專(zhuān)利名稱(chēng)：一種多用途柱狀真空等離子體鍍膜源的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種多用途真空等離子體鍍膜源，應(yīng)用于等離子體氣相沉積領(lǐng)域。適用于鍍氮化鈦膜、金屬膜。
目前，公知的等離子體氣相沉積技術(shù)中柱狀磁控濺射源已經(jīng)被廣范使用，它依靠輝光放電產(chǎn)生的氬離子轟擊靶陰極產(chǎn)生的濺射作用得到所需要的膜層粒子。柱狀弧源被公開(kāi)的專(zhuān)利有CN1139158A,ZL94218432.7。它是由于柱弧源產(chǎn)生的冷場(chǎng)致弧光放電得到所需的膜層粒子。其應(yīng)用特點(diǎn)均是在一臺(tái)真空鍍膜機(jī)中只安裝一種柱狀源。CN97225988.0公開(kāi)了一種多用途真空鍍膜機(jī)其特點(diǎn)是在一臺(tái)真空鍍膜機(jī)中既可以裝一個(gè)柱弧源，又可以裝一個(gè)柱狀磁控靶。根據(jù)生產(chǎn)需要更換這兩種柱狀源，進(jìn)行不同放電方式的鍍膜工藝。尚沒(méi)有一種只用一個(gè)柱狀源，僅需更換一個(gè)關(guān)鍵部件就可以根據(jù)需要進(jìn)行不同的鍍膜工藝的多用途柱狀源。
本實(shí)用新型的目的是提供一種多用途柱狀真空等離子體鍍膜源。只需更換一個(gè)磁芯便可以根據(jù)需要做為柱狀弧源使用，配上弧電源進(jìn)行多弧離子鍍膜，沉積氮化鈦等化合物涂層。也可以配上磁控濺射電源進(jìn)行磁控濺射鍍膜。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的。安裝在真空鍍膜室中央的多用途柱狀真空等離子體鍍膜源由柱狀源靶座(1)、柱狀源靶材(2)、磁芯(3)、磁芯轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(4)、進(jìn)出水管(5)、屏蔽罩(6)組成。其特點(diǎn)是除磁芯和電源以外的部件全是共用的，只是配兩個(gè)磁性能強(qiáng)弱不同的磁芯。整臺(tái)鍍膜機(jī)配兩個(gè)不同類(lèi)型的電源，做為柱弧源使用時(shí)換上弧源用磁芯，用引弧針開(kāi)啟弧電源進(jìn)行弧光放電鍍氮化鈦膜做為磁控濺射源使用時(shí)，換上磁控濺射用磁芯，開(kāi)啟磁控濺射電源進(jìn)行輝光放電，可在塑料、陶瓷等零件上鍍膜。一臺(tái)鍍膜機(jī)中只配一個(gè)柱狀源靶座，但是可以滿(mǎn)足兩種鍍膜需要。整機(jī)可以減少一套柱狀源系統(tǒng)。
本實(shí)用新型的另一個(gè)特點(diǎn)是兩種磁芯中安裝的永磁體均呈條形，而且做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。產(chǎn)生弧光放電或輝光放電后，靶面上的弧斑軌跡或輝光放電軌跡呈條形或曲線(xiàn)形。
圖是本實(shí)用新型的實(shí)施例簡(jiǎn)圖。
以下結(jié)合附圖
和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。
本實(shí)用新型的多用柱狀途真空等離子體鍍膜源安裝在鍍膜室的中央，鍍膜室中還設(shè)有工件轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)(7)、預(yù)烘烤源(8)、進(jìn)氣系統(tǒng)(9)、引弧針(10)、弧電源(11)、磁控濺射電源(12)。當(dāng)需要沉積氮化鈦膜時(shí)，在柱狀源靶管中裝入弧光放電用磁芯，用引弧針引燃弧光放電，如果靶材是鈦管，再通入氮?dú)?，在工件表面便可以得到氮化鈦膜。?dāng)需要進(jìn)行磁控濺射鍍膜時(shí)，在柱狀源的靶管中裝入磁控濺射用磁芯，啟動(dòng)磁控濺射電源使磁控靶產(chǎn)生輝光放電進(jìn)行鍍膜。
本實(shí)用新型使一臺(tái)真空鍍膜機(jī)可以簡(jiǎn)便地進(jìn)行兩種鍍膜生產(chǎn)、設(shè)備投資少磁芯更換方便，使整機(jī)成為一臺(tái)實(shí)用化程度很高的多用途鍍膜機(jī)。
權(quán)利要求1．一種多用途柱狀真空鍍膜源，由柱狀源靶座、柱狀源靶材、磁芯、磁芯轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、進(jìn)出水管、屏蔽罩組成，配兩個(gè)磁性能強(qiáng)弱不同的磁芯，兩類(lèi)不同的電源，其特征是兩種磁芯中安裝的永磁體均呈條形，而且做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，靶面上的弧斑軌跡或輝光放電軌跡呈條形或曲線(xiàn)形。
2．根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多用途柱狀真空等離子體鍍膜源，其特征是一臺(tái)鍍膜機(jī)中只安裝一個(gè)柱狀源，由柱狀源靶座、柱狀源靶材、磁芯、磁芯轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、進(jìn)出水管、屏蔽罩組成。
專(zhuān)利摘要一種多用途柱狀真空等離子體鍍膜源。它是由柱狀源靶座、柱狀源靶材、磁芯、磁芯轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、進(jìn)出水管、屏蔽罩組成。一臺(tái)鍍膜機(jī)只配一個(gè)柱狀源,配兩個(gè)磁場(chǎng)強(qiáng)弱不同的磁芯、兩種類(lèi)型的電源。根據(jù)鍍膜需要換上弧光放電用或換上磁控濺射用的磁芯便可以鍍氮化鈦或在塑料等低熔點(diǎn)基材零件上金屬膜。使安裝這種柱狀源的鍍膜機(jī)成為結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作簡(jiǎn)便的多用途真空鍍膜機(jī)。
文檔編號(hào)C23C14/35GK2312945SQ97228628
公開(kāi)日1999年4月7日 申請(qǐng)日期1997年10月6日 優(yōu)先權(quán)日1997年10月6日
發(fā)明者王福貞 申請(qǐng)人:王福貞