一種帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及陶瓷磚制造領(lǐng)域，具體涉及一種帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]目前帶金屬光澤度拋晶磚(俗稱“K金磚”)是在磚坯表面印花后將微晶玻璃復(fù)合在印花層上的陶瓷磚，在坯體與微晶玻璃層之間設(shè)置圖案，高溫?zé)?，再?jīng)鍍膜后，拋光打臘完成產(chǎn)品。這種方法較為繁瑣，且制作成本高。還有一種制造帶金屬光澤的陶瓷磚的技術(shù)，不需要布置微晶玻璃，但需要利用模具使底坯層上需要保留金屬光澤層的部位形成凹陷區(qū)，在整體鍍上金屬光澤層后通過拋光去除平面區(qū)域的金屬光澤層，僅保留凹陷區(qū)內(nèi)的金屬光澤層。這種方法相對更加簡單，但仍然需要進(jìn)行拋光的步驟，成本不低，且瓷片的表面必須帶有凹陷區(qū)，限制了瓷片的設(shè)計(jì)空間。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明旨在提供一種帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法，在不影響裝飾效果的前提下，可省去拋光和打蠟的步驟，且不再局限于只能在凹陷區(qū)內(nèi)設(shè)置金屬光澤層，實(shí)現(xiàn)在平面區(qū)域也可設(shè)置金屬光澤層，從而實(shí)現(xiàn)了簡化步驟和節(jié)省成本，也拓寬了內(nèi)墻瓷片的設(shè)計(jì)空間。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用如下步驟:
[0005]一種帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法，包括如下步驟:
[0006]SI采用模具將陶瓷粉料制作成一定形狀的磚坯，并燒制成素坯；
[0007]S2將步驟SI中得到的素坯作為底坯層，在底坯層上依次形成底釉層、面釉層以及印花裝飾層；
[0008]S3進(jìn)行釉燒；
[0009]其特征在于:還包括如下步驟:
[0010]S4在經(jīng)過釉燒的半成品的印花裝飾層上，根據(jù)設(shè)計(jì)，使用絲網(wǎng)在不需要保留金屬光澤層的部位印刷隔離層，然后進(jìn)入烘箱進(jìn)行烤干；
[0011]S5完成烤干后，采用真空離子鍍膜機(jī)鍍上金屬光澤層；
[0012]S6將不需要保留金屬光澤層的部位上的隔離層連同其上的金屬光澤層用水一并清除;
[0013]S7烘干磨邊后包裝入庫。
[0014]需要說明的是，步驟SI中，所述底坯層表面可為全平面結(jié)構(gòu)，也可為帶有凹陷區(qū)的結(jié)構(gòu)。在現(xiàn)有技術(shù)中，要求在底坯層上需要保留金屬光澤層的部位設(shè)置凹陷區(qū)并在凹陷區(qū)內(nèi)設(shè)置金屬光澤層，以避免在拋光的過程中金屬光澤層被磨損消失。而在本發(fā)明中，不再要求底坯層必須設(shè)有凹陷區(qū)，而是無論是凹陷區(qū)還是平面區(qū)域，都可以設(shè)置金屬光澤層，不僅簡化了制作步驟，而且使得內(nèi)墻瓷片的設(shè)計(jì)空間更加寬廣，約束條件更少。
[0015]進(jìn)一步需要說明的是，所述凹陷區(qū)的深度不超過3_。
[0016]需要說明的是，步驟S2中的印花裝飾層為絲網(wǎng)印花、輥筒印花、噴墨印花中的一種或多種。
[0017]需要說明的是，步驟S4中，所述隔離層采用對釉面具有粘附力、能阻斷金屬光澤層與釉面接觸且能用水清除的材料。
[0018]進(jìn)一步需要說明的是，所述隔離層由2.17%乙二醇溶解0.54%甲基后加入過200目篩的97.29%泥漿均勻攪拌而成。
[0019]本發(fā)明的有益效果在于:通過先在不需要保留金屬光澤層的部位設(shè)置對釉面有粘附力、能有效阻斷釉面和金屬光澤層接觸且能用水清除的隔離層，然后在整體鍍上金屬光澤層后，用水清除出不需要保留金屬光澤層的部位的金屬光澤層以及隔離層，實(shí)現(xiàn)無需設(shè)置凹陷區(qū)、也無需進(jìn)行拋光和打蠟就能夠在事先設(shè)計(jì)好的凹陷或平面部位添加金屬光澤層，簡化了制作步驟的同時(shí)也節(jié)省了制作成本。
【附圖說明】
[0020]圖1為本發(fā)明的實(shí)施流程圖；
[0021]圖2為利用圖1中方法制造的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]以下將結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步的描述，需要說明的是，本實(shí)施例以本技術(shù)方案為前提，給出了詳細(xì)的實(shí)施方式和具體的操作過程，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不限于本實(shí)施例。
[0023]如圖1、圖2所示，一種帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法，包括如下步驟:
[0024]SI采用模具將陶瓷粉料擠壓成一定形狀的磚坯，并燒制成素坯。在本實(shí)施例中，內(nèi)墻瓷片規(guī)格為300 X 600mm，其磚坯原料為現(xiàn)有技術(shù)公知的以高嶺土、粘土、沙等為主要原料、輔以鎂質(zhì)土等其它輔助原料組成的陶瓷粉料。
