專利名稱：涂敷裝置以及涂敷方法
技術領域：
本發(fā)明涉及涂敷裝置以及涂敷方法，特別涉及適合對連續(xù)行進的web (帶狀可撓性支撐體)涂敷各種液狀組成物，形成長條且寬幅的涂敷膜面的涂敷裝置以及涂敷方法。
背景技術：
以往，在相片感光材料或磁記錄介質等領域中，采用在連續(xù)行進的帶狀可撓性支 撐體(以下稱作“web”)上涂敷規(guī)定的涂敷液、形成涂敷膜的涂敷工序。近年來，在這些領 域中，要求能夠得到涂敷膜的厚度精度高、且表面平滑涂敷不均少的涂敷膜的涂敷技術。同樣，在光學補償膜、防止反射膜、防眩性膜等具有各種功能的光學膜的制造中所 應用的涂敷工序中，也要求上述的涂敷技術。以往，作為對web的面涂敷涂敷液的涂敷裝置，例如有輥涂機型、凹版印刷涂敷 型、輥涂加刮刀型、反向輥涂機型、擠壓型、滑動涂敷型等，目前的狀況是根據用途而分開使用。在這些任意一種的涂敷裝置中，為了得到膜的厚度精度高、且表面平滑無涂敷不 均的涂敷膜，重要的是除去涂敷時的振動。因此，一般是在基準面(通常是建筑物的1層) 設置獨立的大規(guī)模的地基，在其上設置涂敷裝置。由此，抑制了地基自身的振動，防止對涂 敷膜的不良影響。可是，該方法存在下述的不良情況，即涂敷裝置向基準面的設置是有原則的，不僅 需要花費大量的設置費用，而且在設計上以及布局(layout)上也受到制約。作為解決這樣的問題點的方案，提出了在反向輥涂敷裝置中設置用于抑制web振 動的減振部(參照專利文獻1)。另外，提出了一種當對圓筒狀的基材進行涂敷時，在防振臺 上設置一個以上的驅動系統(tǒng)的方案(參照專利文獻2)。專利文獻1 特開2002-239432號公報專利文獻2 特開平9-206660號公報但是，即使采用上述以往所公知的各種方法，為了得到膜的厚度精度高、且表面平 滑無涂敷不均的涂敷膜，無論是在設備方面，還是在條件設定等方面也都難以得到最佳的 范圍，因此，要求對其進行改善。而且，在以往的情況下，不清楚為了得到膜的厚度精度高、且表面平滑無涂敷不均 的涂敷膜，應該將涂敷裝置的什么參數控制在最佳范圍還不詳細，主要基于經驗和直覺來 進行管理，處于無法把握最佳頭緒的狀態(tài)。并且，涂敷液多使用易燃性的溶劑，無法消除安全層面的隱患。

發(fā)明內容
本發(fā)明鑒于這樣的情況而提出，其目的在于，提供一種在一邊利用涂敷液供給機 構供給涂敷液，一邊在被連續(xù)搬送到與該涂敷液供給機構隔開規(guī)定間隔的位置的帶狀可撓 性支撐體上形成規(guī)定膜厚的涂敷膜的技術領域中，能夠得到不需要大量的設置費用、設計上以及布局上的制約少、膜的厚度精度高且表面平滑無涂敷不均的涂敷膜的涂敷裝置以及涂敷方法。為了達到上述目的，本發(fā)明提供一種涂敷裝置，由供給涂敷液的涂敷液供給機構、和涂敷機構構成，所述涂敷機構在利用所述涂敷液供給機構提供涂敷液的同時，在被連續(xù) 搬送到與所述涂敷液供給機構隔開規(guī)定間隔的位置的帶狀支撐體上形成規(guī)定膜厚的涂敷 膜，所述涂敷機構被固定在有源除振裝置上，在有源除振裝置的底座上通過空氣促動器支 撐有負載承受部，在該負載承受部上固定有能夠檢測出加速度的加速度傳感器，而且，在底 座與負載承受部之間設置有能夠測定負載承受部的變位的變位傳感器，并且，在底座上還 固定有能夠檢測出加速度的加速度傳感器。根據本發(fā)明，由于涂敷機構被固定在有源除振裝置上，所以，能夠抑制各種的振 動，難以對涂敷膜造成不良影響。結果，可以容易地得到膜的厚度精度高、且表面平滑、涂敷 不均少的涂敷膜。而且，在設置上不需要大量費用，設計上以及布局上的制約也少。即，不 一定需要將涂敷裝置設置在基準面，例如也能夠設置在4層。