專利名稱：真空鍍膜機(jī)移動靶裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及真空鍍膜機(jī)移動靶裝置。
近年來，用磁控濺射技術(shù)或離子鍍膜技術(shù)的真空鍍膜設(shè)備(PVD設(shè)備)對大面積工件進(jìn)行鍍膜時，為達(dá)到鍍膜均勻，可以采取在鍍膜室內(nèi)將靶固定，而使被鍍工件移動的辦法，這樣必然要增加鍍膜室的長度，加大了設(shè)備的體積和制造成本，且生產(chǎn)效率低；也可采用多靶鍍膜室的方法(見公告號為CN2036533U的申請?zhí)枮?8216736.7的專利文獻(xiàn))。靶和被鍍工件都不移動，這樣鍍膜室的體積相對來講比較小，但由于采用多靶，而靶的同步控制難度大，制造成本也更高。
本實用新型的目的是設(shè)計結(jié)構(gòu)簡單，易于控制，鍍膜室體積相對比較小，使被鍍工件鍍膜均勻，提高生產(chǎn)效率，降低制造成本的移動靶裝置。
為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用下述技術(shù)方案真空鍍膜機(jī)移動靶裝置，其特征在于包括吊裝在移動裝置上的磁控靶，沿導(dǎo)軌移動吊裝磁控靶的移動裝置，裝在滑輪組上的柔性冷卻管和電纜，由滑輪艙內(nèi)的動滑輪和裝在移動艙室端部的定滑輪組成的滑輪組，冷卻管和電纜輸入端子，裝在移動艙室上部的驅(qū)動移動裝置的無級變速裝置。
由于采取了上述技術(shù)方案，使得真空鍍膜室相對體積減小，且移動靶裝置結(jié)構(gòu)簡單，易于控制，鍍膜均勻，尤其適用于大面積平面工件的鍍膜，并可安裝兩個或兩個以上的靶同時對多個工件進(jìn)行鍍膜，進(jìn)一步提高效率，降低成本。


圖1是真空鍍膜機(jī)移動靶裝置圖。
圖2是圖1的A－－A剖視圖。
結(jié)合附圖所示的實施例對本實用新型進(jìn)一步描述如下真空鍍膜機(jī)移動靶裝置是這樣工作的吊裝移動裝置(5)由安裝在移動艙室(11)上部的無級變速裝置(4)驅(qū)動，帶動靶(1)沿移動艙室內(nèi)的導(dǎo)軌相對于工件(3)勻速移動，同時帶動裝在滑輪組上的柔性冷卻管和電纜與靶同步移動，滑輪組由滑輪艙內(nèi)的動滑輪(9)和固定在移動艙室端部的定滑輪(7)組成。冷卻管和電纜的輸入端子固定在滑輪艙的上部。
權(quán)利要求真空鍍膜機(jī)移動靶裝置，其特征在于包括吊裝在移動裝置上的磁控靶，沿導(dǎo)軌移動吊裝磁控靶的移動裝置，裝在滑輪組上的柔性冷卻管和電纜，由滑輪艙內(nèi)的動滑輪和裝在移動艙室端部的定滑輪組成的滑輪組，裝在滑輪艙上部的冷卻管和電纜輸入端子，裝在移動艙室上部的驅(qū)動移動裝置的無級變速裝置。
專利摘要本實用新型涉及真空鍍膜機(jī)移動靶裝置，包括沿導(dǎo)軌移動吊裝磁控靶的移動裝置，柔性冷卻管和電纜，滑輪組，冷卻管和電纜輸入端子，無級變速裝置及磁控靶，具有鍍膜室比較小，移動靶裝置結(jié)構(gòu)簡單，易于控制，被鍍工件鍍膜均勻等特點，提高了生產(chǎn)效率，降低了制造成本。
文檔編號C23C14/35GK2162470SQ9321267
公開日1994年4月20日 申請日期1993年5月18日 優(yōu)先權(quán)日1993年5月18日
發(fā)明者張文華 申請人:張文華