一種用于控制平面元件膜厚均勻性的鍍膜工裝的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光學(xué)鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及一種用于控制平面元件膜厚均勻性的鍍膜工裝。
【背景技術(shù)】
[0002]在光學(xué)鍍膜領(lǐng)域，目前應(yīng)用最廣泛的是基于蒸發(fā)原理的蒸鍍技術(shù)。其基本特征在于蒸發(fā)源的類(lèi)點(diǎn)源特性，這導(dǎo)致了在元件上蒸鍍的膜厚空間分布的不均勻性。為解決這一不均勻性，人們利用元件在鍍膜機(jī)內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)的方式實(shí)現(xiàn)元件上各點(diǎn)膜厚分布的均化效果，通常采用的方式包括單純的元件自轉(zhuǎn)，或同時(shí)也圍繞鍍膜機(jī)中軸線(xiàn)進(jìn)行公轉(zhuǎn)。
[0003]采用這樣的方法，通?？梢允蛊矫嬖哪ず窬鶆蛐缘玫揭欢ǖ母纳?，但并不能完全解決問(wèn)題，因此還必須在此基礎(chǔ)上增加膜厚修正擋板才能將膜厚分布調(diào)整至所需范圍內(nèi)，這些擋板的形狀必須經(jīng)過(guò)復(fù)雜的數(shù)學(xué)計(jì)算才能夠得到，且需要多次實(shí)驗(yàn)配合迭代才能夠完成全過(guò)程，費(fèi)時(shí)費(fèi)力。另外，膜厚修正擋板的出現(xiàn)增加了元件鍍膜過(guò)程的復(fù)雜性，元件在不斷進(jìn)出擋板遮擋范圍的過(guò)程中，膜厚分布產(chǎn)生了中高頻粗糙度，降低了成像質(zhì)量。因此，需要發(fā)展合適的元件運(yùn)動(dòng)方式，能夠在不引入膜厚修正擋板的前提下，實(shí)現(xiàn)膜厚均勻性的控制。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有的控制膜厚均勻性的方法需加入膜厚修正擋板的問(wèn)題，而提供一種用于控制平面元件膜厚均勻性的鍍膜工裝。
[0005]本發(fā)明提供一種用于控制平面元件膜厚均勻性的鍍膜工裝，包括:附帶主齒輪的主轉(zhuǎn)動(dòng)軸、附帶行星盤(pán)上齒輪和行星盤(pán)下齒輪的行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸、附帶衛(wèi)星盤(pán)齒輪的衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸、隨衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸自轉(zhuǎn)的元件承載架，其中元件承載架用于承載元件；
[0006]所述的行星盤(pán)上齒輪與主齒輪咬合，行星盤(pán)下齒輪與衛(wèi)星盤(pán)齒輪咬合。
[0007]本發(fā)明的有益效果
[0008]本發(fā)明提供一種用于控制平面元件膜厚均勻性的鍍膜工裝，該工裝通過(guò)采用行星式元件運(yùn)動(dòng)的方式，并且對(duì)各轉(zhuǎn)動(dòng)軸定位于最佳位置，通過(guò)將主轉(zhuǎn)動(dòng)軸與行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸之間的距離、行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸和衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸之間的距離設(shè)置為理論模擬或?qū)嶒?yàn)得到的滿(mǎn)足膜厚均勻性控制要求的最佳距離，在無(wú)膜厚均勻性擋板的情況下，實(shí)現(xiàn)對(duì)膜厚均勻性的控制。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1為本發(fā)明一種用于控制平面元件膜厚均勻性的鍍膜工裝的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2為口徑為300mm平面基片在不同R1 (主轉(zhuǎn)動(dòng)軸與行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸之間的距離)和R2(行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸和衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸之間的距離)時(shí)膜厚不均勻性分布圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]本發(fā)明提供一種用于控制平面元件膜厚均勻性的鍍膜工裝，如圖1所示，包括:附帶主齒輪2的主轉(zhuǎn)動(dòng)軸1、附帶行星盤(pán)上齒輪4-1和行星盤(pán)下齒輪4-2的行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸3、附帶衛(wèi)星盤(pán)齒輪6的衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸5、隨衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸5自轉(zhuǎn)的元件承載架4，其中元件承載架4用于承載元件；所述的行星盤(pán)上齒輪4-1與主齒輪2咬合，行星盤(pán)下齒輪4-1與衛(wèi)星盤(pán)齒輪6咬合。
[0012]本實(shí)施方式所述的將待鍍?cè)胖迷谠休d架4上，鍍膜時(shí)，元件承載架4繞衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸5的軸進(jìn)行衛(wèi)星自轉(zhuǎn)，同時(shí)由于行星盤(pán)上齒輪4-1與主齒輪2、行星盤(pán)下齒輪4-1與衛(wèi)星盤(pán)齒輪6之間的兩兩咬合，待鍍?cè)矔?huì)整體繞行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸3做行星轉(zhuǎn)動(dòng)，并在同時(shí)也繞再上一級(jí)的主轉(zhuǎn)動(dòng)軸1進(jìn)行公轉(zhuǎn)。
