專利名稱：透明層形成聚合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
下文公開的實施方案總體上涉及形成可用于制造各種類型的顯示器的層/膜的聚合物，更特別是形成此類在可見光光譜內(nèi)具有高透光度的層/膜的降冰片烯型聚合物和其組合物。
背景技術(shù)：
在液晶顯示器、有機發(fā)光二極管顯示器及其它光電子器件的制造中，仍需要形成許多不同的透明有機和無機層。例如，IXD通常涵蓋濾色器層、偏振層、平整層、防刮擦層等。因為這些顯示器的制造方法持續(xù)進展，用于這些層的材料通常也必須進展或改變以滿足由上述進展引起的更苛刻要求。因此，仍需要可以滿足這些進展的要求的透明層。

發(fā)明內(nèi)容
詳細描述將參照下文中提供的實施例和權(quán)利要求描述根據(jù)本公開內(nèi)容的示例性的實施方案。本文描述的這些示例性實施方案的各種改進、改編或變型由于這些實施方案被公開的緣故而對本領(lǐng)域技術(shù)人 員是顯而易見的。應(yīng)當(dāng)理解，依賴于本發(fā)明教導(dǎo)的、和這些教導(dǎo)經(jīng)由它們已經(jīng)推進技術(shù)進行的所有這些改進、改編或變型認為在本發(fā)明范圍和精神內(nèi)。本文所使用的冠詞〃 一個(a) 〃、〃 一種(an) 〃和〃該(所述)〃包括復(fù)數(shù)指示，除非另外特意且明確地限于一個(一種)的指示。因為本文和所附權(quán)利要求中針對成分、反應(yīng)條件等的量所使用的所有數(shù)字、數(shù)值和/或表述經(jīng)歷獲得這些數(shù)值中遇到的各種測量不確定性，所以除非另有說明，所有這些應(yīng)理解為在一切情況下由術(shù)語“大約”修飾。本文所使用的聚合物的分子量值，例如重均分子量(Mw)和數(shù)均分子量(Mn)是通過凝膠滲透色譜使用聚苯乙烯標(biāo)準(zhǔn)樣品測定的。當(dāng)在本文使用時且除非另有說明，當(dāng)提供聚合物玻璃化轉(zhuǎn)變溫度(Tg)值時，它們是通過差示掃描量熱法根據(jù)美國試驗和材料協(xié)會(ASTM)方法編號D3418測定的。當(dāng)在本文使用時且除非另有說明，當(dāng)提供聚合物分解溫度(Td)時，它們將理解為是通過熱重分析以10°c /分鐘的加熱速率在氮氣下測定的、當(dāng)特定重量百分率)的聚合物已經(jīng)測定為已經(jīng)分解(通過蒸發(fā)損失)時的溫度。術(shù)語Tdl、Td5、Td5(l和Td95指示聚合物的Iwt %、5wt %、50wt %和95wt%已經(jīng)分解時的溫度。當(dāng)本文公開數(shù)值范圍時，此種范圍是連續(xù)的，包括該范圍的最小值和最大值以及在此種最小值和最大值之間的每個值。更進一步，當(dāng)范圍是指整數(shù)時，包括在此種范圍的最小值和最大值之間的每個整數(shù)。另外，當(dāng)提供多個范圍以描述特征或特性時，這些范圍可以組合。就是說，除非另有說明，本文公開的所有范圍應(yīng)當(dāng)理解為涵蓋包含在其中的任何以及所有子范圍。例如，給定的范圍"I到10"應(yīng)該認為包括介于最小值I和最大值10間的任何以及所有子范圍。范圍1-10的示例性的子范圍包括，但不限于，1-6.1,3.5-7.8和5.5-10。本文所使用的短語“透明聚合物”、“透明層”或“透明膜”將理解為是指對400nm-750nm(可見光范圍)的輻射基本上透明的聚合物、層或膜。就是說，此種透明聚合物或透明層將允許在上述范圍中的可見光的至少95%透射穿過。雖然本文提及在整個可見光光譜內(nèi)的透射，但是％透光度的實際測量在400nm下進行，因為在可見光光譜下限的光的透射一般比更高波長的光的透射更成問題。本文所使用的“烴基”是指僅含碳和氫的烴基，非限制性實例是烷基、環(huán)烷基、鏈烯基、環(huán)烯基、炔基、芳基、芳烷基和烷芳基。本文所使用的術(shù)語“烷基”和“環(huán)烷基”分別是指具有C1-C25的合適的碳鏈長度的無環(huán)或環(huán)狀飽和烴基。適合的烷基的非限制性實例包括，但不限于，-CH3、_(CH2)3CH3、_(CH2)4CH3、- (CH2) 5CH3、- (CH2) 9CH3、- (CH2) 23CH3、環(huán)戊基、甲基環(huán)戊基、環(huán)己基和甲基環(huán)己基。

