專利名稱：表面處理組合物、表面處理組合物的制造方法和表面經(jīng)處理的物品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及i)用于在各種材料的表面上形成低表面能層或防污層的包含有機(jī)硅化合物的表面處理組合物，ii)所述表面處理組合物的制造方法和iii)施用了所述表面處理組合物的表面經(jīng)處理的物品。
背景技術(shù)：
抗反射涂層、光學(xué)濾光片、光學(xué)鏡片、眼鏡鏡片、分束器、棱鏡、反射鏡和其他的光學(xué)元件和衛(wèi)生器具在使用時(shí)容易被指印、皮膚油脂、汗水、化妝品等污染。這樣的污潰一旦粘附上就很難被除去，尤其是附著于具有抗反射涂層的光學(xué)部件的污潰極為醒目，并且造成各種問題。
為了解決與防污有關(guān)的這些問題，迄今已經(jīng)提出了采用各種表面處理組合物的技術(shù)。例如，日本審查專利公開第1994-29332號提出了一種防污的低反射塑料，其在表面上具有抗反射涂層，該抗反射涂層包含含有聚氟烷基的甲硅烷和こ硅烷化合物以及鹵素、烷基或烷氧基硅烷化合物。近來，W02006/107083提出了ー種表面處理組合物，所述組合物包含在氟聚合物鏈的末端具有烷氧基甲硅烷基官能團(tuán)的有機(jī)硅化合物。該表面處理組合物提供了低表面能層，該低表面能層防止水分或污物附著在各種材料，尤其是抗反射膜等光學(xué)部件和玻璃的表面上。不過，通過現(xiàn)今已知的方法形成的防污涂層的防污性不夠充分，特別是，當(dāng)長期使用時(shí)它們的耐沾污性明顯降低。因此，需要開發(fā)具有優(yōu)異的防污性和優(yōu)異的耐久性的防污涂層。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明g在解決如上所述的現(xiàn)有技術(shù)的問題，并提供了ー種表面處理組合物，該組合物形成了具有高度耐久性的優(yōu)異的低表面能處理層，其防止水分或指印、皮膚油脂、汗水、化妝品等污物附著在各種材料，尤其是抗反射膜、光學(xué)部件和玻璃的表面上，并使得水分和污物即使在附著后也能夠容易的擦除。本發(fā)明的另一目的g在提供用于制造能夠形成具有高度耐久性的優(yōu)異的低表面能層的表面處理組合物的方法。本發(fā)明的又一目的g在提供容易形成具有高度耐久性的優(yōu)異的低表面能層的方法。本發(fā)明的再一目的g在提供設(shè)置有具有高度耐久性的優(yōu)異的低表面能層的光學(xué)部件(例如，抗反射膜、光學(xué)濾光片、光學(xué)鏡片、眼鏡鏡片、分束器、棱鏡和反射鏡)和各種材料。
本發(fā)明提供了ー種表面處理組合物，所述組合物包含由通式(A)表示的有機(jī)硅化合物F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (A)其中q是I 3的整數(shù)；m、η和ο獨(dú)立地為O 200的整數(shù)；ρ為I或2 ;Χ是氧或ニ價(jià)有機(jī)基團(tuán)；r為O 17的整數(shù)ボ1是不具有不飽和脂族鍵的直鏈或支化的烴基；a為O 2的整數(shù)；并且X’是獨(dú)立選擇的可水解基團(tuán)，其中，在所述表面處理組合物中由以下通式(B)和(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面處理組合物為小于25摩爾％ F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2) 0-F (B)其中q、m、n和o與上述相同，F(xiàn)- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) ,-CH=CHCH3 (C)其中q、m、η、O、p、r和X與上述相同。本發(fā)明尤其提供包含有機(jī)硅化合物的表面處理組合物，其中，在通式(A)中，所述可水解基團(tuán)X’是選自烷氧基(-0R)和烷氨基(-NHR或-NR2)中的至少ー種基團(tuán)，其中R獨(dú)立地為C1 C22直鏈或支化的烷基，并且兩個(gè)R基團(tuán)可以形成環(huán)狀胺，整數(shù)a為O。本發(fā)明尤其提供包含由以下通式(A-I)、(A-2)和(A-3)中的任一式表示的有機(jī)硅化合物的表面處理組合物 F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) ,-C3H6-Si (OR) 3 (A-I)F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) ,-C3H6-Si- (HNR) 3 (A-2)F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) ,-C3H6-Si (NR2) 3 (A-3)其中，q、m、η、ο、p、X和r與上述相同，并且R獨(dú)立地為C1 C22直鏈或支化的烷基，并且兩個(gè)R基團(tuán)可以形成環(huán)狀胺，其中，在所述表面處理組合物中由通式(B)和(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面處理組合物為小于25摩爾％。本發(fā)明更優(yōu)選提供ー種包含有機(jī)硅化合物的表面處理組合物，其中，在通式(A)中，所述可水解基團(tuán)X’是烷氨基(-NHR或-NR2)基團(tuán)，其中R與上述相同，并且整數(shù)a為0，其中，在所述表面處理組合物中由通式(B)和(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面處理組合物為小于25摩爾％。本發(fā)明更優(yōu)選提供所述表面處理組合物，其中，由通式(A)表示的所述有機(jī)硅化合物由通式(i-d-i)或(i-d-ii)表示F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si- (HNR) 3 (i-d-i)或F-(CF2) q-(OC3F6)m_(OC2F4)n_(OCF2)。-CH2O-(CH2),-C3H6-Si (NR2) 3 (i-d-ii)其中，q、m、n、o、r和R與上述相同，由通式⑶和(C)表不的含氟化合物分別由通式( )和(i_c-d)表不:F-(CF上-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)0-F (ii)和F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i—c—d)。
本發(fā)明提供一種用于制造包含有機(jī)硅化合物的表面處理組合物的方法，所述方法包括以下步驟
(a)使包含(D)全氟聚醚的酸式氟化物和(E)非反應(yīng)性全氟聚醚的混合物與還原劑接觸以使該酸式氟化物反應(yīng)，從而制造包含由此生成的(F)羥基全氟聚醚和非反應(yīng)性全氟聚醚(E)的反應(yīng)混合物(b)通過柱色譜法提純步驟(a)中制備的反應(yīng)混合物以制造純化材料，其中羥基全氟聚醚(F)在所述純化材料中的含量高于羥基全氟聚醚(F)在所述反應(yīng)混合物中的含量;(C)使步驟(b)中獲得的所述純化材料與烯丙基鹵化物接觸以使羥基全氟聚醚 (F)反應(yīng)，由此制造包含由此生成的(G)烯丙基全氟聚醚和非反應(yīng)性全氟聚醚(E)的反應(yīng)混合物；和(d)使步驟(C)中獲得的反應(yīng)混合物與含氫硅烷在異構(gòu)體還原劑和過渡金屬催化劑的存在下接觸，以使烯丙基全氟聚醚反應(yīng)，由此制造表面處理組合物，所述表面處理組合物包含(I)在含氟聚醚鏈、非反應(yīng)性全氟聚醚(F)和(H)烯丙基全氟聚醚(G)的異構(gòu)體的一端各自具有烷氧基硅烷官能團(tuán)的有機(jī)硅化合物，其中，在所述表面處理組合物中非反應(yīng)性全氟聚醚(E)和異構(gòu)體(H)的含量基于所述表面處理組合物為小于25摩爾％。本發(fā)明也提供一種用于制造包含有機(jī)硅化合物的表面處理組合物的方法，所述方法包括以下步驟(a)使包含由下列通式⑴和(ii)表示的化合物的原料混合物與還原劑接觸以使化合物(i)反應(yīng)，從而制造包含由此生成的由以下通式(i_b)表示的醇和由通式(ii)表示的化合物的反應(yīng)混合物F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2) o-C(=0)F (i)其中，q為I 3的整數(shù)；m、η和ο獨(dú)立地為O 200的整數(shù)，F(xiàn)- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2) 0_F (ii)其中，q、m、n和o與上述相同，F(xiàn)- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2OH (i-b)其中，q、m、η和ο與上述相同；(b)通過柱色譜法提純所述步驟中得到的所述反應(yīng)混合物以除去至少部分由通式
