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光學薄膜用粘合劑層的制造方法、光學薄膜用粘合劑層、粘合型光學薄膜以及圖像顯示裝置的制作方法

文檔序號:3761259閱讀:125來源:國知局
專利名稱:光學薄膜用粘合劑層的制造方法、光學薄膜用粘合劑層、粘合型光學薄膜以及圖像顯示裝置的制作方法
技術領域
本發(fā)明涉及使用水分散型粘合劑的光學薄膜用粘合劑層的制造方法。另外本發(fā)明涉及通過前述制造方法得到的光學薄膜用粘合劑層、以及在光學薄膜上層疊有該粘合劑層的粘合型光學薄膜。進而,本發(fā)明涉及與使用前述粘合型光學薄膜的液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等圖像顯示裝置以及前面板等圖像顯示裝置共同使用的部件。作為前述光學薄膜,可使用偏光板、相位差板、光學補償薄膜、亮度提高薄膜、防反射薄膜等表面處理薄膜、進而將它們層疊的薄膜。
背景技術
對液晶顯示裝置和有機EL顯示裝置等而言,因其圖像形成方式而例如在液晶顯 示裝置中、在液晶単元的兩側必須配置偏光元件,通常粘貼有偏光板。另外在液晶面板和有機EL面板等顯示面板中,除了偏光板以外,為了提高顯示器的顯示品質而逐漸開始使用各種光學元件。另外,為了對液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等圖像顯示裝置進行保護、或賦予高級感、或對設計進行區(qū)別化而使用了前面板。與這些液晶顯示裝置和有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置、前面板等圖像顯示裝置一同使用的部件中,例如,使用用于防止著色的相位差板、用于改善液晶顯示器的視場角的視場角擴大薄膜、進而用于提高顯示器的對比度的亮度提高薄膜、為了賦予表面耐擦傷性而使用的硬涂層薄膜、用于防止對圖像顯示裝置的反射的防眩光處理薄膜、抗反射薄膜、低反射薄膜等防反射薄膜等表面處理薄膜。這些薄膜統(tǒng)稱為光學薄膜。將前述光學薄膜粘貼在液晶単元和有機EL面板等顯示面板、或前面板上時,通常使用粘合剤。另外,關于光學薄膜與液晶單元以及有機EL面板等顯示面板、或前面板、或光學薄膜之間的粘接,通常,為了減少光的損失,各材料使用粘合劑進行密合。這種情況下,由于具有在固定光學薄膜時不需要干燥エ序等優(yōu)點,因此通常使用在光學薄膜的一側預先作為粘合劑層而設置的粘合型光學薄膜。一直以來,作為用于形成上述粘合型光學薄膜的粘合劑層的粘合劑,從在加熱或加濕熱環(huán)境中耐久性優(yōu)異的觀點來看,主要使用有機溶劑型粘合剤。作為有機溶劑型粘合齊U,通常使用無色透明且與液晶単元和有機EL面板等顯示面板、或前面板的粘接性良好的丙烯酸系粘合劑。關于前述粘合劑層,從各種觀點提出了控制粘合劑層的表面狀態(tài)的方案。前述有機溶劑型粘合劑由于是固體成分濃度低(通常為1(T15重量%左右)的溶液,因此有時會由于干燥不均勻、受風不均勻而導致涂覆面的平滑性容易降低,對由該溶液形成的粘合劑層的辨識性造成影響。例如,提出了可以通過控制粘合劑層的涂覆厚度、表面粗糙度來抑制粘合劑層的不均勻、改善辨識性的方案(專利文獻I)。但是,在專利文獻I中存在為了進行前述改善而伴有干燥溫度、涂覆速度降低等生產(chǎn)率的降低的問題。近年來,從減少地球環(huán)境負擔、提高操作穩(wěn)定性的觀點來看,不使用有機溶劑的無溶劑型粘合劑的開發(fā)正在盛行。作為無溶劑型粘合劑,提出了使用水作為分散介質、使粘合劑成分分散在水中的水分散型粘合剤。例如,提出了通過控制水分散型粘合劑的表面張カ而形成平滑的粘合劑層的方案(專利文獻2)。根據(jù)專利文獻2的方法,能夠利用水分散型粘合劑形成平滑的粘合劑層,但光學薄膜用的粘合劑層要求進ー步使平滑性良好、提高辨識性。另外,提出了由對固體成分濃度、平均粒徑、粘度進行控制的丙烯酸系共聚物的乳液形成的水分散型丙烯酸系粘合劑組合物(專利文獻3)。根據(jù)專利文獻3,公開了可得到日本紙帶用途所要求的沒有收縮、皺褶的平滑的涂覆面,但在光學薄膜用途中,專利文獻3中記載的平滑性的程度不足,無法滿足光學薄膜用的粘合劑層所要求的平滑性?,F(xiàn)有技術文獻專利文獻專利文獻1:日本特開2008-302580號公報
