專利名稱：：金色低輻射鍍膜玻璃及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及鍍膜玻璃，尤其是涉及一種金色低輻射鍍膜玻璃及其制作方法。技術(shù)背景低輻射鍍膜玻璃又稱低輻射玻璃、"Low-E"玻璃，在玻璃基片的單表面鍍覆一至多層特殊的金屬或金屬氧化物、金屬氮化物薄膜，由此形成各種視覺效果和具有不同光學和熱學性能特點。對波長范圍0.78pm2.5(^m的紅外線具有較高反射比，有良好的隔熱保溫性能，該產(chǎn)品集裝飾建筑外觀、控制光線、調(diào)節(jié)熱量、節(jié)約能源、改善環(huán)境等多種功能為一體，在建筑、交通、娛樂等多種行業(yè)應用廣泛。但是，現(xiàn)有金色低輻射鍍膜玻璃采用純金靶材，氣氛為純惰性氣體，價格十分昂貴，市場推廣受到很大限制。
發(fā)明內(nèi)容'本發(fā)明所要解決的一個技術(shù)問題是解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，在保持產(chǎn)品風格與內(nèi)在質(zhì)量以及滿足市場需求的前提下，提出一種采用非純金鍍制的金色低輻射鍍膜玻璃。本發(fā)明所要解決的另一個技術(shù)問題是解決上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，在保持產(chǎn)品風格與內(nèi)在質(zhì)量以及滿足市場需求的前提下，提出一種采用非純金鍍制的金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法。本發(fā)明的金色低輻射鍍膜玻璃通過以下技術(shù)方案予以解決。這種金色低輻射鍍膜玻璃，以玻璃為基片，所述玻璃單表面鍍覆有復合膜層，所述復合膜層的最外層為一保護膜層。這種金色低輻射鍍膜玻璃的特點是所述復合膜層包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銅膜層，一層是銀膜層，緊貼保護膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層。這種金色低輻射鍍膜玻璃的外觀顏色主要貢獻來源于金屬銅膜層。'由于金屬銅膜層、銀膜層具有導電性，對紅外線具有反射作用，從而降低太陽的輻射熱量，實現(xiàn)低輻射功能。采用三層金屬膜層，可以更多地降低太陽的輻射熱量，使得產(chǎn)品具有優(yōu)異的熱學性能。所述金屬膜層厚度為0.1,100nm，即為納米級膜層。本發(fā)明的金色低輻射鍍膜玻璃通過以下進一步的技術(shù)方案予以解決。在所述玻璃單表面與最下面的金屬膜層之間還設(shè)有一介質(zhì)膜層，所述介質(zhì)膜層包括鈦氧化物膜層、錫氧化物膜層、鋅氧化物膜層、鋅錫氧化物膜層、硅氧化物膜層、硅氮化物膜層。銅膜層與銀膜層及介質(zhì)膜層對光線干涉所形成的外觀顏色為高亮的金色，可以替代現(xiàn)有的純金膜層。在陽光下觀看，鍍復合膜層的玻璃面顏色為金色。所述介質(zhì)膜層厚度為lnm300nm。所述保護膜層包括鈦氧化物膜層、錫氧化物膜層、鋅氧化物膜層、鋅錫氧化物膜層、硅氧化物膜層、硅氮化物膜層。所述保護膜層厚度比所述介質(zhì)膜層厚，厚度為lnm300nm。優(yōu)選的，所述復合膜層自下而上是氧化鈦(Ti02)介質(zhì)膜層、銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅(Si3N4)保護膜層，在陽光下觀看，鍍復合膜層的玻璃面顏色為金色。本發(fā)明的金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法通過以下技術(shù)方案予以解決。這種金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法，依次有以下步驟(1)清洗，對基片玻璃清洗；(2)干燥，將清洗后的所述玻璃干燥；(3)鍍覆，在干燥后的所述玻璃單表面鍍覆復合膜層。