(ii)表示的含氟化合物，并由此制造純化材料，其中由通式(i-b)表示的化合物在所述純化材料中的含量高于在所述反應(yīng)混合物中的含量；(c)使步驟(b)中制造的所述純化材料與Z-(CH2) ^CH2CH=CH2 (其中Z是鹵素原子；r為O 17的整數(shù))接觸以使化合物(i-b)反應(yīng)，從而制造包含由此生成的由以下通式(i_c)表示的烯丙基化合物和由通式(ii)表示的化合物的反應(yīng)混合物F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH2CH=CH2 (i_c)其中q、m、η、ο和;r與上述相同，其中在該中間組合物中由通式(ii)表示的化合物的含量基于所述中間組合物為小于5摩爾% ;和(d)使步驟(C)中獲得的反應(yīng)混合物與由通式(iii)表示的含氫硅烷化合物和異構(gòu)體還原劑在過渡金屬催化劑的存在下接觸，然后在必要時(shí)與堿金屬醇鹽接觸以使化合物(i-c)反應(yīng)，由此制造包含由通式(i-d)表示的有機(jī)硅化合物和由通式(ii)及(i-c-d)表示的含氟化合物的表面處 理組合物式(iii)為H-Si(Xj)3^ (R1)a (iii)其中R1、a和X’與上述相同，F(xiàn)- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (i-d)其中q、m、η、ο、a、r、X’和R1與上述相同，式(i-c-d)為F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i—c—d)其中q、m、η、ο和;r與上述相同，其中，在所述表面處理組合物中由通式(ii)和(i-c-d)表示的含氟化合物的含量基于所述表面處理組合物為小于25摩爾％。本發(fā)明特別提供所述用于制造表面處理組合物的方法，其中，有機(jī)硅化合物由通式(i-d)表示F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1)a (i_d)其中，r為0，X’是氯或烷氧基，a為0，q、m、n和ο與上述相同，并且在三氯硅烷(HSiC13)或三烷氧基硅烷(HSi (OR) 3)與由通式(i_c)表示的化合物之間進(jìn)行氫化硅烷化反應(yīng)，F(xiàn)- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2) o_CH20- (CH2) ,-CH2CH=CH2 (i-c)其中，q、m、η、o和;r與上述相同。本發(fā)明還特別提供用于制造表面處理組合物的方法，其中，步驟(d)包括使步驟(c)中獲得的反應(yīng)混合物與三氯硅烷(HSiCl3)和異構(gòu)體還原劑在過渡金屬催化劑的存在下接觸，然后再與烷基胺接觸，由此制造包含由通式(i-d-i)或(i-d-ii)表示的有機(jī)硅化合物和由通式(ii)和(i-c-d)表示的含氟化合物的表面處理組合物式(i-d-i)為 F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si- (HNR) 3 (i-d-i)式(i-d-ii)為F-(CF2) q-(OC3F6)m_(OC2F4)n_(OCF2)。-CH2O-(CH2),-C3H6-Si (NR2) 3 (i-d-ii)其中，q、m、n、o、r和R與上述相同。本發(fā)明特別提供用于制造表面處理組合物的方法，其中，純化操作通過填充有硅膠的柱并以氫氟碳化合物作為溶劑進(jìn)行。本發(fā)明通過使用所述表面處理組合物而提供具有高度耐久性的低表面能的表面。本發(fā)明提供光學(xué)部件(尤其是抗反射光學(xué)部件)，和顯示器件，其均設(shè)置有包含所述表面處理組合物的處理層。本發(fā)明提供具有前述表面的無機(jī)材料的車用及航空玻璃和衛(wèi)生器具。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明人深入研究了包含有機(jī)硅化合物的傳統(tǒng)的表面處理組合物的成分，以及當(dāng)表面處理組合物施用至鏡片等基材時(shí)，各種成分的反應(yīng)性。結(jié)果發(fā)現(xiàn)，包含有機(jī)硅化合物的傳統(tǒng)的表面處理組合物除了包含由(A)描述的有機(jī)硅化合物之外，還包含較大量，基于所述表面處理組合物通常為約35摩爾％ 60摩爾％的由通式(B)和(C)表示的含氟化合物F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2) 0-F (B)其中q、m、n和o與上述相同，F(xiàn)- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) ,-CH=CHCH3 (C)其中q、m、η、O、p、r和X與上述相同，并且所述含氟化合物相對自由地包含在表面處理組合物的層(該層是通過有機(jī)硅化合物的反應(yīng)而在基材上形成的)中，因此，含氟化合物降低了防污性質(zhì)的耐久性。與此相反，根據(jù)本發(fā)明的表面處理組合物，含氟化合物⑶和(C)在組合物中的含量降至基于所述表面處理組合物的小于25摩爾％，因而，該表面處理組合物的使用提供了高品質(zhì)的防污性和具有高度耐久性的防污性。本發(fā)明基于如上所述的本發(fā)明人的獨(dú)特技術(shù)得以實(shí)現(xiàn)。在含氟化合物當(dāng)中，成分(ii)已經(jīng)存在于包含由通式⑴表示的成分的起始原料混合物中F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-C (=0) F (i)其中，q、m、η和ο與上述相同。其他的成分(C)和/或(i-c-d)是由通式(i-c)表示的末端烯丙基化合物在氫化硅烷化的過程中生成的異構(gòu)體副產(chǎn)物，式(C)為 F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) ,-CH=CHCH3 (C)其中，q、m、n、o、p、r和X與上述相同，式(i-c-d)為F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i—c—d)其中，q、m、η、ο和;r與上述相同，式(i-c)為F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2) o_CH20- (CH2) ,-CH2CH=CH2 (i-c)其中，q、m、η、o和;r與上述相同。含氟化合物⑶和/或(ii)和(C)和/或(i-c-d)在本發(fā)明的表面處理組合物中的含量小于25摩爾％ (基于總量，下同)，優(yōu)選約20摩爾％以下，更優(yōu)選約10摩爾％以下，尤其優(yōu)選小于5摩爾％。在含氟化合物中，(C)和/或(i-c-d)的含量通常為至少O. I摩爾％，例如，I摩爾％。本發(fā)明的用于防污層的表面處理組合物包含由通式(A)表示的有機(jī)硅化合物 F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (A)通式⑷中，q是I 3的整數(shù)；m、η和ο獨(dú)立地為O 200的整數(shù)；ρ為I或2 ;X是氧或ニ價(jià)有機(jī)基團(tuán)；r為O 17的整數(shù)ダ是不具有不飽和脂族鍵的C1 C22直鏈或支化的烴基；a為O 2的整數(shù)；并且X’是獨(dú)立選擇的可水解基團(tuán)。優(yōu)選的是，在通式(A)中，m、n和ο獨(dú)立地為I 150的整數(shù)，X是氧原子或ニ價(jià)有機(jī)基團(tuán)，如C1 C22直鏈或支化的亞烷基ダ是C1 C22直鏈或支化的烷基，更 優(yōu)選是C1 C12直鏈或支化的烷基；并且X’是獨(dú)立選擇的氯原子、烷氧基(-0R)、烷氨基(-NHR或-NR2)或ニ烷基亞胺氧基(-O-N=CR2)，其中R獨(dú)立地為C1 C22直鏈或支化的烷基，兩個(gè)R基團(tuán)可以形成環(huán)狀胺或環(huán)狀酮I虧，且整數(shù)a為O。