專利文獻2 :日本特開2005-320487號公報專利文獻3 :日本特開平8-218047號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題本發(fā)明的目的在于提供可減輕辨識性的問題而沒有涂覆速度的降低等損害生產(chǎn)率的情況的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,所述光學薄膜用粘合劑層應用于液晶顯示裝置等圖像顯示裝置,是使用水分散型粘合劑形成的。另外本發(fā)明目的在于提供通過前述制造方法而得到的光學薄膜用粘合劑層。另外,本發(fā)明的目的在于提供在光學薄膜的至少ー側層疊有前述光學薄膜用粘合劑層的粘合型光學薄膜。進而本發(fā)明的目的在于,提供使用前述粘合型光學薄膜的圖像顯示裝置。用于解決問題的方案本發(fā)明人等為了解決前述問題而反復進行了深入的研究,結果發(fā)現(xiàn),通過下述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法等可解決前述問題,從而完成了本發(fā)明。S卩,本發(fā)明涉及ー種光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,其為包括涂覆エ序(I)以及干燥エ序(2)的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,所述涂覆エ序(I)為將含有水分散液的水分散型粘合劑涂覆在脫模薄膜上的エ序,所述水分散液含有水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物,所述干燥エ序(2)為對所涂覆的水分散型粘合劑進行干燥的エ序,其中,前述水分散型粘合劑在剪切速度4000 (1/s)下的粘度為0. OrO.1Pa S,在前述脫模薄膜上形成的前述光學薄膜用粘合劑層的表面的表面粗糙度(Ra)為10 40nm,并且,前述光學薄膜用粘合劑層的厚度為23 ii m時的霧度值為1%以下。在前述光學薄膜用粘合劑層的制造方法中,前述干燥エ序(2)優(yōu)選包括溫度4(TllO°C的第一干燥エ序(21)和溫度10(Tl60°C的第二干燥エ序(22)。在前述光學薄膜用粘合劑層的制造方法中,前述水分散型粘合劑的(甲基)丙烯酸系聚合物的體積平均粒徑優(yōu)選為180nm以下。在前述光學薄膜用粘合劑層的制造方法中,涂覆エ序(I)的涂覆速度優(yōu)選為10 100m/mino在前述光學薄膜用粘合劑層的制造方法中,前述水分散型粘合劑優(yōu)選固體成分濃度為5 45重量%的水分散液。在前述光學薄膜用粘合劑層的制造方法中,前述(甲基)丙烯酸系聚合物優(yōu)選含有相對于總単體單元為60、9. 9重量%的(甲基)丙烯酸烷基酯和0. riO重量%含羧基單體作為單體單元。在前述光學薄膜用粘合劑層的制造方法中,前述(甲基)丙烯酸系聚合物優(yōu)選還含有含磷酸基單體作為單體單元。前述含磷酸基單體的比率優(yōu)選為(甲基)丙烯酸系聚合物的總單體單元的0. r2o重量%。 在前述光學薄膜用粘合劑層的制造方法中,前述(甲基)丙烯酸系聚合物優(yōu)選還含有含烷氧基甲硅烷基単體作為單體単元。前述含烷氧基甲硅烷基単體的比率優(yōu)選為(甲基)丙烯酸系聚合物的總單體單元的0. ooTi重量%。前述光學薄膜用粘合劑層的制造方法中,優(yōu)選的是,6(T99. 9重量%的(甲基)丙烯酸烷基酯単體單元為60、9. 8重量%的丙烯酸烷基酯單體単元和0. f 39. 9重量%的甲基丙烯酸烷基酯單體単元。另外,作為丙烯酸烷基酯,優(yōu)選為碳原子數(shù):T9的丙烯酸烷基酷,甲基丙烯酸烷基酯優(yōu)選為選自甲基丙烯酸甲酷、甲基丙烯酸こ酯以及甲基丙烯酸環(huán)己酯中的至少ー種物質。另外本發(fā)明涉及ー種光學薄膜用粘合劑層,其特征在于,其是通過前述制造方法得到的光學薄膜用粘合劑層。另外本發(fā)明涉及一種粘合型光學薄膜,其特征在于,在光學薄膜的至少ー側層疊有前述光學薄膜用粘合劑層。另外本發(fā)明涉及ー種圖像顯示裝置,其特征在于,其使用了至少一片前述粘合型光學薄膜。發(fā)明的效果在本發(fā)明的光學薄膜用粘合劑層的制造方法中,在水分散型粘合劑的涂覆エ序(I)中,使用低粘度(剪切速度4000 (1/s)下的粘度為0. OrO.1Pa-s)的水分散型粘合剤。