[0025]模具可根據(jù)內(nèi)墻瓷片設(shè)計(jì)需要要求模具提供廠家定制，瓷片可為全平面結(jié)構(gòu)，也可為帶有凹陷區(qū)的結(jié)構(gòu)，設(shè)置凹陷區(qū)時(shí)，其深度不超過3mm。在本實(shí)施例中，采用帶有凹陷區(qū)5的結(jié)構(gòu)，并設(shè)計(jì)在凹陷區(qū)5內(nèi)和平面部分的特定區(qū)域均設(shè)置金屬光澤層6。
[0026]S2將步驟SI中得到的素坯作為底坯層1，在底坯層I上通過鐘罩依次淋上底釉層2、面釉層3，然后用絲網(wǎng)印花或通過噴墨打印印花形成印花裝飾層4。
[0027]S3進(jìn)行釉燒:在氧化氣氛下，在輥道窯中以850?1150°C進(jìn)行燒成，燒成周期為45分鐘。
[0028]S4在經(jīng)過釉燒的半成品表面，根據(jù)設(shè)計(jì)，使用絲網(wǎng)在不需要保留金屬光澤層6的部位印刷隔離層，然后進(jìn)入烘箱進(jìn)行烤干。
[0029]隔離層采用對釉面具有粘附力，能有效阻斷金屬光澤層和釉面結(jié)合且能用水清除的材料。具體可采用乙二醇(占比2.17% )將甲基(占比0.54% )溶解后加入生產(chǎn)線現(xiàn)有過200目篩的泥漿(占比97.29% )，攪拌均勻而成。
[0030]所述隔離層的作用在于保證不需要保留金屬光澤層的部位在后續(xù)鍍上金屬光澤層時(shí)金屬光澤層不會與這些部位的釉面結(jié)合，這樣在最后用水清除隔離層的同時(shí)也能一并把這些部位的金屬光澤層清除而不損傷釉面，實(shí)現(xiàn)即使在平面上也能設(shè)置金屬光澤層。由于隔離層用水就能直接清洗，因此能輕易從釉面上脫離，不會損傷釉面，工序較為簡單的同時(shí)成本較低。
[0031]S5完成烤干后，采用真空離子鍍膜機(jī)鍍上金屬光澤層。所述金屬光澤層中含有金屬細(xì)粉，因此具有金屬光澤，不同的金屬組分會呈現(xiàn)不同顏色。
[0032]S6將不需要保留金屬光澤的部位上的金屬光澤層連同隔離層用水和毛刷一并清除。
[0033]S7烘干磨邊后包裝入庫。
[0034]燒制后的本實(shí)施例的內(nèi)墻瓷片底還層I厚度為9mm，底釉層2厚度為0.25mm，面釉層3厚度0.3mm，印花裝飾層4厚度為0.1mm,金屬光澤層6厚度為0.05mm。
[0035]對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，可以根據(jù)以上的技術(shù)方案和構(gòu)思，作出各種相應(yīng)的改變和變形，而所有的這些改變和變形都應(yīng)該包括在本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法，包括如下步驟: Si采用模具將陶瓷粉料制作成一定形狀的磚坯，并燒制成素坯； S2將步驟SI中得到的素坯作為底坯層，在底坯層上依次形成底釉層、面釉層以及印花裝飾層; S3進(jìn)行釉燒； 其特征在于:還包括如下步驟: S4在經(jīng)過釉燒的半成品的印花裝飾層上，根據(jù)設(shè)計(jì)，使用絲網(wǎng)在不需要保留金屬光澤層的部位印刷隔離層，然后進(jìn)入烘箱進(jìn)行烤干； S5完成烤干后，采用真空離子鍍膜機(jī)鍍上金屬光澤層； S6將不需要保留金屬光澤層的部位上的隔離層連同其上的金屬光澤層用水一并清除； S7烘干磨邊后包裝入庫。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法，其特征在于:步驟SI中，所述底坯層表面可為全平面結(jié)構(gòu)，也可為帶有凹陷區(qū)的結(jié)構(gòu)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法，其特征在于:所述凹陷區(qū)的深度不超過3_。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法，其特征在于，步驟S2中的印花裝飾層為絲網(wǎng)印花、輥筒印花、噴墨印花中的一種或多種。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法，其特征在于，步驟S4中，所述隔離層采用對釉面具有粘附力、能阻斷金屬光澤層與釉面接觸且能用水清除的材料。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法，其特征在于，所述隔離層由2.17%乙二醇溶解0.54%甲基后加入過200目篩的97.29%泥漿均勻攪拌而成。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種帶金屬光澤層內(nèi)墻瓷片的制造方法，在鍍上金屬光澤層前，先在不需要保留金屬光澤層的部位設(shè)置一層對釉面有粘附力、能有效阻斷金屬光澤層與釉面結(jié)合且能用水清除的隔離層，在整體鍍上金屬光澤層后不需要經(jīng)過拋光打蠟等步驟，只需要用水將不需要保留金屬光澤層的部位的隔離層連同金屬光澤層一并清除即可，在該方法下，無論凹陷區(qū)還是平面，都能設(shè)置金屬光澤層，且能節(jié)省拋光成本，簡化制作步驟。
【IPC分類】C04B41/90
【公開號】CN105218171
【申請?zhí)枴緾N201510607530
【發(fā)明人】王培青
【申請人】浙江根根陶瓷有限公司
【公開日】2016年1月6日
【申請日】2015年9月22日