在通式(A)中，-C3H6-包括-(CH2) 3_、-CH2-CH (CH3)_ 和-C (CH3) 2_。通式(A)的可水解基團(tuán)X’可以獨(dú)立地選擇，并示例為下式的基團(tuán)烷氧基或烷氧基取代的烷氧基，如甲氧基、こ氧基、丙氧基和甲氧基こ氧基；酰氧基，如こ酰氧基、丙酰氧基和苯甲酰氧基；烯氧基，如異丙烯氧基和異丁烯氧基；亞胺氧基，如ニ甲基酮肟基、甲基こ基酮肟基、ニこ基酮肟基、環(huán)己酮肟基；具有取代基的氨基，如甲基氨基、こ基氨基、ニ甲基氨基、ニこ基氨基、吡咯烷基和哌啶基；酰氨基，如N-甲基こ酰胺基和N-こ基酰胺基；具有取代基的氨氧基，如ニ甲基氨氧基和ニこ基氨氧基；鹵素，如氯等。在這些可水解基團(tuán)中，優(yōu)選酰氧基、亞胺氧基、烷氧基和ニ烷氨基，如こ酰氧基(-OAc)、ニ甲基酮肟基(-ON=CMe2)、甲氧基(-OCH3)、 こ氧基(-OC2H5)、ニ甲基氨基(-N (CH3) 2)、ニこ基氨基(-N (C2H5) 2)和ニ異丙基氨基(-N (I-C3H7) 2)，特別優(yōu)選甲氧基(-OCH3)和ニ甲基氨基(-N(CH3)2)。進(jìn)而更優(yōu)選的是ニ甲基氨基(-N(CH3)2)。本發(fā)明的表面處理組合物的有機(jī)硅化合物中可以包含一種所述可水解基團(tuán)或兩種以上所述可水解基團(tuán)的組合。由通式(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面處理組合物為I. O摩爾％以上。由通式⑶和(C)表不的含氟化合物的含量優(yōu)選小于15摩爾％。在通式(A)和(C)中，P為1，并且X是氧，其分別表示通式(i-d)和(i-c-d)F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (i-d)其中，q、m、n、o、a、r、X’和R1與上述相同，F(xiàn)- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i—c—d)其中，q、m、η、ο和;r與上述相同。優(yōu)選的是，在通式(A)、(B)、(C)和(i-c-d)中，q為3，m為10 200的整數(shù)，η為1，ο為O, P為I, X是氧，r為O,并且a為O或I。在通式⑷中，m、n和ο的總和優(yōu)選為5以上,特別優(yōu)選為10以上。X優(yōu)選是氧，r優(yōu)選為O。在通式(A)中，a優(yōu)選為O。本發(fā)明也提供用于制造包含有機(jī)硅化合物的表面處理組合物的方法，所述方法包括以下步驟(a)包含由通式(i)表示的酸性氟化物和由通式(ii)表示的含氟聚合物的原料混合物的醇形成反應(yīng)，由此獲得反應(yīng)混合物，該反應(yīng)混合物包含由此形成的由通式(i-b)表示的醇和由通式(ii)表示的含氟化合物，式⑴為F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-C (=0) F (i)其中，q、m、η、o和a與上述相同，式(ii)為 F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2) 0_F (ii)其中，q、m、n和o與上述相同，式(i-b)為
F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2) o-CH20H (i-b)其中，q、m、n和o與上述相同；(b)通過柱色譜法對步驟(a)中得到的反應(yīng)混合物進(jìn)行的提純步驟，以除去至少部分由通式(ii)表示的含氟化合物；(c)使步驟(b)中得到的純化材料與由通式Z-(CH2) ^CH2CH=CH2表示的化合物進(jìn)行烯丙基化反應(yīng)，其中Z和r與上述相同，從而獲得包含由此制備的由通式(i-c)表示的化合物和由通式(ii)表示的含氟化合物的反應(yīng)混合物，式(i-c)為F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH2CH=CH2 (i-c)其中q、m、η、ο和;r與上述相同；(d)使步驟(C)中獲得的反應(yīng)混合物與由通式(iii)表示的含氫硅烷化合物和異構(gòu)體還原劑進(jìn)行氫化硅烷化反應(yīng)，然后必要時(shí)執(zhí)行(d-Ι)在中和劑的存在下與脂肪醇進(jìn)行烷氧基化反應(yīng)，或執(zhí)行(d-2)與具有烷氧基的金屬醇鹽進(jìn)行烷氧基化反應(yīng)，以獲得包含由通式(i-d)表示的有機(jī)硅化合物和由通式(ii)和(i-c-d)表示的含氟化合物的反應(yīng)混合物，式(iii)為H-Si(XU1)a ( )其中，ta和X’與上述相同，式(i-d)為F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (i-d)其中，q、m、n、o、r、a、X’和R1與上述相同，式(ii)為F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-F (ii)其中，q、m、n和o與上述相同，式(i-c-d)為F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i—c—d)其中，q、m、η、ο和;r與上述相同，其中，由通式(ii)和(i-c-d)表示的含氟化合物在所述表面處理組合物中的含量為小于25摩爾％(基于總量)。在步驟(a)中，原料混合物通常不僅包含由式(i)表示的酸性氟化物，還包含由通式(ii)表示的化合物式⑴為F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2) 0_C (=0) F (i)其中，q、m、n和O與上述相同。在原料混合物中，由通式⑴表示的化合物的比例為例如約45摩爾％ 85摩爾％，通常約65摩爾％ 75摩爾％，由通式(ii)表示的化合物的比例為例如約25摩爾％ 35摩爾％，通常約25摩爾％ 30摩爾％(前提條件是它們的 總量不超過100摩爾％)。由于通式⑴表示的化合物的沸點(diǎn)接近由通式(ii)表示的化合物的沸點(diǎn)，因而通過對原料混合物進(jìn)行蒸餾操作很難蒸除通式(ii)的化合物。因此在步驟(a)的反應(yīng)混合物中包含了通式(ii)的化合物，其將在下ー純化步驟(b)中進(jìn)行純化。
醇形成反應(yīng)在諸如NaBH4、こ硼烷絡(luò)合物和LiAlH4等還原劑的存在下進(jìn)行。該反應(yīng)優(yōu)選在非質(zhì)子溶劑中進(jìn)行，特別是在醚溶劑，如ニ甘醇ニ甲醚(ニこニ醇ニ甲醚)、四氫呋喃、甲苯、ニ甲苯和氫氟醚中進(jìn)行。還原劑與由通式(i)表示的酸性氟化物的摩爾比為O. 9 4.0，優(yōu)選為I. O 2.0，更優(yōu)選為I. 05 1.5。反應(yīng)溫度在10°C 250°C的范圍內(nèi)，優(yōu)選為20°C 200°C，更優(yōu)選為40°C 150°C。反應(yīng)時(shí)間為I小時(shí) 24小時(shí)，優(yōu)選為3小時(shí) 20小時(shí)，更優(yōu)選為5小時(shí) 12小時(shí)。在步驟(b)中，使用柱色譜法對步驟(a)中得到的反應(yīng)混合物進(jìn)行純化操作。因?yàn)橥ㄊ?i-b) F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2) o-CH20H (i_b)(其中，q、m、n 和 o 與上述相同)的醇具有與通式(ii)的化合物不同的極性，所以通式(ii)的化合物可以通過使用柱色譜法而除去。通過該純化操作，由通式(ii)表示的化合物至少被部分除去，并且得到純化材料，由通式(i-b)表示的化合物在所述純化材料中的含量高于在上述反應(yīng)材料中的含量。在純化材料中，由通式(i-b)表示的化合物的比例例如為約80摩爾％ 100摩爾％，通常為約90摩爾％ 100摩爾％，由通式(ii)表示的化合物的比例例如為約O摩爾％ 20摩爾％，通常為約O摩爾％ 10摩爾％ (前提條件是它們的總量不超過100摩爾％)，不過 本發(fā)明并不限于此。 所述純化操作可以通過填充有諸如固體吸附劑(例如，硅膠、表面改性的硅膠、活性氧化鋁和氧化鎂)等材料的柱子來進(jìn)行。用于反應(yīng)混合物的溶劑例如是氟碳化合物和氫氟醚，洗提溶劑例如是氫氟碳化合物類的流體，如Vertrel 、全氟己烷和氫氟醚如HFE 。