推測在本發(fā)明中,通過對前述以低粘度涂覆的水分散型粘合劑的涂覆膜實施干燥エ序(2 ),涂覆膜的干燥在涂覆膜中的水分散型粘合劑的液體流動均勻的情況下進行,從而可形成具有表面粗糙度(Ra)為IOlOnm的均勻、平滑的表面的粘合劑層而沒有涂覆速度的降低等損害生產(chǎn)率的情況。這樣得到的本發(fā)明的粘合劑層表面的平滑性良好、可減輕辨識性的問題。另外,在本發(fā)明的光學薄膜用粘合劑層的制造方法中,在水分散型粘合劑的涂覆エ序(I)之后實施形成粘合劑層的干燥エ序(2),該干燥エ序(2)中,例如,對涂覆的水分散型粘合劑吹送熱風進行干燥時,優(yōu)選采用控制在規(guī)定溫度范圍內(nèi)的第一干燥エ序(21)和第ニ干燥エ序(22)。在第一干燥エ序(21)中,通過在溫度4(TllO°C下對以低粘度涂覆的水分散型粘合劑的涂覆膜實施干燥,使得涂覆膜的干燥在涂覆膜中的水分散型粘合劑的液體流動均勻的情況下進行,接著,實施第二干燥エ序(22)結束干燥??梢酝茰y出,從形成具有表面粗糙度(Ra)為IOlOnm的均勻、平滑的表面的粘合劑層而沒有涂覆速度的降低等損害生產(chǎn)率的情況的觀點來看,這樣分階段地實施干燥エ序(2)中涂覆膜的干燥處理是有效的。
以往,形成粘合劑層時,像有機溶劑型粘合劑那樣,粘合劑溶液的固體成分濃度低(通常為10-15重量%左右)的情況下,對涂覆膜吹送熱風進行干燥時會出現(xiàn)如下情況受風不均勻、涂覆面的溶劑的蒸發(fā)速度不均勻而產(chǎn)生不均勻、或者由對流而導致涂覆面的溶劑的蒸發(fā)速度不均勻。因此,在由有機溶劑型粘合劑形成的粘合劑層中無法得到均勻的涂覆面,粘合劑層表面的平滑性容易受損。另一方面,在水分散型粘合劑的情況下,可以采用寬范圍的固體成分濃度(5 45重量%),例如,能夠以高固體成分濃度(35 40重量%)進行涂覆。在使用上述低粘度的水分散型粘合劑的本發(fā)明的制造方法中,使用滿足高固體成分濃度的水分散型粘合劑時,涂覆膜中的溶劑(水)的量少,可降低受風不均勻、涂覆面中的溶劑的蒸發(fā)速度的不均勻化,可抑制因受熱不均勻導致的對流,形成具有更高平滑性的表面的粘合劑層。另外,在使用有機溶劑型粘合劑的情況下,形成具有平滑的表面的粘合劑層時,干燥溫度、涂覆速度降低等會損害生產(chǎn)率,但基于上述水分散型粘合劑的本發(fā)明的制造方法可提高粘合劑層的表面的平滑性而沒有涂覆速度的降低等損害生產(chǎn)率的情況。另外本發(fā)明的粘合劑層透明性良好,粘合劑層的霧度值可滿足1%以下,也不會對光學特性造成影響。
具體實施例方式在本發(fā)明的制造方法中,利用水分散型粘合劑形成光學薄膜用粘合劑層。該水分散型粘合劑物為含有水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物的水分散液。以下,水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物也簡稱為(甲基)丙烯酸系聚合物。前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為主要單體單元。需要說明的是,(甲基)丙烯酸烷基酯是指丙烯酸烷基酯和/或甲基丙烯酸烷基酯,本發(fā)明的(甲基)表不同樣的意思。水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物例如通過如下方法得到在自由基聚合引發(fā)劑和表面活性劑的存在下,在水中對以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分的單體成分進行乳液聚合,從而得到。作為前述單體成分,例如,含有60-99. 9重量%的具有碳原子數(shù)Γ14的直鏈或支鏈的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯以及0.1-10含羧基單體的單體成分是適宜的。作為用于前述(甲基)丙烯酸系聚合物的(甲基)丙烯酸烷基酯,從乳液聚合的反應性的觀點來看,優(yōu)選對水的溶解度為一定的范圍的(甲基)丙烯酸烷基酯,另外,優(yōu)選以烷基的碳原子數(shù)為f 18的(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分。