一種蒸鍍設(shè)備及蒸鍍生產(chǎn)線的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示裝置的制造技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種蒸鍍設(shè)備及蒸鍍生產(chǎn)線。
【背景技術(shù)】
[0002]OLED (Organic Light-Emitting D1de，有機(jī)發(fā)光二級管，簡稱 0LED)顯示屏由于具有薄、輕、寬視角、主動發(fā)光、發(fā)光顏色連續(xù)可調(diào)、成本低、響應(yīng)速度快、能耗小、驅(qū)動電壓低、工作溫度范圍寬、生產(chǎn)工藝簡單、發(fā)光效率高及可柔性顯示等優(yōu)點(diǎn)，已被列為極具發(fā)展前景的下一代顯示技術(shù)。
[0003]在基板上形成OLED器件通常采用蒸鍍工藝，其是指在一定的真空條件下加熱蒸鍍材料，使蒸鍍材料熔化(或升華)成原子、分子或原子團(tuán)組成的蒸氣，然后凝結(jié)在基板表面成膜，從而形成OLED器件的功能層。
[0004]如圖1a所示，現(xiàn)有的一種蒸鍍設(shè)備包括:機(jī)械手(圖中未示出)，以及分布在機(jī)械手的主軸外側(cè)的一個(gè)蒸鍍腔室2、兩個(gè)基板裝載腔室3和一個(gè)掩模板存放腔室4，其中:位置相對的兩個(gè)基板裝載腔室3，其中一個(gè)作為基板傳入腔室，另一個(gè)作為基板傳出腔室；機(jī)械手用于在基板裝載腔室3和蒸鍍腔室2之間運(yùn)送基板，及在掩模板存放腔室4和蒸鍍腔室2之間運(yùn)送掩模板；蒸鍍腔室2內(nèi)配置有兩個(gè)并排設(shè)置的基板蒸鍍工位21、一個(gè)線蒸鍍源22以及調(diào)整對位設(shè)備(圖中未示出)，兩個(gè)基板蒸鍍工位21的相對的側(cè)邊垂直于線蒸鍍源22的蒸鍍掃描方向；調(diào)整對位設(shè)備用于調(diào)整基板對位基板蒸鍍工位21，及調(diào)整掩模板對位基板。
[0005]圖1b所示為采用現(xiàn)有蒸鍍設(shè)備組成的蒸鍍生產(chǎn)線，相鄰的兩個(gè)蒸鍍設(shè)備中，其中一個(gè)蒸鍍設(shè)備的基板傳出腔室與另一個(gè)蒸鍍設(shè)備的基板傳入腔室之間通過傳送帶11傳送基板。該蒸鍍生產(chǎn)線的整體占地面積較大，設(shè)備成本比較高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明實(shí)施例的目的是提供一種蒸鍍設(shè)備及蒸鍍生產(chǎn)線，以減小蒸鍍生產(chǎn)線的占地面積，節(jié)約設(shè)備成本。
[0007]本發(fā)明實(shí)施例提供的蒸鍍設(shè)備，包括機(jī)械手以及位于機(jī)械手的主軸外側(cè)且呈方形環(huán)列分布的兩個(gè)蒸鍍腔室、基板傳入腔室、基板傳出腔室，以及掩模板存放腔室，其中:
[0008]兩個(gè)蒸鍍腔室分別設(shè)置于所述方形環(huán)列的第一邊側(cè)和第二邊側(cè)，每個(gè)蒸鍍腔室內(nèi)配置有兩個(gè)基板蒸鍍工位、線蒸鍍源，以及掩模板對位設(shè)備；
[0009]所述基板傳入腔室設(shè)置于所述方形環(huán)列的第三邊側(cè)，內(nèi)部配置有基板傳入工位；
[0010]所述基板傳出腔室設(shè)置于所述方形環(huán)列的第四邊側(cè)，內(nèi)部配置有基板傳出工位；
[0011]所述掩模板存放腔室與所述基板傳入腔室或所述基板傳出腔室并排設(shè)置。
[0012]優(yōu)選的，所述掩模板存放腔室為兩個(gè)，分別與所述基板傳入腔室和所述基板傳出腔室并排設(shè)置。
[0013]優(yōu)選的，所述兩個(gè)蒸鍍腔室相對設(shè)置；所述基板傳入腔室與所述基板傳出腔室相對設(shè)置；所述兩個(gè)掩模板存放腔室相對設(shè)置。
[0014]較佳的，所述機(jī)械手包括與主軸樞接的機(jī)械手臂，所述機(jī)械手臂包括順序鉸接的多節(jié)節(jié)臂以及與末節(jié)節(jié)臂鉸接的兩個(gè)末端執(zhí)行器。
[0015]較佳的，所述兩個(gè)末端執(zhí)行器分別通過一旋轉(zhuǎn)軸與機(jī)械手臂的末節(jié)節(jié)臂鉸接，且所述兩個(gè)末端執(zhí)行器在高度方向上相間隔。
[0016]優(yōu)選的，對應(yīng)所述掩模板存放腔室所設(shè)置的掩模板存放托盤。
[0017]在本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案中，蒸鍍設(shè)備的蒸鍍腔室、基板傳入腔室、基板傳出腔室，以及掩模板存放腔室在機(jī)械手的主軸外側(cè)呈方形環(huán)列分布，由多個(gè)該蒸鍍設(shè)備組成的蒸鍍生產(chǎn)線，與現(xiàn)有技術(shù)相比，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積較小，從而可以大大節(jié)約設(shè)備成本。
[0018]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種蒸鍍生產(chǎn)線，包括多個(gè)如前述任一技術(shù)方案所述的蒸鍍設(shè)備，相鄰兩個(gè)蒸鍍設(shè)備中，上游蒸鍍設(shè)備的基板傳出腔室與下游蒸鍍設(shè)備的基板傳入腔室為共用的一體結(jié)構(gòu)。