這種金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法的特點是所述步驟(3)的鍍覆是真空磁控濺射鍍覆，將干燥后的所述玻璃置入真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶材室自下而上逐層鍍覆復合膜層最外層為一保護膜層，還包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銅膜層，一層是銀膜層，緊貼保護膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層，有的還包括在所述平板玻璃單表面與最下面的金屬膜層之間設(shè)有的一介質(zhì)膜層。所述靶材室的靶材包括氧化鈦陶瓷靶、鈦靶、銀靶、銅靶、鎳鉻靶、錫靶、鋅錫靶、硅鋁靶。所述金屬膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，為純惰性氣體，包括純氬氣、純氮氣。本發(fā)明的金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法通過以下進一步的技術(shù)方案予以解決。所述氧化鈦陶瓷靶為TiOx，純度為99.50%~99.99%。所述鈦靶、銀靶、銅靶、錫靶的鈦、銀、銅、錫的純度均為99.卯0%~99.999%。所述的鎳鉻靶為鉻鎳重量比為20%~30%的鎳鉻合金靶，鎳、鉻純度均為99.900%99.999%。所述鋅錫靶為鋅錫重量比為20%60%的鋅錫靶，鋅、錫的純度均為99.900%~99.999%。所述硅鋁靶為硅鋁重量比為10%20%的硅鋁靶，硅、鋁的純度均為99.900%~99.999%。所述靶材室的靶型包括旋轉(zhuǎn)靶、平面靶。所述介質(zhì)膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，包括氧氬比為1%100%的氧氣和氬氣混合氣體、氬氮比為0%~80%的氬氣和氮氣混合氣體。所述保護膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，包括氧氬比為0%~80%的氧氣和氬氣混合氣體、.氬氮比為0%~80%的氬氣和氮氣混合氣體。本發(fā)明的金色低輻射鍍膜玻璃的制作方法通過以下進一步的技術(shù)方案予以解決。，所述步驟(3)的鍍覆是逐層鍍覆氧化鈦(Ti02)介質(zhì)膜層、銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅(Si3N4)保護膜層，鍍覆氧化鈦介質(zhì)膜層采用鈦靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氧氣:氬氣=10.0%，或采用氧化鈦陶瓷靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氧氣:氬氣=8.0%;鍍覆銅膜層采用銅靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍覆銀膜層采用銀靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍覆鎳鉻膜層采用鎳鉻靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍制氮化硅保護膜層采用硅靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氬氣:氮氣=33.3°/。。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)對比的有益效果是-本發(fā)明選用特定的靶材、氣氛及組合替代金靶材制作金色低輻射鍍膜玻璃，具有性能優(yōu)良、色彩鮮艷且容易調(diào)節(jié)、質(zhì)量穩(wěn)定、制作效率高、成本低、易于推廣的特點，而且，能通過改變各膜層的厚度獲得不同透過率、透過色、反射率、反射色及遮陽系數(shù)、輻射率的多品種的金色低輻射鍍膜玻璃，以適應市場的不同需求。具體實施方式下面結(jié)合具體實施方式對本發(fā)明作進一步的說明。具體實施方式一一種復合膜層為五層的金色低輻射鍍膜玻璃采用美國BOC公司出品的真空磁控濺射鍍膜機，其靶材輸出功率為0kw120kw。工藝參數(shù)如表l。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>表l中a層是氧化鈦(Ti02)介質(zhì)膜層，b層、c層、d層分別是銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層，e層是氮化硅(Si3N4)保護膜層。