第 二氮化硅膜層；所述玻璃基板為浮法玻璃。
[0103] 該玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃的制備方法包括如下步驟：
[0104] 1)前處理，采用Benteler清洗機清洗浮法玻璃，將清洗好的浮法玻璃作為玻璃基 板，并將所述清洗后的浮法玻璃送入真空室，保持真空室真空度在8X106mbar以上。
[0105] 2)膜層沉積處理，采用氬氣和氮氣作為工藝氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在玻 璃基板上磁控濺射厚度為30. 5nm的第一氮化硅（SiNx)膜層，控制硅鋁靶的質(zhì)量比為Si:A1 =92:8,氬氣和氮氣的流量比為1:1。
[0106] 換用氬氣和氧氣為工藝氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)鋅鋁靶，在第一氮化硅膜層上磁 控濺射氧化鋅（ZnO)膜層，濺射厚度為5. 3nm，鋅鋁靶的質(zhì)量比為Ζη:Α1 = 98:2,氬氣與氧 氣的流量比為3:4。
[0107] 采用氬氣作為工藝氣體，直流電源濺射平面銅靶，在氧化鋅（ZnO)膜層上磁控濺 射銅（Cu)膜層，濺射厚度為18. 5nm。
[0108] 采用氬氣作為工藝氣體，直流電源濺射平面鎳鉻合金靶，在銅（Cu)膜層上磁控濺 射鎳鉻合金（NiCr)膜層，厚度為3. 3nm。
[0109] 采用氬氣和氮氣為工藝氣體，交流電源濺射旋轉(zhuǎn)硅鋁靶，在鎳鉻合金（NiCr)膜層 上磁控濺射第二氮化硅（SiNx)膜層，厚度為19.lnm;硅鋁靶的質(zhì)量比Si:A1 = 92 :8,氬氣 與氮氣的流量比為1 :1。
[0110] 上述步驟結束后，采用在線檢測光度計、DatacolarCHECKII測量本實施例產(chǎn)品 的外觀顏色，具體如表2所示，采用在線檢測光度計測量光譜曲線，得到的光譜曲線如附圖 7(a)、7(b)、7(c)所示，采用U4100測量全波段光譜曲線，并將數(shù)據(jù)導入光熱學性能計算軟 件進行計算，結果如表3所示。
[0111] 表2實施例1~6中玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃外觀顏色
[0112]
[0113] 其中，上表2中字母的含義如下
[0114] G:表示鍍膜玻璃的玻璃面；R*g:表示鍍膜玻璃玻璃面的反射值；a*g，b*g:表示鍍 膜玻璃玻璃面的顏色值（a*g越正表示顏色越紅，a*g越負表示顏色越綠；b*g越正表示顏色 越黃，b*g越負表示顏色越藍）；L*g:表示鍍膜玻璃玻璃面的亮度。
[0115] F:表示鍍膜玻璃的鍍膜面；R*f:表示鍍膜玻璃膜面的反射值；a*f，b*f:表示鍍膜 玻璃膜面的顏色值（a*f越正表示顏色越紅，a*f越負表示顏色越綠；b*f越正表示顏色越 黃，b*f越負表示顏色越藍）；L*f:表示鍍膜玻璃膜面的亮度。
[0116] T:表示鍍膜玻璃的透過；Tr:表示鍍膜玻璃的透過率；a*T，b*T:表示鍍膜玻璃透 過的顏色值（a*T越正表示顏色越紅，a*T越負表示顏色越綠；b*T越正表示顏色越黃，b*T 越負表示顏色越藍）；L*T:表示鍍膜玻璃透過的亮度。
[0117] 表3實施例1~6玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃性能參數(shù)測試結果
[0118]
[0120] 其中，表3中各參數(shù)的含義如下：
[0121] 可見光透過率：在可見光光譜（波長：380~780nm)范圍內(nèi)，透過玻璃光強度的百 分比值；
[0122] 可見光反射率：在可見光光譜（波長：380~780nm)范圍內(nèi)，玻璃表面反射光強度 的百分比值；
[0123] 太陽能透過率：在太陽光譜（波長：300~2500nm)范圍內(nèi)，透過玻璃的紫外光、可 見光和近紅外光總能量的百分比值；
[0124] 太陽能反射率：在太陽光譜（波長：300~2500nm)范圍內(nèi)，玻璃表面反射的紫外 光、可見光和近紅外光總能量的百分比值；
[0125] U值：美國ASHRAE標準條件下的傳熱系數(shù)。傳熱系數(shù)的值與測試條件有關，同一 種玻璃在不同的測試條件下，傳熱系數(shù)的值不同；
[0126] 遮陽系數(shù)：相同條件下，透過玻璃的總太陽能輻射能量與透過3_透明玻璃的總 太陽能輻射能量的比，遮陽系數(shù)越小，阻擋陽光輻射的性能越好。
[0127] 6C仿玫瑰金+12A+6C:6mm低輻射鍍膜玻璃（鍍膜玻璃的膜層為仿玫瑰金色Low-E 膜）與6mm普通浮法玻璃合成中空玻璃，中空層為12_。