在步驟(C)中，使以上步驟(b)中得到的純化材料與由通式Z-(CH2),-CH2CH=CH2 (其中Z和r與上述相同)表示的化合物進(jìn)行烯丙基化反應(yīng)，從而得到包含由此制備的由以下通式(i-c)表示的化合物和由通式(ii)表示的含氟化合物的反應(yīng)混合物，通式(i-c)為F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH2CH=CH2 (i-c)其中q、m、η、ο和;r與上述相同。在烯丙基化反應(yīng)中，釋放了鹵化氫，因此，為了加速反應(yīng)，優(yōu)選使用無機(jī)或有機(jī)堿等堿性物質(zhì)。堿的實(shí)例是NaOH, Κ0Η、(こ醇)3N (Et3N)、(異丙基)3N(i_Pr3N)、(正丁基)3N (Ii-Bu3N)、(異丁基)3N (I-Bu3N)、(叔丁基)3N (t_Bu3N)和(正辛基)3N (n_0ctyl3N)。使用諸如氫氟碳化合物、氫氟醚和1，3-雙(三氟甲基)苯等溶劑進(jìn)行該反應(yīng)。反應(yīng)溫度在20°C 120°C的范圍內(nèi)，優(yōu)選為40°C 90°C，更優(yōu)選為50°C 80°C。反應(yīng)時(shí)間為I小時(shí) 24小時(shí)，優(yōu)選為3小時(shí) 20小時(shí)，更優(yōu)選為5小時(shí) 12小時(shí)。在步驟(d)中，使步驟(C)中獲得的反應(yīng)混合物與由通式(iii)表示的含氫硅烷化合物和異構(gòu)體還原劑在過渡金屬催化劑的存在下進(jìn)行氫化硅烷化反應(yīng)，式(iii)為H-Si(Xj)3^(R1)a ( )其中R1、a和X’與上述相同。在步驟(C)的反應(yīng)混合物中，只有由通式(i_c)表示的末端烯基化合物能夠與含氫硅烷化合物反應(yīng)，然后在必要時(shí)，在(d-Ι)在中和劑的存在下與C1 C22直鏈或支化的脂肪醇進(jìn)行烷氧基化之后，或在(d-2)與具有C1 C22直鏈或支化的脂肪族烷氧基的堿金屬醇鹽進(jìn)行烷氧基化之后，得到由通式(i-d)表示的有機(jī)硅化合物，
通式(i~c)為F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH2CH=CH2 (i-c)其中，q、m、η、o和;r與上述相同，
通式(i-d)為F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (i-d)其中，q、m、n、o、r、a、X’和R1與上述相同。特別優(yōu)選的是，在異構(gòu)體還原劑和過渡金屬催化劑的存在下，在三氯硅烷和由通式(i-c)表示的化合物之間進(jìn)行氫化硅烷化反應(yīng)。然后，在必要時(shí)，在氫化硅烷化之后可通過醇(例如，甲醇、こ醇烷氧基化反應(yīng))脫去氯化氫，由此形成具有三烷氧基硅烷末端的有機(jī)硅化合物(i-d)。優(yōu)選的化合物根據(jù)以下反應(yīng)方案制造。F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) p-X_CH2CH=CH2+HSiCl3 —F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) 3_SiCl3I +3CH30H-3HC1F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) p_X_ (CH2) 3_Si (OCH3) 3在以上的反應(yīng)方案中，q為I 3的整數(shù)；m、n和ο獨(dú)立地為O 200的整數(shù)；p為I或2 ;X是氧或ニ價(jià)有機(jī)基團(tuán)。其他優(yōu)選的化合物通過用HSi (OMe)3或HSi (OEt)3來替換以上反應(yīng)方案中的HSiCl3而制備，其額外的優(yōu)點(diǎn)是不需要作為第二步驟的脫除氯化氫。脫除氯化氫優(yōu)選通過使用烷基胺(例如，一甲基或ニ甲基胺、一こ基或ニこ基胺或一異丙基或ニ異丙基胺胺化反應(yīng))來進(jìn)行，從而形成具有三(烷氨基)甲硅烷基末端的有機(jī)硅化合物(i-d)。具體而言，特別優(yōu)選的化合物通過以下反應(yīng)方案來制備。F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) p-X_CH2CH=CH2+HSiCl3 —F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) p_X_ (CH2) 3_SiCl3丨 +3HN (CH3) 2_3HC1F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) 3_Si (N (CH3) 2) 3在以上的反應(yīng)方案中，q、m、n、o、p和X與上述相同。在烷氧基化的情況中，優(yōu)選使用諸如甲醇鈉或原甲酸三甲酯等酸受體以促進(jìn)氯化氫的脫除。另ー方面，在胺化的情況中，烷基胺本身就用作酸受體，因此，烷基胺的量應(yīng)當(dāng)超過氯原子的2摩爾當(dāng)量。氫化硅烷化中的催化性VIII族過渡金屬優(yōu)選是鉬或銠。最優(yōu)選的是鉬。優(yōu)選將鉬以氯鉬酸或以1，3-ニこ烯基-1，I, 3，3-四甲基ニ硅氧烷的鉬絡(luò)合物形式供給，或?qū)櫼匀?(三苯基膦)Rh1Cl形式供給。在氫化硅烷化步驟中也使用了異構(gòu)體還原劑。在某些實(shí)施方式中，所述異構(gòu)體還原劑包括羧酸化合物。羧酸化合物可包括(a)羧酸，(b)羧酸的酸酐，(C)甲硅烷基化的羧酸和/或(d)可通過反應(yīng)或反應(yīng)方法中的分解生成上述的羧酸化合物(即，(a)、(b)和/或(C))的物質(zhì)。應(yīng)當(dāng)理解，ー種或多種這些羧酸化合物的混合物可以用作所述異構(gòu)體還原齊U。例如，甲硅烷基化的羧酸可以與羧酸的酸酐組合使用以用作異構(gòu)體還原劑。另外，ー種或多種類型的羧酸化合物的混合物可以用作異構(gòu)體還原劑。例如，兩種不同的甲硅烷基化的羧酸可以協(xié)同使用，或者兩種甲硅烷基化的羧酸可以與羧酸的酸酐協(xié)同使用。當(dāng)異構(gòu)體還原劑包括(a)羧酸時(shí)，可以使用任何具有羧基的羧酸。羧酸的合適實(shí)例包括飽和的羧酸、不飽和的羧酸、一元羧酸和ニ羧酸。通常選擇飽和的或不飽和的脂肪族烴基、芳香族烴基、鹵化的烴基或氫原子等作為這些羧酸中除了羧基之外的其他部分。適宜的羧酸的具體實(shí)例包括飽和的一元羧酸，如甲酸、こ酸、丙酸、正丁酸、異丁酸、己酸、環(huán)己酸、月桂酸和硬脂酸；飽和的ニ羧酸，如草酸和己ニ酸；芳香族羧酸，如苯甲酸和對苯ニ甲酸；其中烴基的氫原子被鹵素原子或有機(jī)甲硅烷基取代的羧酸，如氯こ酸、ニ氯こ酸、三氟こ酸、對氯苯甲酸和三甲基甲硅烷基こ酸；不飽和的脂肪酸，如丙烯酸、甲基丙烯酸和油酸；除了羧基外還具有羥基、羰基或氨基的化合物，即，羥基酸如乳酸，酮酸如こ酰こ酸，醛酸如こ醛酸和氨基酸如谷氨酸。、
當(dāng)異構(gòu)體還原劑包括(b)羧酸的酸酐時(shí)，羧酸的酸酐的適宜實(shí)例包括こ酸酸酐、丙酸酸酐和苯甲酸酸酐。這些羧酸的酸酐可經(jīng)由反應(yīng)系統(tǒng)中的反應(yīng)或分解得到，所述反應(yīng)系統(tǒng)包括こ酰氯、丁酰氯、苯甲酰氯和其他的羧酸鹵化物，羧酸的金屬鹽如こ酸鋅10和こ酸鉈，以及通過光或熱分解的羧酸酯如(2-硝基芐基)丙酸酷。在異構(gòu)體還原劑包括(C)甲硅烷基化的羧酸的實(shí)施方式中，甲硅烷基化的羧酸的適宜實(shí)例包括三烷基甲硅烷基化的羧酸，如三甲基甲硅烷基甲酸酷、三甲基甲硅烷基こ酸酷、三こ基甲硅烷基丙酸酷、三甲基甲硅烷基苯甲酸酯和三甲基甲硅烷基三氟こ酸酯；ニ羧酸甲硅烷基化物、三羧酸甲硅烷基化物或四羧酸甲硅烷基化物，如ニ甲基ニこ酰氧基硅烷、ニ苯基ニこ酰氧基硅烷、甲基三こ酰氧基硅烷、こ基三こ酰氧基硅烷、こ烯基三こ酰氧基硅烷、ニ叔丁氧基ニこ酰氧基硅烷和四苯甲酸化硅?；谟赏ㄊ?i-c)表示的末端烯基化合物的總量，異構(gòu)體還原劑通常以0.001至20的重量百分比，或以O(shè). 01至5重量百分比，或者以O(shè). 01至I重量百分比的量使用。適宜用作異構(gòu)體還原劑的市售的甲硅烷基化的羧酸的實(shí)例是DOW CORNING ETS900和XIAMETER 0FS_1579Silane,均來自 Dow Corning Corporation of Midland, MI。氫化硅烷化反應(yīng)如下進(jìn)行在異構(gòu)體還原劑和驅(qū)使反應(yīng)完成的充足的過渡金屬催化劑的存在下以適宜的時(shí)間間隔和溫度使通式(i-c)描述的化合物與過量的氫化硅反應(yīng)。