不鮮艷，或由于氧化程度不同，各批次效果不穩(wěn)定等等一系列問題。

實(shí)用新型內(nèi)容有鑒于此，有必要針對背景技術(shù)中提到的問題，提供一種切實(shí)可行的無毒、無重金屬的、抗腐蝕性極強(qiáng)的顏料級的表面處理薄片。本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種表面處理薄片，其特征在于包括鋁、鈦、鋁基復(fù)合材料或鈦基復(fù)合材料反射層，其具有第一主表面和相對的第二主表面；第一介質(zhì)層，位于所述反射層的第一主表面上，其具有相對的第一外表面；第二介質(zhì)層，位于所述反射層的第二主表面上，其具有相對的第二外表面；第一吸收層，其位于所述第一介質(zhì)層的第一外表面上，其具有相對的第三外表面；·[0015]第二吸收層，其位于所述第二介質(zhì)層的二第一外表面上，具有相對的第四外表面；第一保護(hù)層，位于所述第一吸收層的第三外表上；以及第二保護(hù)層，位于所述第二吸收層的第四外表上。所述第一保護(hù)層和/或第二保護(hù)層采用折射率小于2. 3的介質(zhì)材料制成。所述第一保護(hù)層和/或第二保護(hù)層采用硫化鋅、二氧化鈦或一氧化鈦。所述第一保護(hù)層和/或第二保護(hù)層均采用折射率小于I. 65的介質(zhì)材料制成。所述第一保護(hù)層和/或第二保護(hù)層均采用二氧化硅或氟化鎂。所述第一保護(hù)層和第二保護(hù)層的厚度相同，其厚度介于O. I -1000納米之間。所述第一保護(hù)層和第二保護(hù)層的厚度為5-50納米。所述第一保護(hù)層和所述第二保護(hù)層是在真空條件下形成的。所述第一吸收層和/或第二吸收層是鋁、鈦、鋁基復(fù)合材料或鈦基復(fù)合材料制成。所述第一、第二吸收層具有相同的物理厚度，其厚度介于1-20納米。所述第一、第二吸收層的厚度介于4-15納米。所述第一、第二吸收層為鋁質(zhì)吸收層，其厚度介于6-11納米。所述第一、第二吸收層為鈦質(zhì)吸收層，其厚度介于8-13納米。所述第一介質(zhì)層和/或第二介質(zhì)層采用折射率小于I. 65的介質(zhì)材料。所述第一介質(zhì)層和/或第二介質(zhì)層采用二氧化硅或氟化鎂。所述第一、第二介質(zhì)層具有相同的物理厚度，其厚度介于100納米-900納米之間。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型具備如下優(yōu)點(diǎn)I、本實(shí)用新型所述表面處理薄片無毒、無重金屬，符合環(huán)保要求；2、保護(hù)層的設(shè)置使得表面處理薄片具有極強(qiáng)的抗腐蝕性；又使表面處理薄片更加易于實(shí)現(xiàn)顏料表面活性處理、能在油墨樹脂體系中更易葉展、變色效果更佳。
圖I是本實(shí)用新型實(shí)施例的表面處理薄片的剖視圖。
具體實(shí)施方式
本實(shí)施例提供一種表面處理薄片，圖I是其結(jié)構(gòu)示意圖。所述表面處理薄片包括一反射層10、分別設(shè)置于該反射層10的二表面的第一介質(zhì)層20和第二介質(zhì)層30、設(shè)置于所述第一介質(zhì)層20外表面的第一吸收層40和設(shè)置于所述第二介質(zhì)層30的外表面的第二吸收層50、設(shè)置于所述第一吸收層40的外表面的第一保護(hù)層60及設(shè)置于所述第二吸收層50的外表面的第二保護(hù)層70。整體上，所述表面處理薄片的結(jié)構(gòu)為順序?qū)盈B設(shè)置的第一保護(hù)層60、第一吸收層40、第一介質(zhì)層20、反射層10、第二介質(zhì)層30、第二吸收層50、第二保護(hù)層70。其中，所述第一、第二保護(hù)層60、70用于阻擋第一、第二吸收層40、50的活性極強(qiáng)的金屬材料與外界接觸，防止氧化、腐蝕，使所述薄片永久保留高色度的光學(xué)變色效果，即在第一視角呈現(xiàn)第一顏色，在第二視角呈現(xiàn)第二顏色。所述反射層10采用鋁、鈦、鋁基復(fù)合材料或鈦基復(fù)合材料。所述第一和第二保護(hù)層60、70為介質(zhì)層，優(yōu)選折射率小于2. 3的介質(zhì)材料，如硫化鋅、二氧化鈦、一氧化鈦等；更優(yōu)選折射率小于I. 65的介質(zhì)材料，如二氧化硅、氟化鎂等。所述第一、第二保護(hù)層60、70的厚度相同，具體的，其厚度介于O. I納米-1000納米，優(yōu)選5納米-50納米。且所述第一、第二保護(hù)層60、70是在真空條件下，制備多層薄膜的過程中形成·的。所述第一、第二吸收層40、50采用鋁、鈦、鋁基復(fù)合材料、鈦基復(fù)合材料中的一種，二者具有相同的物理厚度，介于1-20納米，優(yōu)選4-15納米，更優(yōu)選鋁吸收層6-11納米，鈦吸收層8-13納米。所述第一、第二介質(zhì)層20、30材料優(yōu)選折射率小于I. 65的介質(zhì)材料，如二氧化硅、氟化鎂。第一、第二介質(zhì)層20、30具有相同的物理厚度，介于100納米-900納米之間，具體厚度根據(jù)所述薄片需要的變色效果決定。