[0128] 以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已，并不用以限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精 神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包括在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【主權項】
1. 一種玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基板和沉積于玻璃基板表面 的功能膜層；所述功能膜層至少包括依次從玻璃基板向外逐層沉積而成的第一電介質(zhì)層、 第二電介質(zhì)層、核心介質(zhì)層、保護層和第三電介質(zhì)層。2. 如權利要求1所述的玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一電介質(zhì)層為 氧化硅膜層，所述第二電介質(zhì)層為氧化鋅膜層，所述核心介質(zhì)層為銅膜層，所述保護層為鎳 鉻合金膜層，所述第三電介質(zhì)層為氧化硅膜層。3. 如權利要求1或2所述的玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一電介 質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、核心介質(zhì)層、保護層和第三電介質(zhì)層的厚度分別為10. 5~32.lnm、 3. 8 ~17. 9nm、13. 2 ~28. 3nm、2. 6 ~7. 5nm和 10. 2 ~27. 3nm。4. 如權利要求1或2所述的玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板為 浮法玻璃基板。5. -種玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：包括如下步驟： 步驟S01、對玻璃基板進行清洗處理； 步驟S02、在所述玻璃基板表面上依次沉積如下功能膜層：第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì) 層、核心介質(zhì)層、保護層和第三電介質(zhì)層。6. 如權利要求5所述的玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：沉積的所 述第一電介質(zhì)層為氧化硅膜層，所述第二電介質(zhì)層為氧化鋅膜層，所述核心介質(zhì)層為銅膜 層，所述保護層為鎳鉻合金膜層，所述第三電介質(zhì)層為氮化硅膜層。7. 如權利要求5或6所述的玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述 第一電介質(zhì)層厚度為10. 5~32.lnm，所述第二電介質(zhì)層厚度為3. 8~17. 9nm，所述核心 介質(zhì)層厚度為13. 2~28. 3nm，所述保護層厚度為2. 6~7. 5nm，所述第三電介質(zhì)層厚度為 10. 2 ~27. 3nm〇8. 如權利要求5所述的玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：在所述沉 積功能膜層的過程中，控制派射真空度為2X10 3mbar~5X10 3mbar。9. 如權利要求1~8任一所述玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃在建筑玻璃幕墻、玻璃屋頂、雨 棚、建筑門窗及室內(nèi)裝飾的應用。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃及其制備方法和應用。該玫瑰金色低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板和沉積于玻璃基板表面的功能膜層；所述功能膜層至少包括依次從玻璃基板向外逐層沉積而成的第一電介質(zhì)層、第二電介質(zhì)層、核心介質(zhì)層、保護層和第三電介質(zhì)層；所述第一電介質(zhì)層為氧化硅膜層，所述第二電介質(zhì)層為氧化鋅膜層，所述核心介質(zhì)層為銅膜層，所述保護層為鎳鉻合金膜層，所述第三電介質(zhì)層為氧化硅膜層；所述玻璃基板為浮法玻璃。本發(fā)明可以實現(xiàn)玫瑰金色低輻射的功效，且反射率低，不產(chǎn)生光污染，抗氧化性能明顯提高，還能延長儲存期限，適合工業(yè)生產(chǎn)與多個領域的應用。
【IPC分類】E04C2/54, C03C17/36
【公開號】CN105314888
【申請?zhí)枴緾N201510395558
【發(fā)明人】董清世, 周楓, 蔡法清
【申請人】信義節(jié)能玻璃（蕪湖）有限公司
【公開日】2016年2月10日
【申請日】2015年7月6日