作為可選的是，可以加入適宜的溶劑來促進(jìn)混合。使用核磁共振或紅外光譜等各種儀器法來監(jiān)測反應(yīng)進(jìn)程。例如，優(yōu)選的條件是30°C 90°C，時(shí)間為I小吋 10小時(shí)，每摩爾的氟化合物使用I. 05摩爾 30摩爾的三氯硅烷，使用0. 001毫摩爾 10毫摩爾的Pt，其供給形式為1，3-ニこ烯基-1，1,3, 3-四甲基ニ硅氧烷催化劑的鉬絡(luò)合物，S卩，VIII族過渡金屬和基于氟化合物(i-c)的量為0. 01重量百分比至I重量百分比的異構(gòu)體還原劑。通過真空蒸餾能夠從反應(yīng)產(chǎn)物中容易地除去任何過量的氫化硅。如果將三氯硅烷用于氫化硅烷化，則優(yōu)選通過使相對于I摩爾的第一反應(yīng)中得到的化合物為0. 05摩爾 10摩爾過量的原甲酸三甲基酯和甲醇的混合物在30°C 70°C反應(yīng)I小吋 10小時(shí)來進(jìn)行第二反應(yīng)(烷氧基化)。核磁共振或紅外光譜等各種儀器法可用來監(jiān)測反應(yīng)進(jìn)程。通過真空蒸餾能夠從反應(yīng)產(chǎn)物中容易地除去任何過量的原甲酸三甲基酯和甲醇。在以胺化作為第二反應(yīng)的情況中，需要超過6摩爾當(dāng)量過量的烷基胺，這是因?yàn)?摩爾當(dāng)量的胺用于氯原子的置換反應(yīng)，而另外3摩爾當(dāng)量的胺則用于中和相對于每I摩爾的SiCl3而消除的3摩爾當(dāng)量的HC1。
由通式(ii)表示的含氟化合物不能與含氫硅烷化合物反應(yīng)。因此，其未反應(yīng)而保留在反應(yīng)混合物中， F- (CF2) q- (OC3F6) m_ (OC2F4) n_ (OCF2)。-F (ii)通式(ii)中，q、m、η和ο與上述相同。在氫化硅烷化反應(yīng)中，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，由通式(i-c)表示的末端烯基化合物的一部分異構(gòu)化為由通式(i-c-d)表示的內(nèi)部烯基化合物F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n_ (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i—c—d)其中，q、m、η、ο和；r與上述相同。該內(nèi)部烯基化合物與含氫娃燒化合物的反應(yīng)性極低。因此，該化合物通常未反應(yīng)而保留在反應(yīng)混合物中，而且降低了耐久性。由氫化硅烷 化步驟副產(chǎn)的內(nèi)部烯基化合物(i-c-d)的量基于表面處理組合物可以為約10摩爾％ 20
摩爾％。因此，在本發(fā)明中，含氟化合物(B) + (C)或(ii) + (i-c-d)的總量基于表面處理組合物應(yīng)控制為小于25摩爾％。本發(fā)明的表面處理組合物可包含任何適宜的其他成分，如偶聯(lián)劑、抗靜電劑、紫外線吸收劑、增塑劑、流平劑、顔料和催化劑等。根據(jù)本發(fā)明的另ー個(gè)模式，提供ー種表面經(jīng)處理的物品，其包括基材，和在所述基材的表面上由本發(fā)明的表面處理組合物形成的層(或薄膜)。由所述表面處理組合物在基材的表面上形成的層具有良好的防污性(或耐污染性)和高度的耐久性。此外，由于該層顯示出很高的透射率，如透光性和透明度，因此本發(fā)明的表面處理組合物適合用于要求透射率的光學(xué)材料。必要時(shí)可以使用可選的催化劑，以促進(jìn)由本發(fā)明的表面處理組合物進(jìn)行的表面改性。這些催化劑促進(jìn)了有機(jī)硅官能團(tuán)與基材的表面之間的反應(yīng)。它們可以單獨(dú)使用或者作為兩種以上物質(zhì)的組合使用，以形成本發(fā)明的表面改性劑。適宜的催化化合物的實(shí)例包括酸，堿，有機(jī)酸的金屬鹽如ニ辛酸ニ丁基錫、硬脂酸鐵、辛酸鉛等，鈦酸酯如鈦酸四異丙酷、鈦酸四丁酷，螯合化合物如こ酰丙酮鈦等?；?00重量份的本發(fā)明的表面處理組合物，可選的催化劑的使用量優(yōu)選為O重量份 5重量份，更優(yōu)選為O. 01重量份 2重量份。本發(fā)明的表面處理組合物可包含諸如有機(jī)溶劑等液體介質(zhì)。包含有機(jī)硅化合物和氟化合物的表面處理組合物的濃度優(yōu)選為O. 01重量％ 80重量％。有機(jī)溶劑可以是優(yōu)選溶解表面處理組合物的各種溶劑，條件是該有機(jī)溶劑不會與本發(fā)明的組合物中包含的成分(特別是，反應(yīng)性有機(jī)硅化合物)反應(yīng)。有機(jī)溶劑的實(shí)例包括含氟溶劑，如含氟烷烴、含氟鹵代烷烴、含氟芳香烴和含氟醚(例如，氫氟醚(HFE))?？捎杀景l(fā)明的表面處理組合物處理以形成表面處理層的材料沒有特殊限定。其實(shí)例包括光學(xué)部件，包括無機(jī)材料如玻璃板、包括無機(jī)層的玻璃板和陶瓷等；和有機(jī)材料，如透明的塑料材料和包括無機(jī)層的透明的塑料材料等。包括該材料的光學(xué)部件不做限定，作為實(shí)例可以提及抗反射膜、光學(xué)濾光片、光學(xué)鏡片、眼鏡鏡片、分束器、棱鏡、反射鏡等。無機(jī)材料的實(shí)例包括玻璃板。用于形成包括無機(jī)層的玻璃板的無機(jī)化合物的實(shí)例包括金屬氧化物(硅的氧化物(ニ氧化硅、一氧化硅等)、氧化鎂、氧化鈦、氧化錫、氧化鋯、氧化鈉、氧化鋪、氧化銦、氧化秘、氧化釔、氧化鋪、氧化鋅和ιτο(銦錫氧化物)等。
無機(jī)層或包含這種無機(jī)化合物的無機(jī)材料可以是單層的，也可以是多層的。無機(jī)層用作抗反射層，并可以通過諸如濕式涂布、PVD (物理氣相沉積)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等已知方法形成。濕式涂布法的實(shí)例包括浸涂、旋涂、流涂、噴涂、棍涂、凹板式涂布(gravurecoating)等方法。PVD法的實(shí)例包括真空蒸發(fā)、反應(yīng)性沉積、離子束輔助沉積、濺射、離子鍍覆法等方法。在有機(jī)材料當(dāng)中，透明塑料材料的實(shí)例包括含有各種有機(jī)聚合物的材料。從透明度、折射率、分散性等光學(xué)性質(zhì)，以及諸如抗沖擊性、耐熱性和耐久性等各種其他性質(zhì)的角度考慮時(shí)，用作光學(xué)部件的材料通常包括聚烯烴(聚乙烯、聚丙烯等)、聚酯(聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等)、聚酰胺(尼龍6、尼龍66等)、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚酰亞胺、聚乙烯醇、乙烯乙烯基醇、丙烯酸樹脂、纖維素(三乙?；w維素、二乙?；w維素、賽璐玢(cellophane)等)，或所述有機(jī)聚合物的共聚物。提及的這些材料可以是本發(fā)明中需處理的透明塑料材料的實(shí)例。更具體而言，對于例如眼科元件等光學(xué)元件，這些材料可包括在內(nèi)。眼科元件的非限制性實(shí)例包括矯正和非矯正鏡片，包括單視鏡片(singlevision lenses)或多視鏡片(multi-vision lenses),例如雙焦點(diǎn)、三焦點(diǎn)和漸進(jìn)式鏡片等，這些鏡片可以是分段式的也可以是非分段式的，以及其他的用于矯正、保護(hù)或增強(qiáng)視力的元件，包括而不限于隱形鏡片、眼內(nèi)鏡片、放大鏡片和保護(hù)性鏡片或護(hù)目鏡。用于眼科元件的優(yōu)選材料包括一種或多種聚合物，所述聚合物選自聚碳酸酯、聚酰胺、聚酰亞胺、聚砜、 聚對苯二甲酸乙二醇酯和聚碳酸酯的共聚物、聚烯烴尤其是聚降冰片烯、二乙二醇-雙(烯丙基碳酸酯)聚合物(稱為CR39)及共聚物、(甲基)丙烯酸聚合物和共聚物尤其是衍生自雙酚A的(甲基)丙烯酸聚合物和共聚物、硫化(甲基)丙烯酸聚合物和共聚物、氨基甲酸酯和硫化氨基甲酸酯聚合物和共聚物、環(huán)氧聚合物和共聚物以及環(huán)硫化物聚合物和共聚物。材料的實(shí)例包括通過將諸如抗靜電劑、UV吸收劑、增塑劑、潤滑劑、著色劑、抗氧化齊U、阻燃劑等已知的添加劑添加至這些有機(jī)材料的有機(jī)聚合物中而制備的那些材料。待用于本發(fā)明的材料可以是通過在有機(jī)材料上形成無機(jī)層而制備的材料。在該情況中，無機(jī)層用作抗反射層，并且可以通過上述的方法形成在有機(jī)材料上。待處理的無機(jī)材料或有機(jī)材料沒有特殊限定。用作光學(xué)部件的透明的塑料材料通常為膜或片材的形式。