另外，有源除振裝置也稱作active除振裝置，與通常的使用了層疊橡膠、空氣彈 簧等的除振裝置(所謂的無源除振裝置)不同，其是一種使用空氣促動器等通過反饋控制 以有源的方式進行除振的裝置。作為市場上販賣的產品，例如可以使用特許機器株式會社 制造的裝置，商品名有源微振動控制裝置。而且，作為被涂敷物體的帶狀支撐體通常大多采用帶狀的可撓性支撐體(web)，但 是，即便是帶狀的板狀體例如玻璃基板、硅晶片等，也可以用于本發(fā)明，能夠得到同樣的效果。在本發(fā)明中，優(yōu)選所述有源除振裝置是反饋控制由傳感器所檢測的振動成分，使 空氣促動器動作，以有源的方式進行除振的裝置。只要是這樣構成的有源除振裝置，就能夠 抑制各種的振動，難以對涂敷膜造成不良影響。而且，在本發(fā)明中，優(yōu)選所述有源除振裝置形成防爆構造。如果這樣的除振裝置具 備防爆規(guī)格，則在安全層面上也很出色。并且，在本發(fā)明中，優(yōu)選所述涂敷機構的振動加速度為0. 2Gal以下。根據本發(fā)明 申請人:所進行的各種實驗，只要是具有這樣振動加速度的涂敷機構，則可以確認能夠得到 膜的厚度精度高、且表面平滑、無涂敷不均的涂敷膜。其詳細內容將在后面敘述。另外，在本發(fā)明中，優(yōu)選所述涂敷機構的一次固有頻率為80Hz以上。根據本發(fā)明 申請人:所進行的各種實驗，只要是具有這樣的一次固有頻率的涂敷機構，則確認可以得到 膜的厚度精度高、且表面平滑、無涂敷不均的涂敷膜。其詳細內容將在后面敘述。此外，本發(fā)明提供一種使用了上述涂敷裝置的涂敷方法，其特征在于，設置有所述 涂敷裝置的臺面的一次固有頻率為IOHz以上。根據本發(fā)明申請人進行的各種實驗，通過將 涂敷裝置設置在具有這樣的一次固有頻率的臺面上，可以確認能夠得到膜的厚度精度高、 且表面平滑、無涂敷不均的涂敷膜。其詳細內容將在后面敘述。如以上所說明的那樣，根據本發(fā)明，由于涂敷機構被固定在有源除振裝置上，所 以，能夠抑制各種的振動，難以對涂敷膜造成不良影響。其結果，能夠容易地得到膜的厚度 精度高、且表面平滑、無涂敷不均的涂敷膜。


圖1是用于說明采用了本發(fā)明所涉及的涂敷方法以及涂敷裝置的光學補償板的制造生產線的說明圖。圖2是表示涂敷裝置的實施方式的主要部分放大概念圖。圖3是剖開了涂敷頭的一部分的立體圖。圖4是表示涂敷裝置被設置的狀態(tài)的立體圖。圖5是說明有源除振裝置的系統(tǒng)構成的概念圖。圖中10-涂敷裝置，14-涂敷液容器，15-泵，16-web (帶狀可撓性支撐體)，18-涂 敷頭，20-支承輥，28-涂敷膜，30-涂敷頭架臺，32-有源除振裝置，34-減壓室，66-送出機， 68-導向輥，76-干燥帶，78-加熱帶，80-紫外線燈，82-卷繞機。
具體實施例方式下面，參照附圖，對本發(fā)明所涉及的涂敷裝置以及涂敷方法的優(yōu)選實施方式進行 詳細說明。圖1是用于說明采用了本發(fā)明所涉及的涂敷裝置以及涂敷方法的光學補償板的 制造生產線的說明圖。圖2是表示該制造生產線中涂敷裝置10的實施方式的主要部分放 大概念圖，圖3是涂敷裝置10中剖開了涂敷頭18的一部分的立體圖。圖4是表示涂敷裝 置10被設置的狀態(tài)的立體圖。光學補償板的制造生產線如圖1所示，將預先形成有取向膜形成用的聚合物層的 透明支撐體即web 16從送出機66送出。web 16由導向輥68導向并被送入到拋光處理裝 置70中。拋光輥72用于對聚合物層實施拋光處理而設置。在拋光處理裝置70的下游設 置有除塵機74，可以除去附著在web 16表面的灰塵。