本文所使用的術(shù)語“鏈烯基”和“環(huán)烯基”分別是指具有至少一個碳-碳雙鍵和C2-C25的合適的碳鏈長度的無環(huán)或環(huán)狀飽和烴基。非限制性實例尤其包括乙烯基和衍生自丙烯、丁烯、環(huán)戊烯、環(huán)己烯和異丙基異戊二烯基的基團。本文所使用的術(shù)語“芳基”是指包括，但不限于諸如苯基、聯(lián)苯基、芐基和二甲苯基的基團的芳族烴基。術(shù)語“烷芳基”或“芳烷基”在本文中可互換地使用并是指取代有至少一個烷基、環(huán)烷基、鏈烯基或環(huán)烯基的芳族烴基，例如，衍生自甲苯、丁基苯、環(huán)己基苯和1，2_ 二氫-1，I’ -聯(lián)苯的基團。本文所使用的“鹵代烴基”是指其中的至少一個氫已經(jīng)用鹵素替換的任何此前所述的烴基，“全鹵代烴基”相應(yīng)地是指其中所有氫已經(jīng)用鹵素替換的此類烴基，例如五氟苯。本文所使用的術(shù)語〃雜烴基〃是指其中的至少一個碳原子用N、0、S、Si或P替換的任何此前描述的烴基。非限制性實例包括雜環(huán)的芳族基團例如吡咯基、呋喃基和pyridenyl以及非芳族基團例如環(huán)氧類、醇、醚、硫醚和甲硅烷基醚。此外，應(yīng)當(dāng)理解，術(shù)語“烴基”是通用術(shù)語，包括更具體的術(shù)語齒代烴基、全齒代烴基和雜烴基。此外，應(yīng)當(dāng)理解，任何這樣的結(jié)構(gòu)部分可以進一步被取代，且當(dāng)合適時，在碳原子的數(shù)目、直鏈、支鏈或環(huán)狀方面選取合適的。適合的取代基的非限制性實例尤其包括羥基、環(huán)氧基、芐基、羧酸和羧酸酯基團、酰胺和酰亞胺。更進一步，應(yīng)當(dāng)理解，術(shù)語“亞烴基”是指通過從任何上述烴基除去氫原子而形成的二價基團。術(shù)語“降冰片烯型”在本文中用來是指根據(jù)下面所示的結(jié)構(gòu)I的單體，或由至少一種這樣的降冰片烯型單體形成的并因此具有至少一個根據(jù)結(jié)構(gòu)2 (也顯示如下)的重復(fù)單元的聚合物材料:
權(quán)利要求
1.層形成聚合物，其包含各自由式A表示的第一類型的降冰片烯型重復(fù)單元和第二類型的降冰片烯型重復(fù)單元，這些類型的重復(fù)單元衍生自由式Al表示的降冰片烯型單體:
2.權(quán)利要求1的層形成聚合物，其中對于所述第一類型的重復(fù)單元，和#之一是由式B、C或D之一表不的可交聯(lián)烴基側(cè)基:
3.權(quán)利要求2的層形成聚合物，其中所述可交聯(lián)側(cè)基由式B或式C表示:
4.權(quán)利要求1的層形成聚合物，其中對于所述第二類型的重復(fù)單元，和#之一是由式E、F、G或H之一表示的烴基側(cè)基，和Ra、Rb、Rc和Rd中的其它是氫:
5.權(quán)利要求4的層形成聚合物，其中所述烴基側(cè)基由式E表示，其中R'R1和R2中的每一個是氟:
6.權(quán)利要求4的層形成聚合物，其中所述烴基側(cè)基由式H表示，其中η是1、2或3，R1和R2各自是-CF3且每個R*是氫:
7.權(quán)利要求1的層形成聚合物，其中所述可交聯(lián)側(cè)基由式I表示和所述具有高透光度的側(cè)基由式2表不:
8.權(quán)利要求1的層形成聚合物，其中所述可交聯(lián)側(cè)基由式I表示和所述具有高透光度的側(cè)基由式3表不:
9.權(quán)利要求1的層形成聚合物，其中所述可交聯(lián)側(cè)基由式I表示和所述具有高透光度的側(cè)基由式4表示:
10.權(quán)利要求1的層形成聚合物，其中所述可交聯(lián)側(cè)基由式I表示和所述具有高透光度的側(cè)基由式5表不:
11.權(quán)利要求7、8、9或10中任一項的層形成聚合物，其中所述可交聯(lián)側(cè)基由式6或式7表示:
12.權(quán)利要求1的層形成聚合物，包含具有可交聯(lián)側(cè)基的第一類型的重復(fù)單元，所述可交聯(lián)側(cè)基選自由式1、6或7表示的基團:
13.權(quán)利要求1-12中任一項的層形成組合物，還包含澆鑄溶劑。