所得制品的性能參數(shù)如下玻璃可見光的透過率=25%;可見光的玻面反射率=45%;可見光的玻面色坐標3*=11;色坐標^=36;可見光的膜面反射率=55%;可見光的膜面色坐標3*=-1;色坐標1)*=42;玻璃輻射率=0.06。制成結(jié)構(gòu)為6金色Low-e+12Air+6Glass中空玻璃窗的傳熱系數(shù)U=1.70W/m2，K，遮陽系數(shù)Sc-0.24，在陽光下觀看，鍍復合膜層的玻璃面顏色為金色。具體實施方式二一種復合膜層為四層的金色低輻射鍍膜玻璃采用設(shè)備同具體實施方式一。工藝參數(shù)如表2。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>表2中b層、c層、d層分別是銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層，e層是氮化硅(Si3N4)保護膜層。所得制品的性能參數(shù)如下玻璃可見光的透過率=34%;可見光的玻面反射率=44%;可見光的玻面色坐標&*=8;色坐標]3*=39;可見光的膜面反射率=51%;可見光的膜面色坐標&*=-0.5;色坐標1)*=41;玻璃輻射率=0.08。制成結(jié)構(gòu)為6金色Low-e+12Air+6Glass中空玻璃窗的傳熱系數(shù)U=1.73W/m2，K，遮陽系數(shù)Sc二0.25，在陽光下觀看，鍍復合膜層的玻璃面顏色為金色。具體實施方式三另一種復合膜層為五層的金色低輻射鍍膜玻璃采用設(shè)備同具體實施方式一。工藝參數(shù)如表3。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table>表3中a層是氧化鈦(Ti02)介質(zhì)膜層，b層、c層、d層分別是銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層，e層是氮化硅(Si3N4)保護膜層。所得制品的性能參數(shù)如下玻璃可見光的透過率=26%;可見光的玻面反射率=48%;可見光的玻面色坐標3*=9.5;色坐標13*=39;可見光的膜面反射率=55°/。；可見光的膜面色坐標3*=1.5;色坐標13*=39;玻璃輻射率=0.04。制成結(jié)構(gòu)為6金色Low-e+12Air+6Glass中空玻璃窗的傳熱系數(shù)U=1.69W/m2*K，遮陽系數(shù)Sc=0.24，在陽光下觀看，鍍復合膜層的玻璃面顏色為金色。以上內(nèi)容是結(jié)合具體的優(yōu)選實施方式對本發(fā)明所作的進一步詳細說明，不能認定本發(fā)明的具體實施只局限于這些說明。對于本發(fā)明所屬
技術(shù)領(lǐng)域：
的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本發(fā)明的保護范圍。權(quán)利要求1.一種金色低輻射鍍膜玻璃，以玻璃為基片，所述玻璃單表面鍍覆有復合膜層，所述復合膜層的最外層為一保護膜層，其特征在于所述復合膜層包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銅膜層，一層是銀膜層，緊貼保護膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層。2.如權(quán)利要求1所述的金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述金屬膜層厚度為0.1nm100nm，即為納米級膜層。3.如權(quán)利要求1或2所述的金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于在所述玻璃單表面與最下面的金屬膜層之間還設(shè)有一介質(zhì)膜層，所述介質(zhì)膜層包括鈦氧化物膜層、錫氧化物膜層、鋅氧化物膜層、鋅錫氧化物膜層、硅氧化物膜層、硅氮化物膜層。4.如權(quán)利要求3所述的金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述保護膜層包括鈦氧化物膜層、錫氧化物膜層、鋅氧化物膜層、鋅錫氧化物膜層、硅氧化物膜層、硅氮化物膜層。5.如權(quán)利要求4所述的金色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于所述復合膜層自下而上是氧化鈦介質(zhì)膜層、銅膜層、銀膜層、鎳鉻膜層、氮化硅保護膜層。