在除塵機74的下游設置有涂敷裝置10，可以將包含圓盤向列型(disconematic) 液晶的涂敷液涂敷到web 16上。在該下游處依次設置有干燥帶76、加熱帶78，可以在web 16上形成液晶層。進而，在其下游側設置有紫外線燈80，通過紫外線照射使液晶交聯(lián)，可以 形成所期望的聚合物。然后，通過設置在其下游的卷繞機82，來卷繞形成了聚合物的web 16。如圖2所示，涂敷裝置10由涂敷液容器14、由該涂敷液容器14輸送涂敷液的泵 15、將由泵15輸送而來的涂敷液涂敷到web 16上的涂敷頭18、將這些設備連接在一起的配 管、和與涂敷頭18對向設置來支撐涂敷時的web 16的支承輥20構成。為了使涂敷液的供給流量穩(wěn)定化，優(yōu)選使用定量泵作為泵15。作為定量泵，例如可 以使用齒輪泵、滾柱泵等各種泵，可以特別優(yōu)選將齒輪泵用于本發(fā)明的涂敷。涂敷頭18以涂敷頭前端靠近連續(xù)行進的web 16的狀態(tài)與其對向配置。如圖3所 示，在涂敷頭18內沿著web 16的寬度方向平行地形成有筒狀的空心(pocket)部18B，并 且，涂敷用空心部18B與供給線18A連接。另外，在涂敷頭18內形成有在涂敷頭前端具有 噴出口的涂敷用狹縫18C，并且，涂敷用狹縫18C與涂敷用空心部18B連通。涂敷用狹縫18C是連接空心部18B與涂敷頭前端的狹窄流路，在webl6的寬度方 向延長。而且，從供給線18A將涂敷到web 16所期望的涂敷量的涂敷液提供到涂敷頭18 的涂敷用空心部18B。另外，在圖3中，作為將涂敷液輸送到涂敷用空心部18B的方法，是從涂敷用空心部18B的一方側進行供給的，但除此之外，也存在著從涂敷用空心部18B的一方側進行供 給從另一方側抽出的類型，或從涂敷用空心部18B的中央部進行供給使其向兩側分流的類 型，可以使用任意類型。如圖2所示，涂敷裝置10構成為，涂敷頭18的前端與支承輥20的順時針方向的 9點位置對置。而且，涂敷頭18的前端與web 16的表面之間的距離設定為t。如圖所示， 在通過涂敷頭18涂敷了涂敷液的web 16上形成有涂敷膜28，該web 16由支承輥20支撐， 向順時針方向搬送。另外，涂敷頭I8的前端位置不限定于支承輥20的順時針9點位置。只要能夠進 行均勻的涂敷，涂敷頭18的前端位置就沒有限制。對支承輥20的外徑尺寸沒有特別限制，只要能夠進行均勻的涂敷即可。而且，替 代如圖所示的支承輥20，可以采用將多個小直徑的支承輥配置成圓周狀的構成。另外，作為涂敷頭18，不限定于擠壓型，只要是由狹縫供給涂敷液對web 16涂敷 涂敷液的構成，可以使用任意形式的涂敷頭。而且，也可以采用不使用涂敷頭18的方式的 涂敷機構，例如可以采用輥涂方式的涂敷機構、反向涂敷方式的涂敷機構等各種方式的涂 敷機構。另外，雖然省略了圖示，但是也可以任意設置控制web 16的張力的張力輥、或控 制web 16的搬送的驅動輥。接著，參照圖4，對本發(fā)明的特征部分即與防爆規(guī)格的有源除振裝置相關的構成進 行說明。在該構成中，涂敷頭18被固定在涂敷頭架臺30之上，在該涂敷頭架臺30的下面 的4個角配置有有源除振裝置32、32···，通過該有源除振裝置32、32···被臺面F所支撐。另外，在支承輥20的下方設置有減壓室34，通過使該減壓室34內處于減壓狀態(tài)， 可以使形成在web 16和涂敷頭18之間的涂敷液的液珠(bead)穩(wěn)定化。該涂敷頭架臺30是根據web 16的寬度等而形成的具有大型尺寸的部件，例如，可 以形成為平面尺寸是2. 4X 1. 5m、總重量為6. 5噸。對于固定在這樣的涂敷頭架臺30上的 涂敷頭18，通過配置有源除振裝置32、32···，可以抑制各種振動，由此難以對涂敷膜造成不 良的影響。