14.權(quán)利要求13的層形成組合物，其中所述澆鑄溶劑選自N-甲基吡咯烷酮(NMP)、Y-丁內(nèi)酯(GBL)、N，N-二甲基乙酰胺(DMA)、二甲基亞砜(DMSO)、二甘醇二甲醚、二甘醇二丁醚、丙二醇單甲醚(PGME)、丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、甲基乙基酮或環(huán)己酮中的一種或多種。
15.權(quán)利要求13的層形成組合物，還包含熱酸產(chǎn)生劑(TAG)和抗氧化劑/協(xié)同劑添加劑。
16.權(quán)利要求11的層形成組合物，其中TAG選自S1-150L(六氟銻酸二甲基-對-乙酰氧基锍)、S1-1OOL (六氟銻酸二芐基甲基-對羥基苯基锍)或S1-60L (六氟銻酸1-萘基甲基甲基_對輕基苯基琉)。
17.權(quán)利要求12的層形成組合物，其中所述抗氧化劑/協(xié)同劑添加劑選自以下物質(zhì)中的一種或多種:ADEKA STAB A0-20、ADEKA STABA0-30、ADEKA STAB A0-40、ADEKASTAB A0-50、ADEKA STAB A0-60、ADEKA STAB A0-80、ADEKA STAB A0-330、SumilizerGM> Sumilizer GS> Sumilizer GA-80、Sumilizer MDP-S> Sumilizer BBM-S> SumilizerWX-R、 IRGANOX 1010、 IRGAN0X 1035、 IRGANOX 1076、 IRGANOX 1098、 IRGANOX 1135、IRGAN0X 1330、 IRGANOX 1726、 IGRANOX 1425、 IRGANOX 1520、 IRGANOX 245、 IRGANOX259、IRGANOX 3114、IRGANOX 565、ADEKA STAB PEP-4C、ADEKA STAB PEP-8、ADEKA STABPEP-8W、ADEKASTAB PEP-36、ADEKA STAB HP-10, ADEKA STAB2112、ADEKA STAB1178、ADEKASTAB 1500、ADEKA STAB C、ADEKA STAB135A、ADEKA STAB3010、IRGAF0S12、IRGAF0S38、Sumilizer TPL-R、Sumilizer TPM、Sumilizer TDS、Sumilizer TP-D、Sumilizer MB>ADEKASTAB A0-412S、ADEKA STAB A0-503、IRGANOX PS800FD 或 IRGANOX PS802FD。
18.層形成組合物，包含降冰片烯型聚合物、熱酸產(chǎn)生劑、環(huán)狀新戊烷四基雙(2，6- 二-叔丁基-4-甲基苯基亞磷酸酯)、四[亞甲基3-(3’，5’ - 二-叔丁基-4-羥苯基)丙酸酯]甲烷和季戊四 醇四月桂基硫代丙酸酯)。
19.權(quán)利要求18的層形成組合物，其中所述降冰片烯型聚合物包含衍生自以下的重復(fù)單元:
20.權(quán)利要求19的層形成組合物，其中所述熱酸產(chǎn)生劑是S1-150L，和其中此種層形成組合物還包含 ADEKA STAB A0-60, ADEKA STABA0-412S 和 ADEKA STAB PEP-36。
21.權(quán)利要求18的層形成組合物，其中所述降冰片烯型聚合物包含衍生自以下的重復(fù)單元:
22.權(quán)利要求21的層形成組合物，其中所述熱酸產(chǎn)生劑是S1-150L，和其中此種層形成組合物還包含 A DEKA STAB A0-60、ADEKA STABA0-412S 和 ADEKA STAB PEP-36。
全文摘要
根據(jù)本發(fā)明的實施方案提供形成可用于制造各種類型的光電子顯示器的層/膜的聚合物。這些實施方案還提供此類聚合物的用于形成此類層/膜的組合物，其中所形成的層/膜在可見光光譜內(nèi)具有高透光度。
文檔編號C08F232/08GK103249750SQ201180055847
公開日2013年8月14日 申請日期2011年12月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月14日
發(fā)明者大西治, L·F·羅茲, 田頭宣雄 申請人:普羅米魯斯有限責(zé)任公司, 住友電木株式會社