權(quán)利要求1.一種表面處理薄片，其特征在于包括 鋁、鈦、鋁基復(fù)合材料或鈦基復(fù)合材料反射層，其具有第一主表面和相對的第二主表面； 第一介質(zhì)層，位于所述反射層的第一主表面上，其具有相對的第一外表面； 第二介質(zhì)層，位于所述反射層的第二主表面上，其具有相對的第二外表面； 第一吸收層，其位于所述第一介質(zhì)層的第一外表面上，其具有相對的第三外表面； 第二吸收層，其位于所述第二介質(zhì)層的二第一外表面上，具有相對的第四外表面； 第一保護(hù)層，位于所述第一吸收層的第三外表上；以及 第二保護(hù)層，位于所述第二吸收層的第四外表上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一保護(hù)層和/或第二保護(hù)層采用折射率小于2. 3的介質(zhì)材料制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一保護(hù)層和/或第二保護(hù)層采用硫化鋅、二氧化鈦或一氧化鈦。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一保護(hù)層和/或第二保護(hù)層均采用折射率小于I. 65的介質(zhì)材料制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一保護(hù)層和/或第二保護(hù)層均采用二氧化硅或氟化鎂。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5任一所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一保護(hù)層和第二保護(hù)層的厚度相同，其厚度介于O. I -1000納米之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一保護(hù)層和第二保護(hù)層的厚度為5-50納米。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一吸收層和/或第二吸收層是招、欽、招基復(fù)合材料或欽基復(fù)合材料制成。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一、第二吸收層具有相同的物理厚度，其厚度介于1-20納米。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一、第二吸收層的厚度介于4-15納米。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一、第二吸收層為鋁質(zhì)吸收層，其厚度介于6-11納米。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一、第二吸收層為鈦質(zhì)吸收層，其厚度介于8-13納米。
13.根據(jù)權(quán)利要求I所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一介質(zhì)層和/或第二介質(zhì)層采用折射率小于I. 65的介質(zhì)材料。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的表面處理薄片，其特征在于，所述第一介質(zhì)層和/或第二介質(zhì)層采用二氧化硅或氟化鎂。
15.根據(jù)權(quán)利要求1、13或14所述的表面處理薄片，其特征在于所述第一、第二介質(zhì)層具有相同的物理厚度，其厚度介于100納米-900納米之間。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種表面處理薄片，所述表面處理薄片包括順序?qū)盈B設(shè)置的第一保護(hù)層、第一吸收層、第一介質(zhì)層、反射層、第二介質(zhì)層、第二吸收層、第二保護(hù)層。本實(shí)用新型所述表面處理薄片無毒、無重金屬，符合環(huán)保要求；保護(hù)層的設(shè)置使得表面處理薄片具有極強(qiáng)的抗腐蝕性；又使表面處理薄片更加易于實(shí)現(xiàn)顏料表面活性處理、能在油墨樹脂體系中更易葉展、變色效果更佳。
文檔編號C09C3/06GK202705279SQ201220332210
公開日2013年1月30日 申請日期2012年7月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月11日
發(fā)明者任磊 申請人:珠海市群望科技有限公司