圖5是說明有源除振裝置32的系統(tǒng)構成的概念圖。在有源除振裝置32的底座40 上通過空氣促動器42支撐有負載承受部44。在該負載承受部44上固定有能夠檢測出加速 度的加速度傳感器46，而且，在底座40與負載承受部44之間設置有能夠測定負載承受部 44的變位的變位傳感器48，并且，在底座40上還固定有能夠檢測出加速度的加速度傳感器 50。負載承受部44的控制，通過利用伺服閥54調整由空氣源52供給的壓縮空氣的流 量，提供給空氣促動器42而進行。來自加速度傳感器46的信號經由振動控制器56反饋到 該伺服閥54中，另外，來自變位傳感器48的信號經由位置控制器58被反饋到該伺服閥54 中。另外，所述的加速度傳感器50用于前饋控制。構成如下所述的有源除振系統(tǒng)，即在對這樣的系統(tǒng)施加干擾F時，以質量M、阻尼 Z、彈簧K代表的控制對象由空氣促動器42控制，在除去來自臺面的振動的同時，對于施加 于負載承受部44的干擾F也具有減振效果。其結果，通過圖4的涂敷裝置10，能夠容易地得到膜的厚度精度高、且表面平滑、無涂敷不均的涂敷膜。而且，涂敷裝置10的設置不需要大量的費用，設計上以及布局上的制約也少。即，不一定需要將涂敷裝置10設置在基準面(一層)，例如，也能夠設置在4層。 并且，通過有源除振裝置32具有防爆規(guī)格，在安全層面也很出色。下面，對于優(yōu)選涂敷裝置10的一次固有頻率為80Hz以上的理由進行說明。為了在 涂敷時抑制振動，不對涂敷膜造成不良影響，優(yōu)選極力抑制涂敷裝置10中的振動加速度。 此時，即使涂敷裝置10的一次固有頻率低于80Hz，也可以減小振動加速度。但是，在將涂敷裝置10的一次固有頻率設定為80Hz以上的情況下，當存在勵振 時，涂敷裝置10強烈振動的地方成為該一次固有頻率的頻率區(qū)域。而且，涂敷時所產生的 階段不均等的間距與該頻率對應。不過，光學膜(光學補償膜、防止反射膜等)的涂敷膜只 要是該頻率，則難以產生階段不均，由此不易對涂敷膜造成不良影響。從這種意義上說，優(yōu)選涂敷裝置10的一次固有頻率為IOOHz以上，更優(yōu)選為120Hz 以上。接著，對優(yōu)選將設置有涂敷裝置10的臺面的一次固有頻率設為IOHz以上的理由 進行說明。在使用了上述有源除振裝置32的情況下，如果臺面的一次固有頻率低于10Hz， 則幾乎不能得到除振效果。例如，如果是振動頻率為IOOHz的振動，大約可以使其衰減為 1/100，但是如果成為振動頻率低于IOHz的振動，則僅能得到使其衰減的效果。從這種意義上說，優(yōu)選設置有涂敷裝置10的臺面的一次固有頻率為20Hz以上，更 優(yōu)選為30Hz以上。下面對使用了涂敷裝置10的涂敷膜的形成進行說明。作為涂敷液，例如可以使用 粘度為IOmPa 以下、含有有機溶劑的液體。但是，也可以使用這之外的粘度的液體、不含 有有機溶劑的液體。作為web 16，一般可以使用以規(guī)定寬度、規(guī)定長度且由厚度為2 200 μ m左右的 聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚-2，6-萘二甲酸乙二醇酯、二乙酸纖維素、三乙酸纖維素、 乙酸-丙酸纖維素、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚碳酸酯、聚酰亞胺、聚酰胺等的塑料膜，紙，涂 敷或層疊了聚乙烯、聚丙烯、乙烯丁烯共聚物等碳原子數為2 10的α _聚烯烴類的紙，金 屬板等構成的可撓性帶狀物，或將該帶狀物作為基材在其表面形成了加工層的帶狀物。