作為(甲基)丙烯酸烷基酯的具體例子,可列舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等(甲基)丙烯酸烷基酯。它們可以單獨使用或組合兩種以上使用。在它們當中,優(yōu)選(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯等烷基的碳原子數(shù)為3、的(甲基)丙烯酸烷基酯。優(yōu)選含有總單體單元的6(Γ99. 9重量%、進一步優(yōu)選為70-99.5%、進一步優(yōu)選為8(Γ99重量%、進一步優(yōu)選為80^97重量%、進一步優(yōu)選為8(Γ95重量%的(甲基)丙烯酸烷基酯。此外,作為用于前述(甲基)丙烯酸系聚合物的(甲基)丙烯酸烷基酯,優(yōu)選以丙烯酸烷基酯為主成分,其中,優(yōu)選丙烯酸丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸正辛酯等烷基的碳原子數(shù)為3、的丙烯酸烷基酯。優(yōu)選含有總單體單元的6(Γ99. 8重量%,進一步優(yōu)選為70 99. 5重量%、進一步優(yōu)選為80 99重量%、進一步優(yōu)選為80 97重量%、進一步優(yōu)選為8(Γ95重量%的該丙烯酸烷基酯。另一方面,從耐久性提高的觀點來看,在前述(甲基)丙·烯酸系聚合物中,作為(甲基)丙烯酸烷基酯,優(yōu)選與丙烯酸烷基酯一同使用甲基丙烯酸烷基酯。在它們當中,優(yōu)選甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸環(huán)己酯等。甲基丙烯酸烷基酯優(yōu)選為總單體單元的O. f 39. 9重量%、進一步優(yōu)選為O. Γ30重量%、進一步優(yōu)選為廣20重量%、進一步優(yōu)選為f 15重量%、進一步優(yōu)選為f 10重量%。在前述(甲基)丙烯酸系聚合物中,為了提高粘合劑的粘接性和賦予水分散液穩(wěn)定性,作為共聚單體,含有含羧基單體作為單體單元。作為含羧基單體,可例示出具有羧基以及(甲基)丙烯?;?、乙烯基等自由基聚合性的不飽和雙鍵的單體,例如可列舉出(甲基)丙烯酸、衣康酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯等。優(yōu)選含有(甲基)丙烯酸系聚合物的總單體單元的O. Γ10重量%、進一步優(yōu)選為O. 5^7重量%、進一步優(yōu)選為I飛重量%的含羧基單體。在前述(甲基)丙烯酸系聚合物中,在前述(甲基)丙烯酸烷基酯和含羧基單體的基礎上,以水分散液的穩(wěn)定化、粘合劑層對光學薄膜等基材的密合性的提高、以及對被粘物的初始粘接性的提高等為目的,可通過共聚導入一種以上具有(甲基)丙烯?;蛞蚁┗炔伙柡碗p鍵的聚合性官能團的共聚單體。另外,作為共聚單體,可列舉出含磷酸基單體。含磷酸基單體有提高對玻璃的密合性的效果。作為含磷酸基單體,例如可列舉出具有下述通式(I)所示的磷酸基或其鹽的含磷酸基單體[化學式I]
權利要求
1.一種光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,其為包括涂覆工序(I)以及干燥工序(2)的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,所述涂覆工序(I)為將含有水分散液的水分散型粘合劑涂覆在脫模薄膜上的工序,所述水分散液含有水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物,所述干燥工序(2)為對所涂覆的水分散型粘合劑進行干燥的工序,其中, 所述水分散型粘合劑在剪切速度4000 (Ι/s)下的粘度為O. 0Γ0.1Pa · s, 在所述脫模薄膜上形成的所述光學薄膜用粘合劑層的表面的表面粗糙度(Ra)為10 40nm,并且, 所述光學薄膜用粘合劑層的厚度為23 μ m時的霧度值為1%以下。