6.—種金色低輻射鍍膜玻璃制作方法，依次有以下步驟(1)清洗，對基片玻璃清洗；(2)干燥，將清洗后的所述玻璃干燥；(3)鍍覆，在干燥后的所述玻璃單表面鍍覆復合膜層，其特征在于所述步驟(3)的鍍覆是真空磁控濺射鍍覆，將干燥后的所述玻璃置入真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶材室自下而上逐層鍍覆復合膜層最外層為一保護膜層，還包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銅膜層，一層是銀膜層，緊貼保護膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層，有的還包括在所述平板玻璃單表面與最下面的金屬膜層之間設(shè)有的一介質(zhì)膜層；所述耙材室的耙材包括氧化鈦陶瓷耙、鈦耙、銀靶、銅耙、錫耙、鋅錫靶、鎳鉻靶、硅鋁靶；所述金屬膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，為純惰性氣體，包括純氬氣、純氮氣。7.如權(quán)利要求6所述的金色低輻射鍍膜玻璃制作方法，其特征在于所述氧化鈦陶瓷靶為TiOx，純度為99.50%~99.99%;所述鈦靶、銀靶、銅靶、錫靶的鈦、銀、銅、錫的純度均為99.900%~99.999%;所述的鎳絡(luò)靶為格鎳重量比為20%30%的鎳鉻合金靶，鎳、鉻純度均為99.900%99.999%;所述鋅錫靶為鋅錫重量比為20%60%的鋅錫靶，鋅、錫的純度均為99.900%~99.999%;所述硅鋁靶為硅鋁重量比為10%20%的硅鋁靶，硅、鋁的純度'均為99.卯0%~99.999%。8.如權(quán)利要求6或7所述的金色低輻射鍍膜玻璃制作方法，其特征在于所述耙材室的靶型包括旋轉(zhuǎn)靶、平面靶。9.如權(quán)利要求8所述的金色低輻射鍍膜玻璃制作方法，其特征在于所述介質(zhì)膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，包括氧氬比為1%100%的氧氣和氬氣混合氣體、氬氮比為0%~80%的氬氣和氮氣混合氣體；所述保護膜層的鍍制氣氛構(gòu)成，包括氧氬比為0%~80%的氧氣和氬氣混合氣體、氬氮比為0%~80%的氬氣和氮氣混合氣體。10.如權(quán)利要求9所述的金色低輻射鍍膜玻璃制作方法，其特征在于所述步驟(3)的鍍覆是逐層鍍覆氧化鈦介質(zhì)膜層、銅膜層、銀膜層、'鎳鉻膜層、氮化硅保護膜層，鍍覆氧化鈦介質(zhì)膜層采用鈦靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氧氣:氬氣=10.0%，或采用氧化鈦陶瓷靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氧氣:氬氣=8.0%;鍍覆銅膜層采用銅靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍覆銀膜層采用銀靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍覆鎳鉻膜層采用鎳鉻靶，鍍制氣氛構(gòu)成為純氬氣；鍍制氮化硅保護膜層采用硅靶，鍍制氣氛構(gòu)成為氬氣:氮氣=33.3%。全文摘要一種金色低輻射鍍膜玻璃，玻璃單表面鍍覆有復合膜層，復合膜層的最外層為一保護膜層，復合膜層包括三層金屬膜層，其中一層金屬膜層是銅膜層，一層是銀膜層，緊貼保護膜層下面的一層金屬膜層是鎳鉻合金膜層或鈦膜層。其制作方法包括清洗、干燥和鍍覆，鍍覆是真空磁控濺射鍍覆，將干燥后的玻璃置入真空磁控濺射鍍膜設(shè)備的靶材室逐層鍍覆復合膜層。本發(fā)明選用特定的靶材、氣氛及組合替代金靶材制作金色低輻射鍍膜玻璃，具有性能優(yōu)良、色彩鮮艷且容易調(diào)節(jié)、質(zhì)量穩(wěn)定、制作效率高、成本低、易于推廣的特點，并能通過改變各膜層的厚度獲得不同透過率、透過色、反射率、反射色及遮陽系數(shù)、輻射率的多品種金色低輻射鍍膜玻璃，以適應市場不同需求。文檔編號C03C17/36GK101244898SQ20081006565公開日2008年8月20日申請日期2008年1月25日優(yōu)先權(quán)日2008年1月25日發(fā)明者崔平生,志楊申請人:東莞南玻工程玻璃有限公司