膜或片材形式的這些材料也可以用作本發(fā)明的材料。膜或片材形式的材料可以是有機(jī)聚合物的單層，或多種有機(jī)聚合物的層壓體。厚度沒有特殊限定，不過優(yōu)選 O. Olmm 5mm。在透明塑料材料與無機(jī)層之間具有硬涂層的材料可用于本發(fā)明的基材。硬涂層改善了材料表面的硬度，也使材料的表面平整而光滑，由此改善了透明塑料材料與無機(jī)層之間的粘附性。因此，可以防止鉛筆或類似的負(fù)載所造成的刮擦。此外，硬涂層可抑制因透明塑料材料彎曲而導(dǎo)致的無機(jī)層的破裂，由此改善光學(xué)部件的機(jī)械強(qiáng)度。硬涂層的材料沒有特殊限定，只要其具有透明度、適宜的硬度和機(jī)械強(qiáng)度即可。例如，熱塑性樹脂和通過電離輻射或紫外線輻射固化的樹脂是UV固化型丙烯酸樹脂和有機(jī)硅樹脂，特別優(yōu)選熱塑性聚硅氧烷樹脂。該樹脂的折射率優(yōu)選等于或接近于透明塑料材料的折射率。以上提及的材料可以用作本發(fā)明的抗反射光學(xué)部件的透明材料。特別是，在表面上包括抗反射層的該材料可以是包括抗反射層的透明材料。本發(fā)明的抗反射的光學(xué)部件可以通過在這種材料的表面上形成防污層而獲得。除了該光學(xué)部件之外，本發(fā)明的表面處理組合物還可以應(yīng)用于用于汽車或飛機(jī)的窗ロ部件，由此提供高級功能。為了進(jìn)一歩改善表面硬度，還可以通過所謂的溶膠-凝膠過程組合使用本發(fā)明的表面處理組合物與TE0S(四こ氧基硅烷)來進(jìn)行表面改性。在納米壓印(nanoimprinting)過程中使用本發(fā)明的表面處理組合物作為脫模齊U，能夠容易地實(shí)現(xiàn)精確的脫模。用本發(fā)明的表面處理組合物對表面進(jìn)行處理時(shí)，處理用組合物幾乎擴(kuò)散為單層的狀態(tài)，因此得到的層的厚度僅為幾個(gè)納米。盡管具有這樣的厚度，卻 仍然可以形成水接觸角為110°以上的表面，正如后面的實(shí)施例中所示。本發(fā)明的表面處理組合物具有優(yōu)異的防液性，因此能夠應(yīng)用于光刻技術(shù)和器件的形成。此外，通過處理陶瓷材料的表面，還可以制造容易維護(hù)的衛(wèi)生潔具和外墻。形成處理層的方法沒有特殊限定。例如，可以使用濕式涂布法和干式涂布法。濕式涂布法的實(shí)例包括浸涂、旋涂、流涂、噴涂、輥涂、凹板式涂布等方法。干式涂布法的實(shí)例包括真空蒸發(fā)、濺射、CVD等方法。真空蒸發(fā)法的具體實(shí)例包括電阻加熱、電子束、高頻加熱、離子束等方法。CVD法的實(shí)例包括等離子體CVD、光CVD、熱CVD等方法。 此外，也可以通過常壓等離子體法進(jìn)行涂布。使用濕式涂布法時(shí)，稀釋用溶劑沒有特殊限定?？紤]到組合物的穩(wěn)定性和揮發(fā)性時(shí)，優(yōu)選以下化合物具有5 12個(gè)碳原子的全氟脂肪烴，如全氟己烷、全氟甲基環(huán)己烷和全氟-1，3-ニ甲基環(huán)己烷；多氟化芳香烴，如雙(三氟甲基)苯；多氟化脂肪烴、全氟丁基甲基醚和類似的HFE等。這樣的溶劑可以単獨(dú)使用或作為兩種以上的混合物使用。對于具有復(fù)雜形狀和/或大面積的材料，則優(yōu)選使用濕式涂布法。另ー方面，在考慮形成防污層時(shí)的工作環(huán)境時(shí)，則優(yōu)選不需要稀釋用溶劑的干式涂布法。特別優(yōu)選真空蒸發(fā)法。通過干式涂布法或濕式涂布法在材料上形成防污層之后，必要時(shí)可以進(jìn)行加熱、增濕、催化后處理、光輻照、電子束輻射等。通過使用本發(fā)明的防污劑形成的防污層的厚度沒有特殊限定。就防污性質(zhì)而言優(yōu)選Inm 30nm,就光學(xué)部件的抗刮傷性和光學(xué)性能而言更優(yōu)選Inm 10nm。通過下列實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一歩具體的說明，不過本發(fā)明并不限于這些實(shí)施例。本說明書中的有機(jī)硅化合物或含氟化合物的組成分析如下。聚合物組成(通過1H-NMR、19F-NMR、IR分析)通過19F NMR的測量結(jié)果計(jì)算平均分子量，通過1H NMR的測量結(jié)果計(jì)算混合物中各成分的摩爾比(摩爾％)。在本說明書全篇中的“平均分子量”是指數(shù)均分子量。產(chǎn)率根據(jù)理想情況計(jì)算，即有機(jī)硅化合物和含氟化合物二者的前體設(shè)為100%，其中，反應(yīng)性含氟化合物的全部前體均轉(zhuǎn)化為目標(biāo)反應(yīng)產(chǎn)物。實(shí)施例實(shí)施例I
該實(shí)施例涉及以上描述的本發(fā)明的表面處理組合物以及用于制造該表面處理組合物的方法。步驟(a):使用的原料混合物是700g (O. 175摩爾)由化學(xué)式F- (CF2CF2CF2O) n-CF2CF2_C0F表示的ω-氟聚全氟環(huán)氧丁烷基?；?平均分子量4000)和300g(0.075摩爾)由化學(xué)式F-(CF2CF2CF2O)n-CF2CF3表示的全氟聚環(huán)氧丁烷(平均分子量4200)的混合物。在氮?dú)饬飨?，?. OL配備有攪拌器、滴液漏斗、回流冷凝器和溫度計(jì)的四頸燒瓶中裝入330g 二甘醇二甲醚，然后在攪拌的條件下向其中加入11. 4g(0. 3摩爾)of NaBH4。向其中以IOmL/分鐘的速率滴加上述的原料混合物。完成滴加后，使液相的溫度升至約110°C，并使反應(yīng)在該反應(yīng)溫度進(jìn)行8小時(shí)。反應(yīng)之后，使 燒瓶內(nèi)容物冷卻至40°C以下，向其中加入700g全氟己烷，隨后攪拌10分鐘。然后進(jìn)一步冷卻至5°C以下，滴加140mL離子交換水。然后，在滴加IOOOg的3N-HC1溶液之后,使用分液漏斗將液相分成兩相(上層和下層)，分離獲得下層相(有機(jī)相)。由此得到的有機(jī)相用3N-HC1溶液/丙酮(340g/340g)洗滌三次。通過減壓蒸餾完全除去揮發(fā)性部分之后，獲得950g(產(chǎn)率95%)反應(yīng)混合物。根據(jù)所得反應(yīng)混合物的IR分析，在1890CHT1的來自-C (=0) F的吸收完全消失，新出現(xiàn)了在3300CHT1的來自-CH2OH的吸收。因此，反應(yīng)混合物被確認(rèn)為由化學(xué)式CF3CF2CF2- (OCF2CF2CF2) ,-O-CF2CF2-CH2OH表示的全氟聚環(huán)氧丁烷醇和由化學(xué)式CF3CF2CF2-(OCF2CF2CF2) ,-O-CF2CF3表示的全氟聚環(huán)氧丁烷的混合物。在該反應(yīng)混合物中，全氟聚環(huán)氧丁烷醇(平均分子量為4000)的含量為70摩爾％，全氟聚環(huán)氧丁烷(平均分子量為4200)的含量為30摩爾％。步驟(b):通過色譜法進(jìn)行的純化步驟通過填充有娃膠的柱子(溶劑Vertrel XF,來自DuPont)對獲自步驟(a)的反應(yīng)混合物進(jìn)行色譜分離，由此獲得660g(純度98摩爾％)基本上由以化學(xué)式CF3CF2CF2- (OCF2CF2CF2) a-0_CF2CF2-CH20H表示的全氟聚環(huán)氧丁烷醇構(gòu)成的純化材料。在該純化材料中，由化學(xué)式CF3CF2CF2- (OCF2CF2CF2) ,-O-CF2CF3表示的全氟聚環(huán)氧丁烷的含量為2摩爾％。步驟(C):烯丙基化反應(yīng)在氮?dú)饬飨?，?. OL配備有攪拌器、滴液漏斗、回流冷凝器和溫度計(jì)的四頸燒瓶中裝入 500g(0. 125 摩爾)的混合物(CF3CF2CF2-(OCF2CF2CF2)a-O-CF2CF2-CH2OH/CF3CF2CF2- (OCF2CF2CF2) a_0_CF2CF3=98摩爾％/2摩爾％)，并在攪拌的條件下向其中添加300g的1，3-雙(三氟甲基)苯。加入10g(0.25摩爾)的氫氧化鈉之后，使液相的溫度升至約65°C,并使反應(yīng)在該反應(yīng)溫度進(jìn)行4小時(shí)。4小時(shí)之后,加入30g(0. 24摩爾)烯丙基溴。加入烯丙基溴后，使反應(yīng)在65°C進(jìn)行8小時(shí)。反應(yīng)之后，使燒瓶內(nèi)容物冷卻至40°C以下，向其中加入200g全氟己烷，隨后攪拌10分鐘。然后進(jìn)一步冷卻至5°C以下，滴加150g的3N-HC1溶液，使用分液漏斗將液相分成兩相(上層和下層)，分離獲得下層相(有機(jī)相)。將由此得到的有機(jī)相用3N-HC1溶液/丙酮(150g/150g)洗滌三次。