本實用新型涉及溢流裝置，尤其涉及玻璃成型的溢流裝置。

背景技術(shù)：

溢流下拉法是目前玻璃成型的主要方法之一，溢流裝置是該成型方法的核心設(shè)備。傳統(tǒng)的溢流下拉法采用雙邊溢流磚作為溢流裝置，雙邊溢流磚的上部開設(shè)有溢流槽，下部楔形收斂，流進(jìn)雙邊溢流磚的玻璃熔液蓄滿溢流槽后從雙邊溢流磚的兩側(cè)向下溢出，兩側(cè)溢出的玻璃熔液形成兩片玻璃平板，經(jīng)過外部加熱設(shè)備的溫度控制后，兩片玻璃平板在雙邊溢流磚的下方結(jié)合成單片玻璃平板。但是傳統(tǒng)的雙邊溢流磚需要對兩側(cè)溢流出的玻璃平板同時進(jìn)行溫度控制，溫度場的控制要求極高的準(zhǔn)確度，控制難度很大，導(dǎo)致成品率不高。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

有鑒于此，有必要提供一種改進(jìn)的溢流裝置，其更易控制，成品率更高。

本實用新型提供一種溢流裝置，包括溢流磚，所述溢流磚包括基體和設(shè)置于所述基體兩側(cè)的側(cè)板，所述基體開設(shè)溢流槽，所述基體與所述側(cè)板圍成一容置空間，所述溢流槽位于所述容置空間的底部，所述基體包括分別形成在所述溢流槽兩側(cè)的高側(cè)堰和低側(cè)堰，所述低側(cè)堰用于溢流。

進(jìn)一步地，所述溢流槽包括兩端，分別為第一端和與所述第一端相對的第二端，所述溢流槽的第一端的深度大于第二端的深度，所述溢流槽兩端的坡度為0°至10°。

進(jìn)一步地，所述高側(cè)堰的高度大于所述低側(cè)堰的高度，且高度差范圍為15mm-25mm。

進(jìn)一步地，所述高側(cè)堰的厚度為所述低側(cè)堰厚度的1.5倍。

進(jìn)一步地，所述低側(cè)堰的上端面朝向所述溢流槽的內(nèi)部傾斜，且傾斜的角度為0°至10°。

進(jìn)一步地，所述低側(cè)堰沿所述溢流槽的第一端到第二端的方向傾斜，且傾斜角度為0°至10°。

進(jìn)一步地，所述側(cè)板的上端面與所述高側(cè)堰的上端面齊平，所述側(cè)板的上端面及所述高側(cè)堰的上端面與水平面的夾角為0°至10°。

進(jìn)一步地，所述兩個側(cè)板中，靠近所述溢流槽的第一端的側(cè)板開設(shè)進(jìn)料口，所述進(jìn)料口與所述容置空間連通。

進(jìn)一步地，所述進(jìn)料口位于所述溢流槽的槽深的1/2處。

進(jìn)一步地，所述進(jìn)料口位于所述溢流槽的槽深的1/3處。

本實用新型提供的溢流裝置，將雙邊溢流的成型方法改為單邊溢流的成型方法，更易于對玻璃熔液進(jìn)行精確的溫度控制，提高了玻璃平板的厚薄均勻度，降低了玻璃平板的翹曲程度，提高了成品率；同時本方明的溢流裝置，優(yōu)化了所述溢流槽兩端的坡度和所述低側(cè)堰的上端面朝向所述溢流槽內(nèi)部傾斜的角度，使溢流成型速度較雙邊溢流磚的成型速度提高15％以上，提高了生產(chǎn)效率。

附圖說明

圖1為本實用新型一實施例中的溢流裝置的立體示意圖。

圖2為圖1所示的溢流裝置的使用狀態(tài)的立體示意圖。

圖3為圖1所示的溢流裝置的另一使用狀態(tài)的立體示意圖。

主要元件符號說明

如下具體實施方式將結(jié)合上述附圖進(jìn)一步說明本實用新型。

具體實施方式

下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例是僅僅本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。

需要說明的是，當(dāng)組件被稱為“固定于”另一個組件，它可以直接在另一個組件上或者也可以存在居中的組件。當(dāng)一個組件被認(rèn)為是“連接”另一個組件，它可以是直接連接到另一個組件或者可能同時存在居中組件。當(dāng)一個組件被認(rèn)為是“設(shè)置于”另一個組件，它可以是直接設(shè)置在另一個組件上或者可能同時存在居中組件。

除非另有定義，本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于本實用新型的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在本實用新型的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實施例的目的，不是旨在于限制本實用新型。本文所使用的術(shù)語“或/及”包括一個或多個相關(guān)的所列項目的任意的和所有的組合。