[0013]通過(guò)理論模擬或?qū)嶒?yàn)可得到的滿(mǎn)足膜厚均勻性控制要求的最佳距離，將主轉(zhuǎn)動(dòng)軸1與行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸3之間的距離、行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)3和衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸5之間的距離設(shè)置為最佳距離值，即R1和R2，R1和R2的值需根據(jù)實(shí)際鍍膜機(jī)的尺寸具體定義，同時(shí)將主齒輪2與行星盤(pán)上齒輪4-1的齒輪比、以及行星盤(pán)下齒輪4-2與衛(wèi)星盤(pán)齒輪的齒輪比設(shè)為不能除盡的循環(huán)小數(shù)，可在無(wú)膜厚均勻性擋板的情況下，實(shí)現(xiàn)對(duì)膜厚均勻性的控制。
[0014]圖2為口徑為300mm平面基片在不同R1 (主轉(zhuǎn)動(dòng)軸與行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸之間的距離)和R2(行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸和衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸之間的距離)時(shí)膜厚不均勻性分布圖，蒸發(fā)源坐標(biāo)(200, 200)，蒸發(fā)源與基片垂直距離為600mm，假設(shè)基片為平面，口徑為300mm，從圖2可以看出，對(duì)于300mm 口徑的平面基片，主轉(zhuǎn)動(dòng)軸1與行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸3之間的距離、行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸3和衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸5之間的距離設(shè)置最佳距離值分別為320mm和180mm，此時(shí)膜厚不均勻性最小，為1.1%。此時(shí)主齒輪2與行星盤(pán)上齒輪4-1的齒輪比為7.2、行星盤(pán)下齒輪4-2與衛(wèi)星盤(pán)齒輪的齒輪比為4.3。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于控制平面元件膜厚均勻性的鍍膜工裝，其特征在于，包括:附帶主齒輪(2)的主轉(zhuǎn)動(dòng)軸(1)、附帶行星盤(pán)上齒輪(4-1)和行星盤(pán)下齒輪(4-2)的行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸(3)、附帶衛(wèi)星盤(pán)齒輪￠)的衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸(5)、隨衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸(5)自轉(zhuǎn)的元件承載架(4)，其中元件承載架(4)用于承載元件； 所述的行星盤(pán)上齒輪(4-1)與主齒輪(2)咬合，行星盤(pán)下齒輪(4-1)與衛(wèi)星盤(pán)齒輪(6)咬合。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于控制平面元件膜厚均勻性的鍍膜工裝，其特征在于，所述的主齒輪(2)與行星盤(pán)上齒輪(4-1)的齒輪比、行星盤(pán)下齒輪(4-2)與衛(wèi)星盤(pán)齒輪(6)的齒輪比設(shè)為不能除盡的循環(huán)小數(shù)。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種用于控制平面元件膜厚均勻性的鍍膜工裝，屬于光學(xué)鍍膜領(lǐng)域。解決現(xiàn)有的控制膜厚均勻性的方法需加入膜厚修正擋板的問(wèn)題。該鍍膜工裝包括：附帶主齒輪的主轉(zhuǎn)動(dòng)軸、附帶行星盤(pán)上齒輪和行星盤(pán)下齒輪的行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸、附帶衛(wèi)星盤(pán)齒輪的衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸、隨衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸自轉(zhuǎn)的元件承載架，所述的行星盤(pán)上齒輪與主齒輪咬合，行星盤(pán)下齒輪與衛(wèi)星盤(pán)齒輪咬合。該工裝通過(guò)采用行星式運(yùn)動(dòng)的方式，并且對(duì)各轉(zhuǎn)動(dòng)軸定位于最佳位置，通過(guò)將主轉(zhuǎn)動(dòng)軸與行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸之間的距離、行星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸和衛(wèi)星盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)軸之間的距離設(shè)置為理論模擬或?qū)嶒?yàn)得到的滿(mǎn)足膜厚均勻性控制要求的最佳距離，在無(wú)膜厚均勻性擋板的情況下，實(shí)現(xiàn)對(duì)膜厚均勻性的控制。
【IPC分類(lèi)】C23C14/24, C23C14/50
【公開(kāi)號(hào)】CN105420681
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510902154
【發(fā)明人】張立超, 才璽坤, 賀健康, 時(shí)光, 武瀟野, 梅林 , 隋永新, 楊懷江
【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
【公開(kāi)日】2016年3月23日
【申請(qǐng)日】2015年12月9日