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氫化爐主密封墊冷卻結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號(hào):3442486閱讀:305來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:氫化爐主密封墊冷卻結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種氫化爐,具體涉及一種多晶硅行業(yè)大型氫化爐主密封墊冷卻 結(jié)構(gòu)。用于對(duì)四氯化硅的綜合回收利用。
背景技術(shù)
多晶硅生產(chǎn)中,會(huì)產(chǎn)生大量的副產(chǎn)品四氯化硅,而四氯化硅引發(fā)的環(huán)保壓力,已成 為嚴(yán)重的社會(huì)問(wèn)題。目前多晶硅行業(yè)大型氫化爐,設(shè)備主密封墊沒(méi)有進(jìn)行有效的冷卻,也就無(wú)法保證 設(shè)備的密封性能和主密封墊的使用壽命。

發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服氫化爐主密封墊冷卻結(jié)構(gòu)的不足,提供一種對(duì)主密封 墊進(jìn)行充分冷卻的氫化爐主密封墊冷卻結(jié)構(gòu)。本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的一種氫化爐主密封墊冷卻結(jié)構(gòu),包括底盤(pán)法蘭、 底盤(pán)上面板、底盤(pán)下面板和主密封墊,底盤(pán)上面板和底盤(pán)下面板分別與底盤(pán)法蘭的上、下表 面相焊接,底盤(pán)上面板上開(kāi)有一槽,主密封墊置于該槽內(nèi),在所述底盤(pán)法蘭的上表面開(kāi)設(shè)有 一冷卻水槽,該冷卻水槽置于主密封墊正下方;在底盤(pán)法蘭外側(cè)面自外至內(nèi)開(kāi)設(shè)有一冷卻 水進(jìn)口通道和一冷卻水出口通道,冷卻水進(jìn)口通道和冷卻水出口通道均與所述冷卻水槽相 連通,且冷卻水進(jìn)口通道高于冷卻水出口通道,同時(shí)在冷卻水進(jìn)口通道與冷卻水出口通道 之間設(shè)置有一擋板。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型通過(guò)在設(shè)備底盤(pán)法蘭上設(shè)置冷卻水槽,且冷卻水槽位于主密封墊正下 方,同時(shí)在底盤(pán)法蘭的側(cè)面合適位置開(kāi)設(shè)冷卻水進(jìn)口通道和冷卻水出口通道,冷卻水由冷 卻水進(jìn)口通道進(jìn)口通入冷卻水槽內(nèi),通過(guò)冷卻水出口通道流出。并在冷卻水進(jìn)口通道與冷 卻水出口通道之間設(shè)置一設(shè)置防冷卻水短路的擋板,保證冷卻水的順暢流動(dòng)。從而對(duì)主密 封墊進(jìn)行充分的冷卻,保證設(shè)備的密封性能和主密封墊的使用壽命。

圖1為本實(shí)用新型氫化爐主密封墊冷卻結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖2為圖1的A-A剖示圖。圖中附圖標(biāo)記主密封墊1、冷卻水槽2、底盤(pán)上面板3、底盤(pán)下面板4、底盤(pán)法蘭5、冷卻水進(jìn)口通道 6、冷卻水出口通道7、擋板8。
具體實(shí)施方式
參見(jiàn)圖1 2,圖1為本實(shí)用新型氫化爐主密封墊冷卻結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖2為圖1的A-A剖示圖。由圖1和圖2可以看出,本實(shí)用新型氫化爐主密封墊冷卻結(jié)構(gòu),包括底盤(pán)法 蘭5、底盤(pán)上面板3、底盤(pán)下面板4和主密封墊1,底盤(pán)上面板3和底盤(pán)下面板4分別與底盤(pán) 法蘭5的上、下表面相焊接,底盤(pán)上面板3上開(kāi)有一槽,主密封墊1置于該槽內(nèi);在底盤(pán)法蘭 5的上表面開(kāi)設(shè)有一冷卻水槽2,該冷卻水槽2置于主密封墊1正下方;在底盤(pán)法蘭5外側(cè) 面自外至內(nèi)開(kāi)設(shè)有一冷卻水進(jìn)口通道6和一冷卻水出口通道7,冷卻水進(jìn)口通道6和冷卻水 出口通道7均與所述冷卻水槽2相連通,且冷卻水進(jìn)口通道6高于冷卻水出口通道7,同時(shí) 在冷卻水進(jìn)口通道6與冷卻水出口通道7之間設(shè)置一擋板8。
權(quán)利要求1. 一種氫化爐主密封墊冷卻結(jié)構(gòu),包括底盤(pán)法蘭(5)、底盤(pán)上面板(3)、底盤(pán)下面板(4) 和主密封墊(1),底盤(pán)上面板C3)和底盤(pán)下面板(4)分別與底盤(pán)法蘭(5)的上、下表面相焊 接,底盤(pán)上面板C3)上開(kāi)有一槽,主密封墊(1)置于該槽內(nèi),其特征在于在所述底盤(pán)法蘭 (5)的上表面開(kāi)設(shè)有一冷卻水槽O),該冷卻水槽(2)置于主密封墊(1)正下方;在底盤(pán)法 蘭(5)外側(cè)面自外至內(nèi)開(kāi)設(shè)有一冷卻水進(jìn)口通道(6)和一冷卻水出口通道(7),冷卻水進(jìn)口 通道(6)和冷卻水出口通道(7)均與所述冷卻水槽(2)相連通,且冷卻水進(jìn)口通道(6)高 于冷卻水出口通道(7),同時(shí)在冷卻水進(jìn)口通道(6)與冷卻水出口通道(7)之間設(shè)置有一擋 板⑶。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種氫化爐主密封墊冷卻結(jié)構(gòu),用于對(duì)四氯化硅的綜合回收利用。所述結(jié)構(gòu),包括底盤(pán)法蘭(5)、底盤(pán)上面板(3)、底盤(pán)下面板(4)和主密封墊(1),底盤(pán)上面板(3)和底盤(pán)下面板(4)分別與底盤(pán)法蘭(5)的上、下表面相焊接,底盤(pán)上面板(3)上開(kāi)有一槽,主密封墊(1)置于該槽內(nèi),在底盤(pán)法蘭(5)的上表面開(kāi)設(shè)有一冷卻水槽(2),該冷卻水槽(2)置于主密封墊(1)正下方;在底盤(pán)法蘭(5)外側(cè)面自外至內(nèi)開(kāi)設(shè)有一冷卻水進(jìn)口通道(6)和一冷卻水出口通道(7),冷卻水進(jìn)口通道(6)和冷卻水出口通道(7)均與所述冷卻水槽(2)相連通,且冷卻水進(jìn)口通道(6)高于冷卻水出口通道(7),同時(shí)在冷卻水進(jìn)口通道(6)與冷卻水出口通道(7)之間設(shè)置有一擋板(8)。本實(shí)用新型能對(duì)主密封墊進(jìn)行充分的冷卻,保證設(shè)備的密封性能和主密封墊的使用壽命。
文檔編號(hào)C01B33/03GK201817288SQ20102054499
公開(kāi)日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2010年9月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月27日
發(fā)明者朱紅剛, 朱長(zhǎng)浩, 潘宇輝 申請(qǐng)人:江蘇雙良鍋爐有限公司
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