技術特征：

1.一種用于形成透明膜的濺射靶，其特征在于，

由具有如下成分組成的氧化物燒結體構成，即相對于總金屬成分量含有Al：0.3～4.0wt％、Si：6.0～14.5wt％，剩余部分由Zn及不可避免的雜質組成，

該燒結體的組織中存在復合氧化物Zn₂SiO₄與ZnO，

所述燒結體的密度以理論密度比計為100～108％，

體電阻值為1Ω·cm以下。

2.一種用于形成透明膜的濺射靶的制造方法，其特征在于，其為制作權利要求1所述的用于形成透明膜的濺射靶的方法，具有如下工序：

將Al₂O₃粉末、SiO₂粉末及ZnO粉末混合成Al₂O₃：0.5～5.0wt％、SiO₂：10～22wt％、剩余部分：由ZnO及不可避免的雜質組成，以此來作為混合粉末；及將所述混合粉末在真空中以熱壓進行燒結。