通過減壓蒸餾完全除去揮發(fā)性部分之后，獲得480g (產(chǎn)率96%)反應(yīng)混合物。根據(jù)IH-NMR和19F-NMR的分析，確認(rèn)所得反應(yīng)混合物為CF3CF2CF2 (OCF2CF2CF2) 220CF2CF2CH2OCH2CH=CH2 和 CF3CF2CF2 (OCF2CF2CF2 ) 220CF2CF3 (比率為 98 摩爾 ％/2 摩爾 ％)的混合物。步驟(d)⑴通過三氯硅烷進(jìn)行甲硅烷基化，隨后進(jìn)行烷氧基化向300mL配備有磁力攪拌棒、水冷回流冷凝器、溫度控制和干燥氮?dú)忭敳靠臻g吹掃的三頸燒瓶中加入 80. Og 的 CF3CF2CF2 (OCF2CF2CF2) x0CF2CF2CH20CH2CH=CH2 和CF3CF2CF2 (OCF2CF2CF2) ,OCF2CF3 (混合物的比率為 98 摩爾 ％/2 摩爾 ％，F(xiàn)W 4521 g/ 摩爾)、40. Og 的 1，3-雙(三氟甲基)苯、O. 24g Dow Corning ETS 900 和 4. 06g 三氯硅烷。將內(nèi)容物加熱至60°C，然后用80分鐘逐漸加入與1,3-ニこ烯基-1，1,3, 3-四甲基ニ硅氧烷的絡(luò)合的Pt金屬。使內(nèi)容物在65°C維持額外的120分鐘以制造CF3CF2CF2(OCF2CF2CF2),OCF2CF2CH2OCH2CH2CH2SiCl3^ CF3CF2CF2 (OCF2CF2CF2) x0CF2CF2CH20CH=CHCH3 和CF3CF2CF2 (OCF2CF2CF2),OCF2CF3的混合物。由反應(yīng)混合物中真空除去殘留的三氯硅烷和溶齊U，之后加入10. Og原甲酸三甲基酷、10. Og甲醇和20. Og 1，3-雙(三氟甲基)苯。使燒瓶內(nèi)容物在60°C保持3小時(shí)以促進(jìn)氯硅烷的甲氧基化。過量的反應(yīng)試劑在真空下除去。加入4. Og活性炭。通過在O. 5微米的膜上的娃藻土助濾劑(Celite filter aid)的床對產(chǎn)物進(jìn)行過濾。產(chǎn)物混合物(X)，CF3CF2CF2 (OCF2CF2CF2) ,OCF2CF2CH2OCH2CH2CH2Si (OCH3) 3>CF3CF2CF2 (OCF2CF2CF2)x0CF2CF2CH20CH=CHCH3 和 CF3CF2CF2 (OCF2CF2CF2),OCF2CF3(混合物的比率為81摩爾％/17摩爾％/2摩爾％)作為濾出液被分離。紅外和核磁共振光譜的分析顯示CH2=CHCH2O和SiCl官能性完全消失。下列步驟⑴至(iii)涉及眼科鏡片的防污處理以及由此獲得的鏡片。(i)眼科鏡片的預(yù)處理在基材上實(shí)現(xiàn)涂布，該基材是基于CR39. RTM.的眼科鏡片，其在兩側(cè)上均包括對應(yīng)于專利文獻(xiàn)EP614957中的實(shí)施例3的聚硅氧烷型的耐磨涂層。在超聲清潔槽中洗滌鏡片，在100°C的溫度蒸最少3小吋。所述鏡片隨后準(zhǔn)備進(jìn)行處理。處理的鏡片是圓形鏡片。(ii)鏡片的制備(具有非反射的疏水/疏油涂層的鏡片的制備)使用的真空處理機(jī)是來自Leybold Optics的Syrus 3機(jī)器,其配置有電子槍、離子槍和具有焦耳效應(yīng)的蒸發(fā)源。將鏡片放置在配有可容納待處理鏡片的圓形開ロ的圓盤傳送帶上，凹側(cè)面向蒸發(fā)源和離子槍。進(jìn)行抽真空直至達(dá)到二次真空。然后，使用電子槍進(jìn)行4個(gè)非反射光學(xué)層的連續(xù)蒸發(fā)，高指數(shù)(IH)，低指數(shù)(BI)，HI, BI Zr02, SiO2, ZrO2, SiO20最后，通過蒸發(fā)沉積以上獲得的反應(yīng)混合物(X)作為疏水疏油涂層。將給定量的以上獲得的反應(yīng)混合物(X)放置在直徑為18mm的銅腔室中，再將其放置在焦耳效應(yīng)坩堝(鉭坩堝)中。通過蒸發(fā)沉積厚度為Inm 5nm的疏水疏油涂層。沉積厚度使用石英檢測器測量。隨后，將封入物再次加熱，設(shè)置處理室使其返回以接通大氣。然后將鏡片倒置，使凸側(cè)朝向處理區(qū)。凸側(cè)的處理與凹側(cè)的相似(重復(fù)以上的步驟(ii))。(iii)測試和測量(iii-Ι)耐久性程序A :使來自FACOL的“ Microfiber M840S 30X40”浸沒在25°C的水中I分鐘，然后取出置于空氣中。在施加3. 5kg荷載的同時(shí)(在25°C、40% 60%的濕度的空氣中)用該Microfiber對具有防水膜的塑料鏡片的表面進(jìn)行機(jī)械摩擦，該機(jī)械摩擦以往復(fù)運(yùn)動的方式(I個(gè)周期對應(yīng)于I次向前加上I次向后的運(yùn)動)進(jìn)行1200次(即，600個(gè)循環(huán))、2400次(S卩，1200個(gè)循環(huán))、3600次(S卩，1800個(gè)循環(huán))、4800次(即，2400個(gè)循環(huán))和6000次(即，3000個(gè)循環(huán))，每隔600個(gè)摩擦循環(huán)測量靜態(tài)接觸角。將機(jī)械摩擦設(shè)備設(shè)定為7分鐘內(nèi)進(jìn)行600個(gè)循環(huán)。(iii-2)耐久性程序B 使來自FACOL的“Microfiber M840S 30X40”浸沒在25°C的水中I分鐘，然后取出置于空氣中。在施加3. 5kg荷載的同時(shí)(在25°C、40% 60%的濕度的空氣中)用該Microfiber對具有防水膜的塑料鏡片的表面進(jìn)行機(jī)械摩擦，該機(jī)械摩擦以往復(fù)運(yùn)動的方式(I個(gè)周期對應(yīng)于I次向前加上I次向后的運(yùn)動)進(jìn)行2400次(S卩，1200個(gè)循環(huán))>4800次(即，2400個(gè)循環(huán))、7200次(即，3600個(gè)循環(huán))、9600次(即，4800個(gè)循環(huán))和12000次(即，6000個(gè)循環(huán))，每隔1200個(gè)摩擦循環(huán)測量靜態(tài)接觸角。將機(jī)械摩擦設(shè)備設(shè)定為14分鐘內(nèi)進(jìn)行1200個(gè)循環(huán)。(iii-3)與水的靜態(tài)接觸角使用接觸角測量儀(DSA100,由 KRUSS Advancing Surface Science 制造)，使用針在25°C將體積為4微升的水滴沉積在鏡片凸側(cè)的最高部分。水滴與表面之間的角被定義為“與水的靜態(tài)接觸角”。使用DSA 100的“drop shape analysis (滴形分析)”軟件測量該角度。采用該技術(shù)和該設(shè)備，測量的不確定度為+/-I. 3°。實(shí)施例2按照上述過程進(jìn)行運(yùn)行。使用上述的耐久性測試程序A測試三個(gè)鏡片，對于各步驟的每個(gè)鏡片，進(jìn)行3次靜態(tài)接觸角的測量。表I顯示了對3個(gè)鏡片進(jìn)行的三次測量結(jié)果的平均值
權(quán)利要求
1.一種表面處理組合物，所述表面處理組合物包含由通式(A)表示的有機(jī)硅化合物 F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。- (CH2) P_X_ (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (A) 其中q是I 3的整數(shù)；m、n和o獨(dú)立地為0 200的整數(shù)；p為I或2 ;X是氧或二價(jià)有機(jī)基團(tuán)；r為0 17的整數(shù)#是不具有不飽和脂族鍵的直鏈或支化的CV22烴基；a為0 2的整數(shù)；并且X’是可水解基團(tuán)， 其中，在所述表面處理組合物中由以下通式(B)和(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面處理組合物為小于25摩爾％ F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。-F (B) 其中q、m、n和o與上述相同， F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2) 0- (CH2) P_X_ (CH2) ,-CH=CHCH3 (C) 其中q、m、n、0、p、r和X與上述相同。