2.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,所述干燥工序(2)包括溫度4(TllO°C的第一干燥工序(21)、和溫度10(Tl60°C的第二干燥工序(22)。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,所述水分散型粘合劑的(甲基)丙烯酸系聚合物的體積平均粒徑為ISOnm以下。
4.根據(jù)權利要求廣3中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,涂覆工序(I)的涂覆速度為l(Tl00m/min。
5.根據(jù)權利要求廣4中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,所述水分散型粘合劑是固體成分濃度為5 45重量%的水分散液。
6.根據(jù)權利要求廣5中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,所述(甲基)丙烯酸系聚合物含有相對于總單體單元為6(Γ99. 9重量%的(甲基)丙烯酸烷基酯和O. Γ10重量%的含羧基單體作為單體單元。
7.根據(jù)權利要求6所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,所述(甲基)丙烯酸系聚合物還含有含磷酸基單體作為單體單元。
8.根據(jù)權利要求7所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,所述含磷酸基單體的比率為(甲基)丙烯酸系聚合物的總單體單元的O. Γ20重量%。
9.根據(jù)權利要求61中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,所述(甲基)丙烯酸系聚合物還含有含烷氧基甲硅烷基單體作為單體單元。
10.根據(jù)權利要求9所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,所述含烷氧基甲硅烷基單體的比率為(甲基)丙烯酸系聚合物的總單體單元的ο. 00Γ1重量%。
11.根據(jù)權利要求6 10中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,6(Γ99. 9重量%的(甲基)丙烯酸烷基酯單體單元為6(Γ99. 8重量%的丙烯酸烷基酯單體單元和0. Γ39. 9重量%的甲基丙烯酸烷基酯單體單元。
12.根據(jù)權利要求11所述的光學薄膜用粘合劑層的制造方法,其特征在于,丙烯酸烷基酯為碳原子數(shù)3、的丙烯酸烷基酯,甲基丙烯酸烷基酯為選自甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯和甲基丙烯酸環(huán)己酯中的至少一種物質。
13.一種光學薄膜用粘合劑層,其特征在于,其是通過權利要求廣12中的任一項所述的制造方法得到的光學薄膜用粘合劑層。
14.一種粘合型光學薄膜,其特征在于,在光學薄膜的至少一側層疊有權利要求f 13中的任一項所述的光學薄膜用粘合劑層。
15.一種圖像顯示裝置,其特征在于,其使用了至少一片權利要求14所述的粘合型光學薄膜。
全文摘要
本發(fā)明提供一種可減輕辨識性問題而沒有涂覆速度的降低等損害生產(chǎn)率的情況的光學薄膜用粘合劑層的制造方法、光學薄膜用粘合劑層、粘合型光學薄膜以及圖像顯示裝置。所述制法包括涂覆工序(1)以及干燥工序(2),所述涂覆工序(1)為將含水分散液的水分散型粘合劑涂覆在脫模薄膜上的工序,所述水分散液含有水分散型的(甲基)丙烯酸系聚合物,所述干燥工序(2)為對所涂覆的水分散型粘合劑進行干燥的工序,其中,所述水分散型粘合劑在剪切速度4000(1/s)下的粘度為0.01~0.1Pa·s,在所述脫模薄膜上形成的所述光學薄膜用粘合劑層表面的表面粗糙度(Ra)為10~40nm,且所述光學薄膜用粘合劑層的霧度值為1%以下。
文檔編號C09J7/02GK103013362SQ201210364698
公開日2013年4月3日 申請日期2012年9月26日 優(yōu)先權日2011年9月26日
發(fā)明者下栗大器, 乾州弘, 高橋俊貴, 卷幡陽介, 細川敏嗣, 石井孝證 申請人:日東電工株式會社
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