[0019]優(yōu)選的，當(dāng)針對每個(gè)蒸鍍設(shè)備，所述掩模板存放腔室為兩個(gè)，且分別與所述基板傳入腔室和所述基板傳出腔室并排設(shè)置時(shí)，相鄰兩個(gè)蒸鍍設(shè)備之間的掩模板存放腔室為共用的一體結(jié)構(gòu)。
[0020]相比現(xiàn)有技術(shù)，上述兩個(gè)方案的蒸鍍生產(chǎn)線的結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積較小，設(shè)備成本較低。
[0021]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種蒸鍍生產(chǎn)線，包括多個(gè)如前述任一技術(shù)方案所述的蒸鍍設(shè)備，相鄰兩個(gè)蒸鍍設(shè)備中，上游蒸鍍設(shè)備的基板傳出腔室與下游蒸鍍設(shè)備的基板傳入腔室之間配置有傳送帶。相比現(xiàn)有技術(shù)，該蒸鍍生產(chǎn)線的結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積較小，設(shè)備成本較低。
【附圖說明】
[0022]圖1a為現(xiàn)有一種蒸鍍設(shè)備的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖1b為現(xiàn)有一種蒸鍍生產(chǎn)線的不意圖；
[0024]圖2為本發(fā)明一實(shí)施例蒸鍍設(shè)備的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖3為本發(fā)明一實(shí)施例中機(jī)械手的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖4為本發(fā)明一實(shí)施例蒸鍍生產(chǎn)線的示意圖；
[0027]圖5為本發(fā)明另一實(shí)施例蒸鍍生產(chǎn)線的示意圖。
[0028]附圖標(biāo)記:
[0029]現(xiàn)有技術(shù)部分:
[0030]2-蒸鍍腔室；3_基板裝載腔室；4_掩模板存放腔室；21_基板蒸鍍工位；
[0031]22-線蒸鍍源；11-傳送帶。
[0032]本發(fā)明實(shí)施例部分:
[0033]100a、10b-蒸鍍腔室；101-線蒸鍍源；102a、102b_基板蒸鍍工位；
[0034]200a-基板傳入腔室；200b_基板傳出腔室；202a_基板傳入工位；
[0035]202b-基板傳出工位；300a、300b-掩模板存放腔室；
[0036]301a,301b-掩模板存放托盤；400_機(jī)械手；401_主軸；
[0037]402a,402b-末端執(zhí)行器；403a、403b_旋轉(zhuǎn)軸；31_傳送帶。
【具體實(shí)施方式】
[0038]為了減小蒸鍍生產(chǎn)線的占地面積，節(jié)約設(shè)備成本，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種蒸鍍設(shè)備及蒸鍍生產(chǎn)線。為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，以下舉實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0039]如圖2所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的蒸鍍設(shè)備，包括機(jī)械手400以及位于機(jī)械手的主軸401外側(cè)且呈方形環(huán)列分布的兩個(gè)蒸鍍腔室100a、100b、基板傳入腔室200a、基板傳出腔室200b，以及掩模板存放腔室300a、300b，其中:
[0040]兩個(gè)蒸鍍腔室100a、100b分別設(shè)置于方形環(huán)列的第一邊側(cè)和第二邊側(cè)，每個(gè)蒸鍍腔室內(nèi)配置有兩個(gè)基板蒸鍍工位102a、102b、線蒸鍍源101，以及掩模板對位設(shè)備(圖中未示出)；基板傳入腔室200a設(shè)置于方形環(huán)列的第三邊側(cè)，內(nèi)部配置有基板傳入工位202a ;基板傳出腔室200b設(shè)置于方形環(huán)列的第四邊側(cè)，內(nèi)部配置有基板傳出工位202b ;掩模板存放腔室與基板傳入腔室或基板傳出腔室并排設(shè)置(具體的，掩模板存放腔室300a與基板傳入腔室200a并排設(shè)置，掩模板存放腔室300b與基板傳出腔室200b并排設(shè)置)。
[0041 ] 在本發(fā)明實(shí)施例中，蒸鍍設(shè)備還包括對應(yīng)掩模板存放腔室所設(shè)置的掩模板存放托盤30la、30Ib。蒸鍍設(shè)備可包括一中央腔體，該中央腔體呈正方形，機(jī)械手400的主軸401位于該中央腔體的中心位置，蒸鍍腔室100a、100b、基板傳入腔室200a、基板傳出腔室200b，以及掩模板存放腔室300a、300b等分布于該中央腔體的周側(cè)，以便于機(jī)械手400進(jìn)行搬運(yùn)操作。機(jī)械手400的具體類型不限，優(yōu)選采用真空機(jī)械手。
[0042]蒸鍍腔室內(nèi)的基板蒸鍍工位102a、102b是指:線蒸鍍源101