在圖1的光學補償板的制造生產線中，一邊由送出機66紡出web 16，一邊控制泵 15 (參照圖2)的流量，以使涂敷裝置10的涂敷頭18的狹縫18C中的涂敷液的平均流速為 100 500mm/秒，而且，控制web 16的搬送速度來進行涂敷，以使涂敷后的涂敷膜28的膜 厚為2 40 μ m。在涂敷后的干燥等中，為了得到涂敷膜的厚度精度高、且表面平滑的涂敷膜28，進 行了干燥帶76、加熱帶78、紫外線燈80等的設定。涂敷、干燥后的web 16由卷繞機82卷繞。上述一系列的工序優(yōu)選在良好無塵度以及最佳溫濕度的環(huán)境下實施。因此，優(yōu)選 在絕對無塵室進行，特別優(yōu)選涂敷裝置10設置在等級(Class)IOO以下的環(huán)境下。因此，可 以采用一并使用了下向流動(down flow)的絕對無塵室或凈化臺的方式。以上，對本發(fā)明所涉及的涂敷裝置以及涂敷方法的實施方式進行了說明，但本發(fā) 明不限定于上述實施方式，可以采用各種方式來對其進行實施。例如，在本實施方式中，作為涂敷裝置10，采用了擠壓型的涂敷機，但也可以采用除此以外的涂敷機，例如刮條涂敷機(也稱作“棒式涂敷機”，還包括邁耶刮條涂敷機)、凹版印刷涂敷機(直接凹版印刷涂敷機、凹版印刷輕觸涂敷機等)、輥涂機(轉移輥涂機、反向 輥涂機等)、口模式涂敷機、噴注式刮刀涂布機、滑動料斗(slide hopper)等。而且，作為涂敷裝置10的用途，不僅可以用于光學補償膜等光學膜，也可以應用 于各種涂敷。實施例下面，對本發(fā)明所涉及的涂敷裝置以及涂敷方法的實施例進行說明。使用圖1所 示的光學補償板的制造生產線的涂敷裝置10，對web 16形成涂敷膜，并評價涂敷面的狀 態(tài)。涂敷裝置10設置在涂敷位置(station)上，所述涂敷位置設置在具有SRC梁結構 的建筑物內的2層部分。該建筑物2層的涂敷位置設置臺面的一次固有頻率為15Hz。如圖 4所示，在該臺面上于四個角部設置有組裝了防爆型有源除振裝置32、32…的涂敷裝置10。 涂敷裝置10整體的一次固有頻率為120Hz。圖3所示的涂敷裝置10的、涂敷用狹縫18C的開口部分寬度(web 16行進方向的 長度)為150 μ m，開口部分長度為50mm。涂敷頭18的上游側邊緣帶(lip land)長度為 lmm,下游側凸緣邊長度為50 μ m。將圖2所示的涂敷頭18的前端與web 16表面之間的距離t設定為50 μ m，圖4所 示的減壓室34內部的負壓設定為1600Pa。在實施基于涂敷裝置10的涂敷之際，使承載了重量物的大型貨車(truck)在建筑 物側面行進，測量涂敷裝置10的振動加速度。作為web 16，使用厚100 μ m的醋酸纖維素膜(商品名FUJITAC、富士膠片(株) 制)，在涂敷涂敷液之前，以25ml/m2涂敷長鏈烷基改性聚乙烯醇(商品名P0VAL MP-203、 KURARAY(株)制)的2重量％溶液，在60°C下干燥1分鐘而形成取向用樹脂層。將預先形成了取向膜用樹脂層的web 16從送出機66送出，由拋光處理裝置70對 取向膜用樹脂層的表面實施拋光處理，形成取向膜，并搬送到涂敷裝置10，實施涂敷。另外， 將拋光處理的拋光輥72的轉速設為5. Om/秒，將針對web 16的按壓力設定為9. 8X 10_3pa。作為涂敷液，使用的是如下所述的溶液，即在圓盤狀化合物TE-(I)和TE_(2)的重 量比例為4 1的混合物中添加了 1重量份的光聚合引發(fā)劑(商品名IRGA⑶RE 907,Nihon Ciba-Geigy (株)制)，而得到所述混合物與光聚合引發(fā)劑占40重量％的甲基乙基甲酮溶 液，即含有液晶性化合物的溶液。