技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開(kāi)了一種爐管的進(jìn)氣裝置，包括：進(jìn)氣口，設(shè)于爐管工藝腔的側(cè)壁下端，其連通外部反應(yīng)氣體管路；進(jìn)氣管，設(shè)于工藝腔內(nèi)，其一端連接進(jìn)氣口，另一端封閉，進(jìn)氣管自下而上環(huán)繞工藝腔內(nèi)的晶舟設(shè)置；多個(gè)噴嘴，沿進(jìn)氣管長(zhǎng)度方向并面向晶舟均勻設(shè)置；工藝時(shí)，通過(guò)由進(jìn)氣口向進(jìn)氣管中通入反應(yīng)氣體，并由各噴嘴向晶舟噴射，使晶舟中的每層硅片都均勻接觸到反應(yīng)氣體，同時(shí)，保持晶舟處于靜止不動(dòng)狀態(tài)，以在保證產(chǎn)品厚度均勻性的同時(shí)，避免因晶舟旋轉(zhuǎn)而帶來(lái)顆粒污染。

技術(shù)研發(fā)人員：祁鵬;王智;蘇俊銘
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海華力微電子有限公司
文檔號(hào)碼：201610770371
技術(shù)研發(fā)日：2016.08.30
技術(shù)公布日：2016.12.07