請參閱圖1，本實用新型一實施方式中的溢流裝置100，包括溢流磚10和用于拉伸玻璃熔液的牽引晶體20。

請一并參閱圖2，圖2為圖1所示的所述溢流裝置100的使用狀態(tài)的立體示意圖。所述溢流磚10包括基體11。所述基體11的上端(未標(biāo)號)沿所述基體11的長度方向開設(shè)溢流槽12。本實施方式中，所述溢流槽12的底壁為半圓弧形。所述溢流槽12包括兩端，分別為第一端121和與所述第一端121相對的第二端122，所述溢流槽的第一端121的深度大于第二端122的深度，所述溢流槽兩端的坡度為0°至10°。所述溢流槽12的一側(cè)向背離所述溢流槽12底壁的方向延伸形成高側(cè)堰13，為便于表述，本實用新型將所述溢流槽12另一側(cè)的端壁稱為低側(cè)堰14。

所述高側(cè)堰13上裝設(shè)有加熱裝置131，所述加熱裝置131用于對溢流槽12中的玻璃熔液保溫。本實施方式中，所述加熱裝置131的安裝位置靠近所述溢流槽12。所述高側(cè)堰13的高度大于所述低側(cè)堰14的高度，本實施方式中，兩者高度差范圍為15mm-25mm。本實施方式中，所述高側(cè)堰13的厚度為所述低側(cè)堰14厚度的1.5倍。所述低側(cè)堰14包括上端面141，所述上端面141朝向所述溢流槽12的內(nèi)部傾斜，本實施方式中，傾斜的角度為0°至10°。所述低側(cè)堰14沿所述溢流槽12的第一端121到第二端122的方向傾斜，且傾斜角度為0°至10°。

所述溢流磚10還包括分別設(shè)置于所述基體11兩端的兩個側(cè)板15。本實施方式中，所述側(cè)板15大致呈三棱柱形，所述側(cè)板15朝向下方的棱角的角度和所述基體11的下部的角度一致，以使所述側(cè)板15與所述基體11配合。所述兩個側(cè)板15分別封蓋于所述基體11的兩側(cè)，與所述高側(cè)堰13及低側(cè)堰14之間圍成一容置空間16。所述容置空間16用于容置玻璃熔液。所述溢流槽12位于所述容置空間16的底部。所述兩個側(cè)板15的上端面與所述高側(cè)堰13的上端面齊平，所述兩個側(cè)板15的上端面及所述高側(cè)堰13的上端面與水平面的夾角為0°至10°。

所述兩個側(cè)板15中，靠近所述溢流槽12的第一端121的側(cè)板15開設(shè)進(jìn)料口17，所述進(jìn)料口17與所述容置空間16連通。本實施方式中，所述進(jìn)料口17位于所述溢流槽12的槽深的1/2或1/3處。所述進(jìn)料口17一端連接一供料機(jī)(圖未示)，該供料機(jī)用于將玻璃熔液注入所述溢流裝置100。

所述牽引晶體20設(shè)置于所述基體11的下方，所述牽引晶體20用于牽引玻璃熔液向玻璃熔液自身的重力方向移動以形成平板玻璃。

可以理解，所述溢流槽12的槽的形狀，不限于本實施方式中的半圓弧形，還可以是方形、橢圓形、半圓形。

可以理解，所述進(jìn)料口17的形狀，不限于本實施方式中的圓形，還可以是方形、橢圓形、半圓形。

可以理解，所述溢流磚10可由所述基體11、所述高側(cè)堰13、所述低側(cè)堰14及所述側(cè)板15組合而成，也可一體成型。

圖2所示的所述溢流裝置100的使用狀態(tài)為所述溢流磚10溢流玻璃熔液時，玻璃熔液在所述低側(cè)堰14的上端面141與所述基體11分離的使用狀態(tài)。

請一并參閱圖3，圖3為所述溢流裝置100的另一使用狀態(tài)的立體示意圖。該使用狀態(tài)為所述溢流裝置100朝向所述低側(cè)堰14的方向傾斜一角度后，玻璃熔液緊貼所述低側(cè)堰14的上端面141流至所述基體11的底部，再與所述基體11分離的使用狀態(tài)。

所述溢流裝置100成型玻璃平板時，玻璃熔液從所述進(jìn)料口17處流入所述溢流槽12，玻璃熔液蓄滿所述溢流槽12后從所述低側(cè)堰14的上端面141溢流，溢流的玻璃熔液在所述牽引晶體20的牽引下向玻璃熔液自身的重力方向移動，玻璃經(jīng)過精確的溫度控制后，成型為玻璃平板。

本實用新型提供的溢流裝置，將雙邊溢流的成型方法改為單邊溢流的成型方法，更易于對玻璃熔液進(jìn)行精確的溫度控制，提高了玻璃平板的厚薄均勻度，降低了玻璃平板的翹曲程度，提高了成品率；同時本方明的溢流裝置，優(yōu)化了所述溢流槽12兩端的坡度和所述低側(cè)堰14的上端面141朝向所述溢流槽12內(nèi)部傾斜的角度，使溢流成型速度較雙邊溢流磚的成型速度提高15％以上，提高了生產(chǎn)效率。

本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到，以上的實施方式僅是用來說明本實用新型，而并非用作為對本實用新型的限定，只要在本實用新型的實質(zhì)精神范圍的內(nèi)，對以上實施方式所作的適當(dāng)改變和變化都落在本實用新型要求保護(hù)的范圍的內(nèi)。