本技術(shù)涉及化學(xué)氣相沉積設(shè)備相關(guān)，具體為一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置。

背景技術(shù)：

1、化學(xué)氣相沉積設(shè)備是一種專門用于在加熱的基底表面上沉積薄膜材料的設(shè)備，其工作原理主要基于氣相中的化學(xué)反應(yīng)來沉積固體薄膜，這種設(shè)備具有高純度、均勻性好、成本低等優(yōu)點(diǎn)，因此在多個(gè)領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用，包括復(fù)合材料制備、微電子學(xué)工藝、半導(dǎo)體光電技術(shù)、太陽能利用、光纖通信、超子導(dǎo)技術(shù)以及保護(hù)涂層制備等，在化學(xué)氣相沉積設(shè)備使用中需要用調(diào)節(jié)裝置對設(shè)備的水平位置進(jìn)行調(diào)節(jié)。

2、然而現(xiàn)有的水平位置調(diào)節(jié)裝置，在調(diào)節(jié)的過程中不便于精確的觀測到調(diào)節(jié)量的大小，工作人員不能直觀地觀測設(shè)備的水平度，實(shí)用性不佳，因此本申請?zhí)峁┝艘环N化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置來滿足需求。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，包括連接板，所述連接板的上方兩側(cè)均貫穿有固定螺栓，所述連接板的兩側(cè)均開設(shè)有卡槽，所述卡槽的內(nèi)部安裝有卡塊，所述卡塊的一側(cè)固定有支撐座，所述支撐座的上方兩側(cè)均貫穿有螺桿，所述螺桿的上方固定有轉(zhuǎn)把，所述轉(zhuǎn)把的外側(cè)設(shè)置有刻度條，所述螺桿的下方安裝有墊塊，所述墊塊的一側(cè)設(shè)置有固定桿，所述固定桿的上方固定有刻度標(biāo)，所述連接板的內(nèi)側(cè)固定有加固桿。

3、優(yōu)選的，所述支撐座通過固定螺栓與連接板螺紋連接，所述支撐座以連接板的中軸線對稱設(shè)置。

4、優(yōu)選的，所述墊塊通過螺桿與支撐座構(gòu)成升降結(jié)構(gòu)，所述墊塊與螺桿的中軸線相吻合。

5、優(yōu)選的，所述刻度標(biāo)與刻度條對應(yīng)設(shè)置，所述刻度標(biāo)與固定桿為一體成型結(jié)構(gòu)設(shè)置。

6、優(yōu)選的，所述連接板的一側(cè)安裝有電機(jī)，所述電機(jī)的一側(cè)輸出端安裝有絲桿，所述絲桿的外側(cè)套設(shè)有活動塊，所述活動塊的兩側(cè)均固定有滑套，所述滑套的上方安裝有刷塊。

7、優(yōu)選的，所述滑套的形狀與加固桿的形狀相符合，所述滑套以刷塊的中軸線對稱設(shè)置。

8、優(yōu)選的，所述刷塊通過活動塊與絲桿構(gòu)成滑動結(jié)構(gòu)，所述活動塊的內(nèi)側(cè)為螺紋狀設(shè)置。

9、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

10、1.該一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，通過螺桿、轉(zhuǎn)把、刻度條、墊塊、固定桿和刻度標(biāo)的配合使用，在使用時(shí)將化學(xué)氣相沉積設(shè)備安裝在支撐座的上方，工作人員通過轉(zhuǎn)動轉(zhuǎn)把使得墊塊進(jìn)行升降，通過觀測刻度標(biāo)在刻度條外側(cè)對應(yīng)的位置來對調(diào)整墊塊的高度，這樣工作人員能夠更加直觀地觀測到化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水平度情況，水平調(diào)節(jié)結(jié)果更加準(zhǔn)確；

11、2.該一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，通過固定螺栓、卡槽、卡塊和支撐座的設(shè)置，將卡塊卡在卡槽的內(nèi)部，之后插入固定螺栓可以把支撐座與連接板進(jìn)行連接固定，使得該裝置能夠便于拆裝，結(jié)構(gòu)靈活性較強(qiáng)；