2.如權(quán)利要求I所述的表面處理組合物，其中，在通式(A)中，所述可水解基團(tuán)X’是選自烷氧基(-0R)和烷氨基(-NHR或-NR2)中的至少一種基團(tuán)，其中R獨(dú)立地為C1 C22直鏈或支化的烷基，并且兩個(gè)R基團(tuán)能夠形成環(huán)狀胺，整數(shù)a為O。
3.如權(quán)利要求I或2所述的表面處理組合物，其中，在通式(A)中，所述可水解基團(tuán)X’是烷氨基(-NHR或-NR2),其中R與上述相同，并且整數(shù)a為O。
4.如權(quán)利要求I 3中任一項(xiàng)所述的表面處理組合物，其中，由通式(A)表示的所述有機(jī)娃化合物由以下通式(i-d-i)或(i-d-ii)表示 F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si- (HNR) 3 (i-d-i) 或F-(CF2) q-(OC3F6)ffl-(OC2F4)n-(OCF2)。-CH2O-(CH2),-C3H6-Si (NR2) 3 (i-d-ii) 其中，q、m、n、0、r和R與上述相同，由通式⑶和(C)表示的含氟化合物分別由以下通式(ii)和(i_c-d)表不: F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2) 0_F (ii) 和 F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i-c—d)。
5.如權(quán)利要求I 4中任一項(xiàng)所述的表面處理組合物，其中，由通式(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面處理組合物為I. 0摩爾％以上。
6.如權(quán)利要求I 5中任一項(xiàng)所述的表面處理組合物，其中，由通式⑶和(C)表示的含氟化合物的含量基于所述表面處理組合物為小于15摩爾％。
7.如權(quán)利要求I 6中任一項(xiàng)所述的表面處理組合物，其中，在通式⑷和(C)中，p為I且X為氧，S卩，(A)和(C)分別由以下通式(i_d)和(i-c-d)表示 F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (i_d) 其中，q、m、n、0、r、a、X’和R1與上述相同， F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i-c-d) 其中，q、m、n、o和r與上述相同。
8.一種包含有機(jī)硅化合物的表面處理組合物的制造方法，所述方法包括以下步驟 (a)使包含由下列通式(i)和(ii)表示的化合物的原料混合物與還原劑接觸以使化合物(i)反應(yīng)，從而制造包含由此生成的由以下通式(i_b)表示的醇和由通式(ii)表示的化合物的反應(yīng)混合物 F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2) 0-C (=0) F (i) 其中，q為I 3的整數(shù)；m、n和o獨(dú)立地為0 200的整數(shù)， F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2) 0_F (ii) 其中，q、m、n和o與上述相同， F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2OH (i_b) 其中，q、m、n和o與上述相同； (b)通過柱色譜法提純上述步驟中得到的所述反應(yīng)混合物，以除去至少部分由通式(ii)表示的含氟化合物，并由此制造純化材料，其中由通式(i_b)表示的化合物在所述純化材料中的含量高于在所述反應(yīng)混合物中的含量； (c)使步驟(b)中制造的所述純化材料與Z-(CH2)r-CH2CH=CH2接觸以使化合物(i_b)反應(yīng)，從而制造包含由此生成的由以下通式(i_c)表示的烯丙基化合物和由通式(ii)表示的化合物的反應(yīng)混合物，其中Z是鹵素原子，r為0 17的整數(shù) F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH2CH=CH2 (i-c) 其中q、m、n、o和r與上述相同， 其中在該中間組合物中由通式(ii)表示的化合物的含量基于所述中間組合物為小于.10摩爾% ;和 (d)使步驟(C)中獲得的反應(yīng)混合物與由通式(iii)表示的含氫硅烷化合物在過渡金屬催化劑和異構(gòu)體還原劑的存在下接觸，然后在必要時(shí)與堿金屬醇鹽接觸以使化合物(i-c)反應(yīng)，由此制造包含由通式(i-d)表示的有機(jī)硅化合物和由通式(ii)及(i-c-d)表示的含氟化合物的表面處理組合物 通式(iii)為 H-Si(XU1)a (iii) 其中與上述相同， 通式(i-d)為 F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si (X，) 3_a (R1) a (i-d) 其中q、m、n、0、a、r、X’和R1與上述相同， 通式(i_c_d)為 F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-CH=CHCH3 (i-c-d) 其中q、m、n、o和r與上述相同， 其中，在所述表面處理組合物中由通式(ii)和(i-c-d)表示的含氟化合物的含量基于所述表面處理組合物為小于25摩爾％。
9.如權(quán)利要求8所述的表面處理組合物的制造方法，其中，步驟(d)包括使步驟(c)中獲得的反應(yīng)混合物與三氯硅烷(HSiCl3)在異構(gòu)體還原劑和過渡金屬催化劑的存在下接觸，然后再與烷基胺接觸，由此制造包含由通式(i-d-i)或(i-d-ii)表示的有機(jī)硅化合物和由通式(ii)和(i-c-d)表示的含氟化合物的表面處理組合物 式(i-d-i)為 F- (CF2) q- (OC3F6) m- (OC2F4) n- (OCF2)。-CH2O- (CH2) ,-C3H6-Si- (HNR) 3 (i-d-i) 式(i-d-ii)為F-(CF2) q-(OC3F6)ffl-(OC2F4)n-(OCF2)。-CH2O-(CH2),-C3H6-Si (NR2) 3 (i-d-ii) 其中，q、m、n、o、r和R與上述相同。
10.如權(quán)利要求8或9所述的表面處理組合物的制造方法，其中，所述還原劑是NaBH4或 LiAm4。
11.如權(quán)利要求8 10中任一項(xiàng)所述的表面處理組合物的制造方法，其中，步驟(c)在堿的存在下進(jìn)行。
12.如權(quán)利要求8 11中任一項(xiàng)所述的表面處理組合物的制造方法，其中，步驟(d)中使用的所述過渡金屬催化劑是鉬、銠或鈀中的任一種。
13.如權(quán)利要求8 12中任一項(xiàng)所述的表面處理組合物的制造方法，其中，所述異構(gòu)體還原劑是羧酸化合物。
14.如權(quán)利要求8 13中任一項(xiàng)所述的表面處理組合物的制造方法，其中，所述異構(gòu)體還原劑選自一種或多種甲硅烷基化的羧酸。
15.一種表面經(jīng)處理的物品，所述表面經(jīng)處理的物品包括 基材，和 通過在所述基材的表面上施用權(quán)利要求I 7中任一項(xiàng)所述的表面處理組合物而形成的層。
16.如權(quán)利要求15所述的表面經(jīng)處理的物品，其中，所述基材是包括抗反射光學(xué)層的透明材料。
17.如權(quán)利要求15所述的表面經(jīng)處理的物品，所述表面經(jīng)處理的物品選自矯正和非矯正鏡片，包括單視鏡片或等多視鏡片，例如雙焦點(diǎn)、三焦點(diǎn)和漸進(jìn)式鏡片，這些鏡片可以是分段式的或者是非分段式的。
全文摘要
本發(fā)明涉及表面處理組合物，所述表面處理組合物包含(i)在含氟聚醚鏈的末端具有烷氧基硅烷官能團(tuán)的有機(jī)硅化合物和(ii)含氟聚醚化合物，其中，在所述表面處理組合物中所述含氟聚醚化合物的含量基于所述表面處理組合物為小于25摩爾%。
文檔編號C08G65/336GK102666759SQ201080050721
公開日2012年9月12日 申請日期2010年11月10日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月11日
發(fā)明者G·赫爾維, P-J·卡爾巴, 伊丹康雄, 前田昌彥, 吉田知弘, 唐·李·克萊爾, 彼得·謝舍爾·胡佩費(fèi)爾德, 林正之, 桝谷哲也 申請人:依視路國際集團(tuán)(光學(xué)總公司), 大金工業(yè)株式會社, 道康寧公司