并且，為了容易確認涂敷后的表面狀態(tài)，在涂敷液中添加 了染料。將web 16的搬送速度設定為50m/分，在涂敷裝置10中進行調整并實施涂敷，以 使涂敷時的濕潤膜厚為5 μ m。將干燥帶76的設定溫度設為100°C，將加熱帶78的設定溫度設為130°C。通過干 燥帶76以及加熱帶78的web 16被紫外線燈80進行紫外線照射。由此，液晶發(fā)生交聯(lián)，形 成所期望的聚合物。然后，由卷繞機82卷繞形成了聚合物的web 16。(實施例1)將以上述條件進行處理的web 16作為實施例1，通過基于目視的官能檢查，對卷 繞后的形成在web 16表面的涂敷膜的表面狀態(tài)進行評價。
涂敷時承載大型貨車行進中的涂敷裝置10的最大振動加速度為0. 2Gal。與其振動對應的部分的web 16(涂敷試樣)的目視檢查結果為，沒有檢測出涂敷不均等，可確認呈 良好的表面狀態(tài)。(比較例1)相對實施例1，除了使防爆型有源除振動裝置動作之外，以同樣的條件進行涂敷。 此時涂敷裝置10的最大振動加速度的測定值為0.4Gal。與其振動對應的部分的web 16(涂 敷試樣)的目視檢查結果為，檢測出涂敷膜出現(xiàn)了細小的涂敷不均。(比較例2)相對比較例1，除了減輕了載盤的承載量之外，以相同的條件進行涂敷。此時涂敷 裝置10的最大振動加速度的測定值為0. 3Gal (比較例1的75% )。與其振動對應的部分 的web 16(涂敷試樣)的目視檢查結果為，雖然與比較例1相比比較輕微，但檢測出涂敷膜 出現(xiàn)了微小的涂敷不均。根據以上的實施例1、比較例1以及比較例2的結果，可以確認如果涂敷裝置10 的振動加速度為0. 2Gal以下，則可以得到良好的涂敷膜。(工業(yè)上的可利用性)如以上所述，根據本發(fā)明，由于涂敷機構被固定在有源除振裝置上，所以，能夠抑 制各種的振動，難以對涂敷膜造成不良影響。結果，可以容易地得到膜的厚度精度高、且表 面平滑、無涂敷不均的涂敷膜。
權利要求
一種帶有涂敷膜的帶狀支撐體的制造方法，其中，包括連續(xù)地輸送帶狀支撐體的工序；利用涂敷液供給機構提供涂敷液，同時利用涂敷機構在所述帶狀支撐體上形成涂敷膜的工序，所述涂敷機構被固定在有源除振裝置上，在有源除振裝置的底座上通過空氣促動器支撐有負載承受部，在該負載承受部上固定有能夠檢測出加速度的加速度傳感器，而且，在底座與負載承受部之間設置有能夠測定負載承受部的變位的變位傳感器，并且，在底座上還固定有能夠檢測出加速度的加速度傳感器，所述涂敷機構的一次固有頻率為80Hz以上。
2.根據權利要求1所述的帶有涂敷膜的帶狀支撐體的制造方法，其中，所述有源除振裝置是反饋控制由傳感器所檢測的振動成分、使空氣促動器動作、以有 源的方式進行除振的裝置。
3.根據權利要求1或2所述的帶有涂敷膜的帶狀支撐體的制造方法，其中， 所述有源除振裝置構成為防爆構造。
4.根據權利要求1所述的帶有涂敷膜的帶狀支撐體的制造方法，其中， 所述涂敷機構的振動加速度為0. 2Gal以下。
全文摘要
本發(fā)明提供一種涂敷裝置，由供給涂敷液的涂敷液供給機構(15)和涂敷機構(18)構成，所述涂敷機構(18)一邊利用所述涂敷液供給機構(15)提供涂敷液，一邊在被連續(xù)搬送到與所述涂敷液供給機構(15)隔開規(guī)定間隔的位置的帶狀支撐體(16)上形成規(guī)定膜厚的涂敷膜，所述涂敷機構被固定在有源除振裝置(32)上。
文檔編號B05C11/02GK101811111SQ20101015645
公開日2010年8月25日 申請日期2005年4月26日 優(yōu)先權日2004年5月7日
發(fā)明者柴田一朗 申請人:富士膠片株式會社