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一種超薄黑硅硅片的制作設(shè)備及方法與流程

文檔序號(hào):12744185閱讀:來源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種超薄黑硅硅片的制作設(shè)備及方法,把硅顆粒放入石墨坩堝中,使用電加熱使得硅顆粒熔融,一個(gè)石英生長(zhǎng)平臺(tái)水臺(tái)略低于石墨坩堝,兩根碳化硅絲線(間距156mm)由伺服電機(jī)水平拉動(dòng),在石英平臺(tái)上方有一個(gè)降溫罩,降溫罩通過高速冷空氣給硅液降溫,在熱毛細(xì)作用下,硅片將持續(xù)的生長(zhǎng),形成超薄的多晶硅片,生長(zhǎng)至所需長(zhǎng)度之后激光切割硅片,切割下的硅片進(jìn)入空間堆式的PECVD設(shè)備進(jìn)行RIE制絨,形成超薄的多晶黑硅硅片。

技術(shù)研發(fā)人員:丁建寧;袁寧一;王書博
受保護(hù)的技術(shù)使用者:常州大學(xué)
文檔號(hào)碼:201610721051
技術(shù)研發(fā)日:2016.08.25
技術(shù)公布日:2017.01.25

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