技術特征：

技術總結(jié)
本發(fā)明提供一種在薄層狀態(tài)下透濕度低且具有自支撐性的保護膜。本發(fā)明的保護膜是由重復單元形成的保護膜，所述重復單元具有源自于作為單體的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的結(jié)構(gòu)，并且，所述重復單元具有支鏈狀烷基。

技術研發(fā)人員：村田力;鈴木雅康;桑原將臣;后藤誠;村田亮;加藤昌央
受保護的技術使用者：株式會社巴川制紙所
技術研發(fā)日：2015.08.13
技術公布日：2017.08.18