12、3.該一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，通過加固桿、電機(jī)、絲桿、活動塊、滑套和刷塊的設(shè)置，在將化學(xué)氣相沉積設(shè)備安裝在支撐座上方后，通過打開電機(jī)的開關(guān)，驅(qū)動絲桿進(jìn)行轉(zhuǎn)動，從而帶動刷塊在化學(xué)氣相沉積設(shè)備的下方進(jìn)行滑動，刷塊能夠?qū)⒒瘜W(xué)氣相沉積設(shè)備下方表面的灰塵進(jìn)行清掃，避免在長時(shí)間使用時(shí)化學(xué)氣相沉積設(shè)備下方積灰的情況。

技術(shù)特征：

1.一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，包括連接板(1)，其特征在于：所述連接板(1)的上方兩側(cè)均貫穿有固定螺栓(2)，所述連接板(1)的兩側(cè)均開設(shè)有卡槽(3)，所述卡槽(3)的內(nèi)部安裝有卡塊(4)，所述卡塊(4)的一側(cè)固定有支撐座(5)，所述支撐座(5)的上方兩側(cè)均貫穿有螺桿(6)，所述螺桿(6)的上方固定有轉(zhuǎn)把(7)，所述轉(zhuǎn)把(7)的外側(cè)設(shè)置有刻度條(8)，所述螺桿(6)的下方安裝有墊塊(9)，所述墊塊(9)的一側(cè)設(shè)置有固定桿(10)，所述固定桿(10)的上方固定有刻度標(biāo)(11)，所述連接板(1)的內(nèi)側(cè)固定有加固桿(12)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述支撐座(5)通過固定螺栓(2)與連接板(1)螺紋連接，所述支撐座(5)以連接板(1)的中軸線對稱設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述墊塊(9)通過螺桿(6)與支撐座(5)構(gòu)成升降結(jié)構(gòu)，所述墊塊(9)與螺桿(6)的中軸線相吻合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述刻度標(biāo)(11)與刻度條(8)對應(yīng)設(shè)置，所述刻度標(biāo)(11)與固定桿(10)為一體成型結(jié)構(gòu)設(shè)置。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述連接板(1)的一側(cè)安裝有電機(jī)(13)，所述電機(jī)(13)的一側(cè)輸出端安裝有絲桿(14)，所述絲桿(14)的外側(cè)套設(shè)有活動塊(15)，所述活動塊(15)的兩側(cè)均固定有滑套(16)，所述滑套(16)的上方安裝有刷塊(17)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述滑套(16)的形狀與加固桿(12)的形狀相符合，所述滑套(16)以刷塊(17)的中軸線對稱設(shè)置。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述刷塊(17)通過活動塊(15)與絲桿(14)構(gòu)成滑動結(jié)構(gòu)，所述活動塊(15)的內(nèi)側(cè)為螺紋狀設(shè)置。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，包括連接板，所述連接板的上方兩側(cè)均貫穿有固定螺栓，所述連接板的兩側(cè)均開設(shè)有卡槽，所述卡槽的內(nèi)部安裝有卡塊，所述卡塊的一側(cè)固定有支撐座，所述支撐座的上方兩側(cè)均貫穿有螺桿，所述螺桿的上方固定有轉(zhuǎn)把，所述轉(zhuǎn)把的外側(cè)設(shè)置有刻度條；該一種化學(xué)氣相沉積設(shè)備水平調(diào)節(jié)裝置，通過螺桿、轉(zhuǎn)把、刻度條、墊塊、固定桿和刻度標(biāo)的配合使用，在使用時(shí)將化學(xué)氣相沉積設(shè)備安裝在支撐座的上方，工作人員通過轉(zhuǎn)動轉(zhuǎn)把使得墊塊進(jìn)行升降，通過觀測刻度標(biāo)在刻度條外側(cè)對應(yīng)的位置來對調(diào)整墊塊的高度，這樣工作人員能夠更加直觀地觀測到化學(xué)氣相沉積設(shè)備的水平度情況，水平調(diào)節(jié)結(jié)果更加準(zhǔn)確。

技術(shù)研發(fā)人員：梁奇,湯磊,陳波
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京芯美達(dá)科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240527
技術(shù)公布日：2025/1/9